JPH09166519A - 表面観察光学系 - Google Patents

表面観察光学系

Info

Publication number
JPH09166519A
JPH09166519A JP32887595A JP32887595A JPH09166519A JP H09166519 A JPH09166519 A JP H09166519A JP 32887595 A JP32887595 A JP 32887595A JP 32887595 A JP32887595 A JP 32887595A JP H09166519 A JPH09166519 A JP H09166519A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
observation
light
inspected
image
optical system
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP32887595A
Other languages
English (en)
Inventor
Naohisa Hayashi
尚久 林
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Dainippon Screen Manufacturing Co Ltd
Original Assignee
Dainippon Screen Manufacturing Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Dainippon Screen Manufacturing Co Ltd filed Critical Dainippon Screen Manufacturing Co Ltd
Priority to JP32887595A priority Critical patent/JPH09166519A/ja
Publication of JPH09166519A publication Critical patent/JPH09166519A/ja
Pending legal-status Critical Current

Links

Abstract

(57)【要約】 【目的】 被検面の非観察対象部位からの光が観察面に
入射するのを防ぎ、観察面上に形成される被検面の像の
明暗のコントラストを向上させることができる表面観察
光学系を提供する。 【構成】 絞り4を光源部と被検面1との間に設け、被
検面1の観察対象部位10a以外の部位(非観察対象部
位10b)には照明光が照射されないように照明光30
aの照射範囲を制限する。これにより、非観察対象部位
10bからの反射光は存在せず、その結果非観察対象部
位10bからの反射光が像20aへの入射するのを防
ぎ、絞り4を設けない場合に比べ像20aの明暗のコン
トラストを向上させることができる。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】この発明は、被検面であるレ
ンズやミラーなどの表面に照明光を照射し、被検面にお
いて反射した反射光を受けて観察面であるスクリーンや
イメージセンサの受光部などに被検面の像を形成し、こ
の像から被検面の微小な凹凸や傷などを検出する表面観
察光学系に関する。
【0002】
【従来の技術】古来より、魔鏡と呼ばれる鏡に太陽光な
どを入射した場合、その鏡により反射された光が壁など
に導かれ、その壁面上で明暗の模様を有する像が観察さ
れることが知られている。この明暗模様は、鏡の表面に
形成された微小な凹凸に対応したものである。
【0003】この魔鏡による現象を利用して、レンズ、
ミラー、半導体ウェハなどの表面についた微小な凹凸や
傷などを検出する方法(以下、「魔鏡法」という。)が
従来より知られている。例えば、特公昭63−1900
1号公報では、光源からの光を集光して被検面に照射す
る集光レンズと、この被検面からの反射光を集光して受
光面に被検面の像を形成する受光用レンズとを備えた魔
鏡法による表面の検査装置および検査方法が開示されて
いる。
【0004】図4は従来の表面観察光学系を示す図であ
る。この表面観察光学系では、図示されない光源部より
平行光である照明光130が一様な明るさで平面状の被
検面101上に照射され、被検面101において反射し
た反射光131は平行光のまま観察面102に入射し、
被検面101の像120を形成する。
【0005】ここで、被検面101のうち照明光が照射
された範囲(以下、「照射範囲」という。)110に微
小な凹凸や傷などが存在する場合、その微小な凹凸や傷
などで反射した光は反射光131と平行ではなくなり、
その凹凸や傷などに対応して像120に明暗が現れるこ
ととなる。したがって、像120の明暗を観察すること
により、照射範囲110における被検面101上の微小
な凹凸や傷などを検出することができる。
【0006】
【発明が解決しようとする課題】魔鏡法を用いた表面観
察光学系では、図4に示すように、被検面101と観察
面102とを光学的に非共役な関係に配置にすることに
より、被検面101上の微小な凹凸や傷などを観察面1
02上に形成された像120の明暗から検出している。
このとき、照射範囲110に、凹凸などの検査を要する
観察対象部位110aと検査の必要がない非観察対象部
位110bとが存在する場合に問題が生じる。観察対象
部位110aにおいて反射した反射光は観察面102に
観察対象部位110aの像120aを形成することか
ら、像120aの明暗を観察することにより、観察対象
部位110a上の微小な凹凸や傷などを検出することが
できる。しかし、観察対象部位110aのみならず非観
察対象部位110bにも、照明光130が入射するた
め、当該非観察対象部位110bに存在する微小な凹凸
や傷などで反射した光が観察すべき像120a上にも入
射してしまい、観察対象部位110aの像120aの明
暗のコントラストを下げ、検査の信頼性を下げるという
問題が生じる。
【0007】そこで、この発明の目的は、上記課題に鑑
みなされたもので、被検面のうち観察対象部位以外の部
位(非観察対象部位)からの光が観察面に入射するのを
防ぐことにより、観察面上に形成される被検面の像の明
暗のコントラストを上げ、検査の信頼性を向上させるこ
とができる表面観察光学系を提供することである。
【0008】
【課題を解決するための手段】上記の目的を達成するた
め、この発明に係る表面観察光学系は、観察対象である
観察対象部位を有する被検面に向けて照明光を照射する
光源部と、前記被検面において反射した反射光を受けて
前記被検面の像を形成する観察面とを備え、前記被検面
と前記観察面とを光学的に非共役な関係に配置した表面
観察光学系において、前記光源部と前記被検面との間
に、前記被検面への照明光の照射範囲を前記観察対象部
位に制限する絞りを配置している。
【0009】
【発明の実施の形態】以下、この発明の実施の形態につ
いて図面を参照しながら説明する。
【0010】図1はこの発明に係る表面観察光学系の第
1の実施形態を示す図である。この表面観察光学系は、
平面状の被検面1の観察対象部位10aにおける微小な
凹凸や傷などを検出するものであり、図示されない光源
部、光源部と被検面1との間に配置された絞り4および
被検面1からの反射光を受けて被検面1の像を形成する
観察面2を備えている。この表面観察光学系では、図示
されない光源部から平行光またはほぼ平行光である照明
光3が被検面1に向かって照射される。照明光3は絞り
4により絞られ、照明光30aとなってほぼ被検面1の
観察対象部位10aに一様に入射する。そして、被検面
1が平面であれば、観察対象部位10aにおいて反射し
た反射光31は平行光のまま観察面2に入射し像20a
を形成する。
【0011】ここで、観察対象部位10aに微小な凹凸
や傷などが存在した場合、その微小な凹凸や傷などで反
射した光は反射光31と平行ではなくなり、その結果、
凹凸などに対応して像20aに明暗が現れることとな
る。したがって、像20aの明暗を観察することによ
り、被検面1の観察対象部位10aにおける微小な凹凸
や傷などの存在を検出することができる。
【0012】また、図1に示される表面観察光学系で
は、絞り4を図示されない光源部と被検面1との間に設
けることにより、被検面1の観察対象部位10a以外の
部位、つまり非観察部位10bには照明光が照射されな
いよう照射範囲が制限されるため、非観察対象部位10
bからの反射光は存在せず、その結果、たとえ非観察対
象部位10bに微小な凹凸や傷などが存在したとして
も、像20aへの悪影響は全くない。したがって、絞り
4を設けない場合に比べ、像20aの明暗のコントラス
トを上げることができ、検査の信頼性を向上させること
ができる。
【0013】図2はこの発明に係る表面観察光学系の第
2の実施形態を示す図である。この表面観察光学系は、
凸球面状の被検面1の観察対象部位10aにおける微小
な凹凸や傷などを検出するものであり、光源部5、絞り
4、レンズ60、ハーフミラー61および観察面2を備
えている。光源部5は光源50、レンズ51およびピン
ホール板52により構成されている。光源50およびピ
ンホール板52は光学的にほぼ共役な関係に配置されて
おり、光源50から発せられた光はレンズ51により、
ピンホール板52に設けられたピンホール53の位置に
集光した後、このピンホール53から照明光3となって
被検面1側に出射される。照明光3は絞り4により絞ら
れ、レンズ60により集光された後、照明光30aとな
ってハーフミラー61を透過し、被検面1の観察対象部
位10aに入射する。観察対象部位10aおいて反射し
た反射光31はハーフミラー61においてさらに反射
し、観察面2に入射して像20aを形成する。ただし、
このとき、反射光31が平行光となるようにするため
に、レンズ60による照明光30aの集光点72が、光
軸OAと被検面1とが交わる点(鏡心)70と被検面1
の球面の中心(球心)71との中点(球面における焦
点)となるようにレンズ60を設定する。
【0014】ここで、観察対象部位10aに微小な凹凸
や傷などが存在した場合、その微小な凹凸や傷などで反
射した光は反射光31と平行ではなくなり、その結果、
凹凸などに対応して像20aに明暗が現れることとな
る。したがって、像20aの明暗を観察することによ
り、被検面1の観察対象部位10aにおける微小な凹凸
や傷などを検出することができる。
【0015】また、図2に示される表面観察光学系で
は、絞り4を光源部5とレンズ60との間に設けること
により、被検面1のうち観察対象部位10a以外の部
位、つまり非観察対象部位には照明光が照射されないよ
う照射範囲が制限されるため、非観察対象部位10bか
らの反射光は存在せず、その結果、たとえ非観察対象部
位10bに微小な凹凸や傷などが存在したとしても、像
20aへの悪影響は全くない。したがって、絞り4を設
けない場合に比べ、像20aの明暗のコントラストを上
げることができ、検査の信頼性を向上させることができ
る。
【0016】図3はこの発明に係る表面観察光学系の第
3の実施形態を示す図である。この表面観察光学系は、
凹球面状の被検面1の観察対象部位10aにおける微小
な凹凸や傷などを検出するものであり、その基本構成は
図2に示す表面観察光学系と同じである。ただし、反射
光31が平行光となるようにするために、レンズ60を
介して被検面1に照射される照明光30aを逆延長した
仮想的な集光点72が、光軸OAと被検面1とが交わる
点(鏡心)70と被検面1の球面の中心(球心)71と
の中点(球面における焦点)となるようにレンズ60を
設定する。
【0017】図3に示す表面観察光学系では、図2に示
す表面観察光学系と同様の理由により、像20aの明暗
を観察することにより、被検面1の観察対象部位10a
における微小な凹凸や傷などを検出することができる。
【0018】また、絞り4を光源部5とレンズ60との
間に設けることにより、被検面1のうち観察対象部位1
0a以外、つまり非観察対象部位10bには照明光が照
射されないよう照射範囲が制限されるため、非観察対象
部位10bからの反射光は存在せず、その結果、たとえ
非観察対象部位10bに微小な凹凸や傷などが存在した
としても、像20aへの悪影響は全くない。したがっ
て、絞り4を設けない場合に比べ、像20aの明暗のコ
ントラストを上げることができ、検査の信頼性を向上さ
せることができる。
【0019】以上、図1、図2および図3に示される実
施形態について説明したが、この発明は、上記実施形態
に限定されるものではない。例えば、図1、図2および
図3に示される実施形態において、絞り4は光源部5と
被検面1との間であればどこに設けてもよく、図2およ
び図3においては、レンズ60と被検面1との間、また
は光源部5内の光源50とピンホール板52の間に設け
るなどしてもよい。
【0020】また、図1、図2および図3に示される実
施形態において、絞り4の大きさおよび形状については
固定であってもよいし、あるいは可変であってもよい。
特に、観察面2がイメージセンサの受光部である場合、
一般に観察面2は長方形となるため、絞り4の開口形状
を長方形にすることにより、イメージセンサの受光部を
有効に利用しつつ像20aのコントラストを上げること
ができる。
【0021】さらに、図1、図2および図3に示される
実施形態では、反射光31が平行光となるようにしてい
るが、像20aの大きさが観察に適した大きさの範囲内
であれば、反射光31が集束光あるいは発散光となるよ
うな光学系に設定してもよい。
【0022】
【発明の効果】以上説明したように、請求項1記載の発
明では、光源部と被検面との間に絞りを設けて被検面へ
の照明光の照射範囲を観察対象部位に制限するので、被
検面の観察対象部位以外の部位(非観察対象部位)に照
明光を照射することがない。その結果、非観察対象部位
からの不要な光が観察面に入射するのを防ぐことができ
る。これにより、観察面上に形成される被検面の像の明
暗のコントラストを上げることができ、検査の信頼性を
向上させることができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】この発明にかかる表面観察光学系の第1の実施
形態を示す図である。
【図2】この発明にかかる表面観察光学系の第2の実施
形態を示す図である。
【図3】この発明にかかる表面観察光学系の第3の実施
形態を示す図である。
【図4】従来の表面観察光学系を示す図である。
【符号の説明】
1 被検面 2 観察面 4 絞り 5 光源部 10a 観察対象部位 10b 非観察対象部位 20a 像 30a 照明光 31 反射光

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 観察対象である観察対象部位を有する被
    検面に向けて照明光を照射する光源部と、前記被検面に
    おいて反射した反射光を受けて前記被検面の像を形成す
    る観察面とを備え、前記被検面と前記観察面とを光学的
    に非共役な関係に配置した表面観察光学系において、 前記光源部と前記被検面との間に、前記被検面への照明
    光の照射範囲を前記観察対象部位に制限する絞りを配置
    したことを特徴とする表面観察光学系。
JP32887595A 1995-12-18 1995-12-18 表面観察光学系 Pending JPH09166519A (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP32887595A JPH09166519A (ja) 1995-12-18 1995-12-18 表面観察光学系

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP32887595A JPH09166519A (ja) 1995-12-18 1995-12-18 表面観察光学系

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JPH09166519A true JPH09166519A (ja) 1997-06-24

Family

ID=18215079

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP32887595A Pending JPH09166519A (ja) 1995-12-18 1995-12-18 表面観察光学系

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JPH09166519A (ja)

Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2007121290A (ja) * 2005-10-24 2007-05-17 General Electric Co <Ge> マスク生成方法および装置
JP2008026306A (ja) * 2006-06-20 2008-02-07 Hoya Corp パターン欠陥検査方法、パターン欠陥検査装置、フォトマスク製品の製造方法、及び表示デバイス用基板の製造方法
JP2009080033A (ja) * 2007-09-26 2009-04-16 Nippon Steel Corp 表面検査方法及び表面検査装置
JP2010133967A (ja) * 1999-02-08 2010-06-17 Jfe Steel Corp 表面検査装置

Cited By (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2010133967A (ja) * 1999-02-08 2010-06-17 Jfe Steel Corp 表面検査装置
JP2011174942A (ja) * 1999-02-08 2011-09-08 Jfe Steel Corp 表面検査装置
JP2007121290A (ja) * 2005-10-24 2007-05-17 General Electric Co <Ge> マスク生成方法および装置
JP2008026306A (ja) * 2006-06-20 2008-02-07 Hoya Corp パターン欠陥検査方法、パターン欠陥検査装置、フォトマスク製品の製造方法、及び表示デバイス用基板の製造方法
KR101320183B1 (ko) * 2006-06-20 2013-10-22 호야 가부시키가이샤 패턴 결함 검사 방법, 패턴 결함 검사 장치, 포토마스크의 제조 방법, 및 표시 디바이스용 기판의 제조 방법
JP2009080033A (ja) * 2007-09-26 2009-04-16 Nippon Steel Corp 表面検査方法及び表面検査装置

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US5894345A (en) Optical method of detecting defect and apparatus used therein
KR920007196B1 (ko) 이물질 검출방법 및 그 장치
JPH0727709A (ja) 表面欠陥検査装置
JPH0875661A (ja) 欠陥検出装置
US5907396A (en) Optical detection system for detecting defects and/or particles on a substrate
JPH05100413A (ja) 異物検査装置
JPH05264468A (ja) 多層半導体基板等における内部欠陥の検出方法及び装置
JP2000046532A (ja) パターン検査装置
JPH09166519A (ja) 表面観察光学系
JPS61102505A (ja) 照明装置
JP2008046011A (ja) 表面検査装置
JP2577960B2 (ja) 鏡面体の表面検査装置
TW468151B (en) Method and device for optical detection of local deformations, especially bubbles, in an optical data carrier
JPS58120106A (ja) 半導体ウエハの外観検査装置
JP2821460B2 (ja) 透明基板の傷検査装置
JPH08304296A (ja) 異物等の欠陥検出方法およびそれを実行する装置
JPH1172443A (ja) 自動マクロ検査装置
JPH0646182B2 (ja) マスク上の異物検査装置およびその方法
JPH09189534A (ja) 表面観察光学系
JPS6313446Y2 (ja)
JPH09178452A (ja) 表面観察光学系
JP2006118935A (ja) レンズ用撮像装置
JPH09218162A (ja) 表面欠陥検査装置
JPH08167638A (ja) パターン検査装置とその方法
JP3583772B2 (ja) 表面欠陥検査装置