JPH08106050A - 顕微鏡の落射照明装置 - Google Patents
顕微鏡の落射照明装置Info
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- JPH08106050A JPH08106050A JP6264644A JP26464494A JPH08106050A JP H08106050 A JPH08106050 A JP H08106050A JP 6264644 A JP6264644 A JP 6264644A JP 26464494 A JP26464494 A JP 26464494A JP H08106050 A JPH08106050 A JP H08106050A
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Abstract
(57)【要約】
【目的】 著しく反射率が高い部分を有する標本を容易
に観察することができる顕微鏡の落射照明装置。 【構成】 照明光の一部を減光するために、一部の領域
に減光部２１が形成された減光板１７を落射照明光学系
５の標本１０に対して共役の位置に配置する。
に観察することができる顕微鏡の落射照明装置。 【構成】 照明光の一部を減光するために、一部の領域
に減光部２１が形成された減光板１７を落射照明光学系
５の標本１０に対して共役の位置に配置する。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、顕微鏡の落射照明装置
に関するものである。
に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】従来の顕微鏡の落射照明装置において
は、光源の発する照明光を対物レンズを含む落射照明光
学系を透過して、できるだけ有効に標本を照射するよう
に考慮が払われていた。
は、光源の発する照明光を対物レンズを含む落射照明光
学系を透過して、できるだけ有効に標本を照射するよう
に考慮が払われていた。
【０００３】しかし、標本によっては表面の反射率が一
様でないものもある。例えば表面にパターンが形成され
たシリコンウェーハ等においては、パターンの形状によ
って極めて反射率が高い部分が存在する。部分的に反射
率が高い標本を肉眼で観察するときは眩しさを感じて観
察ができず或いは正確に行うことができない。ＣＣＤ等
の光電変換デバイスを介してモニタテレビで観察すると
きは、いわゆる飽和状態となり、観察が著しく困難であ
り、更には不可能になる場合がある。
様でないものもある。例えば表面にパターンが形成され
たシリコンウェーハ等においては、パターンの形状によ
って極めて反射率が高い部分が存在する。部分的に反射
率が高い標本を肉眼で観察するときは眩しさを感じて観
察ができず或いは正確に行うことができない。ＣＣＤ等
の光電変換デバイスを介してモニタテレビで観察すると
きは、いわゆる飽和状態となり、観察が著しく困難であ
り、更には不可能になる場合がある。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】このように、肉眼で観
察するのに眩しさを感じるときや、又はＣＣＤ等の光電
変換デバイスが飽和状態となるときは、ＮＤフィルタを
挿入する等観察視野全体の照明光量を一様に減少させる
対策が講じられてきた。しかし、このようにすると反射
率の低い部分の照明光量が不足して正確な観察が出来な
くなってしまうと言う問題があった。
察するのに眩しさを感じるときや、又はＣＣＤ等の光電
変換デバイスが飽和状態となるときは、ＮＤフィルタを
挿入する等観察視野全体の照明光量を一様に減少させる
対策が講じられてきた。しかし、このようにすると反射
率の低い部分の照明光量が不足して正確な観察が出来な
くなってしまうと言う問題があった。
【０００５】本発明は上記の課題に鑑み、著しく反射率
が高い部分を有する標本も容易に観察することのできる
顕微鏡の落射照明装置を提供することを目的とする。
が高い部分を有する標本も容易に観察することのできる
顕微鏡の落射照明装置を提供することを目的とする。
【０００６】
【課題を解決するための手段】請求項１に記載の発明
は、光源１３からの照明光を標本１０に照射するための
落射照明光学系５を具備する顕微鏡１の落射照明装置に
おいて、前記照明光の一部を減光するために、一部の領
域に減光部２１が形成された減光板１７を前記落射照明
光学系５の前記標本１０に対して共役の位置に配置する
ことを特徴とするものである。
は、光源１３からの照明光を標本１０に照射するための
落射照明光学系５を具備する顕微鏡１の落射照明装置に
おいて、前記照明光の一部を減光するために、一部の領
域に減光部２１が形成された減光板１７を前記落射照明
光学系５の前記標本１０に対して共役の位置に配置する
ことを特徴とするものである。
【０００７】請求項２に記載の発明は、光源１３からの
照明光を標本１０に照射するための落射照明光学系５を
具備する顕微鏡１の落射照明装置において、それぞれ異
なる一部の領域に減光部２１が形成された減光板１７
と、観察光学系７の結像面２４に配置され、前記標本１
０の像を電気信号に変換する光電変換手段２５と、前記
光電変換手段２５からの電気信号に基づいて輝度情報を
伴う画像を形成する画像形成手段５３と、前記画像形成
手段５３により形成された画像に基づいて、前記標本１
０の所定反射率を超える部分を検出する検出手段５３
と、前記検出手段５３の検出した前記標本１０の所定反
射率を超える部分を照射する前記照明光の光量を減ずる
のに適した領域に、前記減光部２１が形成された前記減
光板１７を選択する選択手段５１、５２、５３とを具備
すると共に、前記選択した前記減光板１７を前記落射照
明光学系５の前記標本１０に対して共役の位置に配置す
ることを特徴とするものである。
照明光を標本１０に照射するための落射照明光学系５を
具備する顕微鏡１の落射照明装置において、それぞれ異
なる一部の領域に減光部２１が形成された減光板１７
と、観察光学系７の結像面２４に配置され、前記標本１
０の像を電気信号に変換する光電変換手段２５と、前記
光電変換手段２５からの電気信号に基づいて輝度情報を
伴う画像を形成する画像形成手段５３と、前記画像形成
手段５３により形成された画像に基づいて、前記標本１
０の所定反射率を超える部分を検出する検出手段５３
と、前記検出手段５３の検出した前記標本１０の所定反
射率を超える部分を照射する前記照明光の光量を減ずる
のに適した領域に、前記減光部２１が形成された前記減
光板１７を選択する選択手段５１、５２、５３とを具備
すると共に、前記選択した前記減光板１７を前記落射照
明光学系５の前記標本１０に対して共役の位置に配置す
ることを特徴とするものである。
【０００８】請求項３に記載の発明は、光源１３からの
照明光を標本１０に照射するための落射照明光学系５を
具備する顕微鏡１の落射照明装置において、前記落射照
明光学系５の前記標本１０に対して共役の位置に配置さ
れ、一部の領域に前記照明光の一部を減光するための減
光部２１が形成された減光板１７と、前記標本１０を前
記落射照明光学系５の光軸に対して垂直に移動させる載
物台１２と、観察光学系７の結像面２４に配置され、前
記標本１０の像を電気信号に変換する光電変換手段２５
と、前記光電変換手段２５からの電気信号に基づいて輝
度情報を伴う画像を形成する画像形成手段６０と、前記
画像形成手段６０に形成された画像に基づいて、前記標
本１０の所定反射率を超える部分を検出する検出手段６
０と、前記検出手段６０の検出した前記標本１０の所定
反射率を超える部分に、前記減光部２１により減光され
た前記照明光が照射されるように前記載物台１２を移動
させる移動手段６０とを具備することを特徴とするもの
である。
照明光を標本１０に照射するための落射照明光学系５を
具備する顕微鏡１の落射照明装置において、前記落射照
明光学系５の前記標本１０に対して共役の位置に配置さ
れ、一部の領域に前記照明光の一部を減光するための減
光部２１が形成された減光板１７と、前記標本１０を前
記落射照明光学系５の光軸に対して垂直に移動させる載
物台１２と、観察光学系７の結像面２４に配置され、前
記標本１０の像を電気信号に変換する光電変換手段２５
と、前記光電変換手段２５からの電気信号に基づいて輝
度情報を伴う画像を形成する画像形成手段６０と、前記
画像形成手段６０に形成された画像に基づいて、前記標
本１０の所定反射率を超える部分を検出する検出手段６
０と、前記検出手段６０の検出した前記標本１０の所定
反射率を超える部分に、前記減光部２１により減光され
た前記照明光が照射されるように前記載物台１２を移動
させる移動手段６０とを具備することを特徴とするもの
である。
【０００９】
【作用】請求項１に記載の発明では、一部の領域に減光
部が形成された減光板が落射照明光学系の標本に対して
共役の位置に配置され、光源１３からの照明光は一部が
減光されて標本を照射する。
部が形成された減光板が落射照明光学系の標本に対して
共役の位置に配置され、光源１３からの照明光は一部が
減光されて標本を照射する。
【００１０】請求項２に記載の発明では、標本の所定反
射率を超える部分は、観察光学系の結像面に結像する標
本の像に基づいて形成された輝度情報を伴う画像に基づ
いて検出される。そして適当な減光部が形成された減光
板が選択されて落射照明光学系の標本に対して共役の位
置に配置され、標本の所定反射率を超える部分に減光部
が投影され、照明光を減光する。
射率を超える部分は、観察光学系の結像面に結像する標
本の像に基づいて形成された輝度情報を伴う画像に基づ
いて検出される。そして適当な減光部が形成された減光
板が選択されて落射照明光学系の標本に対して共役の位
置に配置され、標本の所定反射率を超える部分に減光部
が投影され、照明光を減光する。
【００１１】請求項３に記載の発明では、一部の領域に
減光部が形成された減光板が落射照明光学系の標本に対
して共役の位置に配置され、標本の所定反射率を超える
部分は、観察光学系の結像面に結像する標本の像に基づ
いて形成された輝度情報を伴う画像に基づいて検出され
る。そして標本は載物台により移動して、標本の所定反
射率を超える部分に減光部が投影され、照明光を減光す
る。
減光部が形成された減光板が落射照明光学系の標本に対
して共役の位置に配置され、標本の所定反射率を超える
部分は、観察光学系の結像面に結像する標本の像に基づ
いて形成された輝度情報を伴う画像に基づいて検出され
る。そして標本は載物台により移動して、標本の所定反
射率を超える部分に減光部が投影され、照明光を減光す
る。
【００１２】
【実施例】本発明の第１実施例を図１〜図４により説明
する。図１は本実施例の光学図を、顕微鏡の概念的側面
図と共に示したものである。顕微鏡１の架台２に植立さ
れた支柱３の上部には水平方向に延在する腕部４が設け
られている。腕部４の内部には水平方向に配置された照
明光学系５と、照明光学系５に対してハーフミラー６を
介して直交し、上下方向に配置された観察光学系７が設
けられている。対物レンズ８はレボルバ９に支持され、
標本１０は支柱３から水平に延在する支持部材１１の上
を水平に電動式に移動可能な載物台１２に載置されてい
る。
する。図１は本実施例の光学図を、顕微鏡の概念的側面
図と共に示したものである。顕微鏡１の架台２に植立さ
れた支柱３の上部には水平方向に延在する腕部４が設け
られている。腕部４の内部には水平方向に配置された照
明光学系５と、照明光学系５に対してハーフミラー６を
介して直交し、上下方向に配置された観察光学系７が設
けられている。対物レンズ８はレボルバ９に支持され、
標本１０は支柱３から水平に延在する支持部材１１の上
を水平に電動式に移動可能な載物台１２に載置されてい
る。
【００１３】照明光学系５は、光源１３からの照明光を
集光する集光レンズ１４、開口絞り１５、リレーレンズ
１６、マスク１７、視野レンズ１８及びハーフミラー６
から構成され、マスク１７は標本１０の表面の物体面と
共役の位置に配置されている。
集光する集光レンズ１４、開口絞り１５、リレーレンズ
１６、マスク１７、視野レンズ１８及びハーフミラー６
から構成され、マスク１７は標本１０の表面の物体面と
共役の位置に配置されている。
【００１４】次にマスク１７について、図２及び図３を
参照して説明する。図２はマスク１７の平面図であり、
図３は図２のＡ−Ａ矢視図である。マスク１７は角形の
透明基板１９の表面の外縁部に、酸化クロムの膜を真空
蒸着して遮光部２０を形成すると共に、その内側に透過
部２２を形成し、更に円形の透過部２２の中央部に酸化
クロムの膜を小さい円形に真空蒸着して減光部２１を形
成したものである。遮光部２０はほぼ完全に光を遮断す
る遮光性膜となっている。又遮光部２０は視野絞りの機
能を果たしている。
参照して説明する。図２はマスク１７の平面図であり、
図３は図２のＡ−Ａ矢視図である。マスク１７は角形の
透明基板１９の表面の外縁部に、酸化クロムの膜を真空
蒸着して遮光部２０を形成すると共に、その内側に透過
部２２を形成し、更に円形の透過部２２の中央部に酸化
クロムの膜を小さい円形に真空蒸着して減光部２１を形
成したものである。遮光部２０はほぼ完全に光を遮断す
る遮光性膜となっている。又遮光部２０は視野絞りの機
能を果たしている。
【００１５】一方減光部２１は透過率約１０パーセント
のニュートラルフィルタである。なお減光部２１の透過
率は、標本の状態によっては大きく又は小さくして標本
の状態に適合させてもよい。そしてこのマスク１７は光
源からの照明光の光軸に垂直に、且つ円形の透過部２２
の中心、即ち円形の減光部２１の中心は照明光の光軸と
一致するように配置されている。
のニュートラルフィルタである。なお減光部２１の透過
率は、標本の状態によっては大きく又は小さくして標本
の状態に適合させてもよい。そしてこのマスク１７は光
源からの照明光の光軸に垂直に、且つ円形の透過部２２
の中心、即ち円形の減光部２１の中心は照明光の光軸と
一致するように配置されている。
【００１６】観察光学系７は図１に示すように対物レン
ズ８、結像レンズ２３から構成されている。又、結像レ
ンズ２３の結像面２４にはＣＣＤ２５が設けられてい
る。ＣＣＤ２５により取り込まれた物体面の画像はモニ
タテレビ（不図示）において観察することができる。な
おＣＣＤ２５の替わりに接眼レンズを設け肉眼で観察す
るようにしても良い。
ズ８、結像レンズ２３から構成されている。又、結像レ
ンズ２３の結像面２４にはＣＣＤ２５が設けられてい
る。ＣＣＤ２５により取り込まれた物体面の画像はモニ
タテレビ（不図示）において観察することができる。な
おＣＣＤ２５の替わりに接眼レンズを設け肉眼で観察す
るようにしても良い。
【００１７】標本の観察に際し、光源１３からの照明光
は、集光レンズ１４、開口絞り１５、リレーレンズ１
６、マスク１７、視野レンズ１８を透過して、ハーフミ
ラー６で反射し、対物レンズ８を介して標本１０を照明
する。標本１０からの反射光は対物レンズ８を介し、ハ
ーフミラー６を透過して、ＣＣＤ２５に入射する。マス
ク１７の遮光部２０は視野絞りの機能を発揮し、視野を
限定すると共に、減光部２１は標本１０の光軸上に投影
され、その投影部分においては、照明光の強さはその周
辺部に比較して、本実施例の場合減光部２１の透過率は
約１０パーセントであるから、約１０分の１となる。
は、集光レンズ１４、開口絞り１５、リレーレンズ１
６、マスク１７、視野レンズ１８を透過して、ハーフミ
ラー６で反射し、対物レンズ８を介して標本１０を照明
する。標本１０からの反射光は対物レンズ８を介し、ハ
ーフミラー６を透過して、ＣＣＤ２５に入射する。マス
ク１７の遮光部２０は視野絞りの機能を発揮し、視野を
限定すると共に、減光部２１は標本１０の光軸上に投影
され、その投影部分においては、照明光の強さはその周
辺部に比較して、本実施例の場合減光部２１の透過率は
約１０パーセントであるから、約１０分の１となる。
【００１８】所望の観察領域内に、標本の反射率が著し
く高く、反射光が著しく強い部分が存在する場合には、
載物台１２を移動して図４に示すように、視野２６の中
央部に反射率の著しく高い部分２７ａを移動する。
く高く、反射光が著しく強い部分が存在する場合には、
載物台１２を移動して図４に示すように、視野２６の中
央部に反射率の著しく高い部分２７ａを移動する。
【００１９】反射率の著しく高い部分２７ａが視野２６
の中央部に位置決めされると、減光部２１により減光さ
れた照明光が標本１０の部分２７ａに照射される。従っ
て反射率が著しく高い部分２７ａからの反射光の強度が
低下し、その周囲の部分２７ｂと共に反射率の著しく高
い部分２７ａの観察を容易に行うことができる。なお、
上述の実施例においては載物台の移動により反射率の高
い部分を視野中央に移動しているが、マスク１７を照明
光の光軸に対して垂直方向に移動可能にして、反射率の
高い部分にマスク１７を合わせるようにしてもよい。
の中央部に位置決めされると、減光部２１により減光さ
れた照明光が標本１０の部分２７ａに照射される。従っ
て反射率が著しく高い部分２７ａからの反射光の強度が
低下し、その周囲の部分２７ｂと共に反射率の著しく高
い部分２７ａの観察を容易に行うことができる。なお、
上述の実施例においては載物台の移動により反射率の高
い部分を視野中央に移動しているが、マスク１７を照明
光の光軸に対して垂直方向に移動可能にして、反射率の
高い部分にマスク１７を合わせるようにしてもよい。
【００２０】第２の実施例を図５により説明する。上述
の第１実施例と同一又は類似の部材については同一符号
を付し、詳細説明は省略する。図５において、支持枠５
０には減光部２１の位置、形状、大きさ、透過率等にお
いて互いに異なる複数のマスク１７が支持されている。
支持枠５０はモータ５１により回転駆動され何れかのマ
スク１７が落射照明系５の光軸上に配置され、そのマス
ク１７の種類はセンサ５２により検出される。ＣＰＵ５
３はＣＣＤ２５からの光電信号に基づいて標本１０の反
射率の著しく高い部分を検出して、複数のマスク１７の
内で反射率の高い部分に減光された照明光を照射するの
に最適なものを選択すると共に、センサ５２からの情報
に基づいて支持枠５０をどれだけ回転させれば最適なマ
スク１７が光軸上に配置されるかを判断し、モータ５１
を制御する。本実施例によれば、観察画像情報に基づい
て反射率の著しく高い（反射光強度の著しく強い）部分
を検出して、複数のマスクの内で最適なものが落射照明
系に配置されるので、反射率の著しく高い部分が存在す
る標本であっても、その部分には減光された照明光が照
射され、標本の観察を正確に行うことができる。
の第１実施例と同一又は類似の部材については同一符号
を付し、詳細説明は省略する。図５において、支持枠５
０には減光部２１の位置、形状、大きさ、透過率等にお
いて互いに異なる複数のマスク１７が支持されている。
支持枠５０はモータ５１により回転駆動され何れかのマ
スク１７が落射照明系５の光軸上に配置され、そのマス
ク１７の種類はセンサ５２により検出される。ＣＰＵ５
３はＣＣＤ２５からの光電信号に基づいて標本１０の反
射率の著しく高い部分を検出して、複数のマスク１７の
内で反射率の高い部分に減光された照明光を照射するの
に最適なものを選択すると共に、センサ５２からの情報
に基づいて支持枠５０をどれだけ回転させれば最適なマ
スク１７が光軸上に配置されるかを判断し、モータ５１
を制御する。本実施例によれば、観察画像情報に基づい
て反射率の著しく高い（反射光強度の著しく強い）部分
を検出して、複数のマスクの内で最適なものが落射照明
系に配置されるので、反射率の著しく高い部分が存在す
る標本であっても、その部分には減光された照明光が照
射され、標本の観察を正確に行うことができる。
【００２１】更に第３実施例を図６により説明する。上
述した第１実施例と同一又は類似の部材には同一符号を
付し詳細説明は省略する。図６において、ＣＰＵ６０は
ＣＣＤ２５からの光電信号に基づいて標本１０の反射率
の著しく高い部分を検出し、その部分が、減光部が投影
される光軸上に位置するように載物台１２を制御する。
本実施例によれば、観察画像情報に基づいて反射率の著
しく高い（反射光強度の著しく強い）部分が検出され、
標本の反射率の著しく高い部分が観察光軸上に移動され
る。したがって、光軸上の標本には、減光された照明光
が照射されるので、反射率が著しく高い部分が存在する
標本であっても、観察を正確に行うことができる。
述した第１実施例と同一又は類似の部材には同一符号を
付し詳細説明は省略する。図６において、ＣＰＵ６０は
ＣＣＤ２５からの光電信号に基づいて標本１０の反射率
の著しく高い部分を検出し、その部分が、減光部が投影
される光軸上に位置するように載物台１２を制御する。
本実施例によれば、観察画像情報に基づいて反射率の著
しく高い（反射光強度の著しく強い）部分が検出され、
標本の反射率の著しく高い部分が観察光軸上に移動され
る。したがって、光軸上の標本には、減光された照明光
が照射されるので、反射率が著しく高い部分が存在する
標本であっても、観察を正確に行うことができる。
【００２２】
【発明の効果】請求項１に記載の発明によれば、一部の
領域に減光部が形成された減光板が落射照明光学系の標
本に対して共役の位置に配置されているので、著しく反
射率が高い部分を有する標本であっても、減光部により
減光された照明光を標本上の著しく反射率の高い部分に
照射することにより標本からの反射光の光量が著しく大
きい部分がなくなり、標本を容易かつ正確に観察でき
る。
領域に減光部が形成された減光板が落射照明光学系の標
本に対して共役の位置に配置されているので、著しく反
射率が高い部分を有する標本であっても、減光部により
減光された照明光を標本上の著しく反射率の高い部分に
照射することにより標本からの反射光の光量が著しく大
きい部分がなくなり、標本を容易かつ正確に観察でき
る。
【００２３】請求項２に記載の発明により、標本の所定
反射率を超える部分は、観察光学系の結像面に結像する
標本の像に基づいて形成された輝度情報を伴う画像に基
づいて検出される。そして適当な減光部が形成された減
光板が選択されて、その部分を照射する照明光の光量を
減ずるから、標本を容易かつ正確に観察できる。
反射率を超える部分は、観察光学系の結像面に結像する
標本の像に基づいて形成された輝度情報を伴う画像に基
づいて検出される。そして適当な減光部が形成された減
光板が選択されて、その部分を照射する照明光の光量を
減ずるから、標本を容易かつ正確に観察できる。
【００２４】請求項３に記載の発明により、一部の領域
に減光部が形成された減光板が落射照明光学系の標本に
対して共役の位置に配置され、標本の所定反射率を超え
る部分は、観察光学系の結像面に結像する標本の像に基
づいて形成された輝度情報を伴う画像に基づいて検出さ
れる。そして標本の所定反射率を超える部分に減光部が
投影されるように、標本を載物台により移動させるか
ら、標本を容易かつ正確に観察できる。
に減光部が形成された減光板が落射照明光学系の標本に
対して共役の位置に配置され、標本の所定反射率を超え
る部分は、観察光学系の結像面に結像する標本の像に基
づいて形成された輝度情報を伴う画像に基づいて検出さ
れる。そして標本の所定反射率を超える部分に減光部が
投影されるように、標本を載物台により移動させるか
ら、標本を容易かつ正確に観察できる。
【図１】本発明の第１実施例にかかる顕微鏡の光学図を
伴う概念的側面図。
伴う概念的側面図。
【図２】本発明の第１実施例にかかる減光板の平面図。
【図３】本発明の第１実施例にかかる減光板の図２のＡ
−Ａ矢視断面図。
−Ａ矢視断面図。
【図４】本発明の第１実施例にかかる標本の表面の反射
光の強度分布を示す図。
光の強度分布を示す図。
【図５】本発明の第２実施例にかかる顕微鏡の光学図を
伴う概念的側面図。
伴う概念的側面図。
【図６】本発明の第３実施例にかかる顕微鏡の光学図を
伴う概念的側面図。
伴う概念的側面図。
１・・・・顕微鏡 ５・・・・照明光学系 ７・・・・観察光学系 ８・・・・対物レンズ １０・・・・標本 １３・・・・光源 １７・・・・マスク １９・・・・透明基板 ２０・・・・遮光部 ２１・・・・減光部 ２２・・・・透過部 ２５・・・・ＣＣＤ ２６・・・・視野 ５０・・・・支持枠 ５１・・・・モータ ５２・・・・センサ５２ ５３、６０・・・・ＣＰＵ
Claims (3)
- 【請求項１】光源からの照明光を標本に照射するための
落射照明光学系を具備する顕微鏡の落射照明装置におい
て、 前記照明光の一部を減光するために、一部の領域に減光
部が形成された減光板を前記落射照明光学系の前記標本
に対して共役の位置に配置することを特徴とする顕微鏡
の落射照明装置。 - 【請求項２】光源からの照明光を標本に照射するための
落射照明光学系を具備する顕微鏡の落射照明装置におい
て、 それぞれ異なる一部の領域に減光部が形成された減光板
と、観察光学系の結像面に配置され、前記標本の像を電
気信号に変換する光電変換手段と、前記光電変換手段か
らの電気信号に基づいて輝度情報を伴う画像を形成する
画像形成手段と、前記画像形成手段により形成された画
像に基づいて、前記標本の所定反射率を超える部分を検
出する検出手段と、前記検出手段の検出した前記標本の
所定反射率を超える部分を照射する前記照明光の光量を
減ずるのに適した領域に、前記減光部が形成された前記
減光板を選択する選択手段とを具備すると共に、前記選
択した前記減光板を前記落射照明光学系の前記標本に対
して共役の位置に配置することを特徴とする顕微鏡の落
射照明装置。 - 【請求項３】光源からの照明光を標本に照射するための
落射照明光学系を具備する顕微鏡の落射照明装置におい
て、 前記落射照明光学系の前記標本に対して共役の位置に配
置され、一部の領域に前記照明光の一部を減光するため
の減光部が形成された減光板と、前記標本を前記落射照
明光学系の光軸に対して垂直に移動させる載物台と、観
察光学系の結像面に配置され、前記標本の像を電気信号
に変換する光電変換手段と、前記光電変換手段からの電
気信号に基づいて輝度情報を伴う画像を形成する画像形
成手段と、前記画像形成手段に形成された画像に基づい
て、前記標本の所定反射率を超える部分を検出する検出
手段と、前記検出手段の検出した前記標本の所定反射率
を超える部分に、前記減光部により減光された前記照明
光が照射されるように前記載物台を移動させる移動手段
とを具備することを特徴とする顕微鏡の落射照明装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP6264644A JPH08106050A (ja) | 1994-10-04 | 1994-10-04 | 顕微鏡の落射照明装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP6264644A JPH08106050A (ja) | 1994-10-04 | 1994-10-04 | 顕微鏡の落射照明装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH08106050A true JPH08106050A (ja) | 1996-04-23 |
Family
ID=17406224
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP6264644A Pending JPH08106050A (ja) | 1994-10-04 | 1994-10-04 | 顕微鏡の落射照明装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH08106050A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2014513811A (ja) * | 2011-03-01 | 2014-06-05 | ジーイー・ヘルスケア・バイオサイエンス・コーポレイション | レーザビーム放射照度制御システム |
-
1994
- 1994-10-04 JP JP6264644A patent/JPH08106050A/ja active Pending
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2014513811A (ja) * | 2011-03-01 | 2014-06-05 | ジーイー・ヘルスケア・バイオサイエンス・コーポレイション | レーザビーム放射照度制御システム |
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