JPH08105554A - メタルダイヤフラム弁 - Google Patents
メタルダイヤフラム弁Info
- Publication number
- JPH08105554A JPH08105554A JP6238790A JP23879094A JPH08105554A JP H08105554 A JPH08105554 A JP H08105554A JP 6238790 A JP6238790 A JP 6238790A JP 23879094 A JP23879094 A JP 23879094A JP H08105554 A JPH08105554 A JP H08105554A
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- JP
- Japan
- Prior art keywords
- metal diaphragm
- valve
- valve seat
- cavity chamber
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- Pending
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Abstract
(57)【要約】
【目的】 従来のメタルダイヤフラム弁の部品を極力共
通化して、しかも大流量の流すことが出来るメタルダイ
ヤフラム弁を提供すること。 【構成】 本発明は、弁箱内の流入流路21と流出流路33
との間に弁座４を設け、この弁座４に対向して中央部が
負荷手段側に膨出した金属ダイヤフラム５の周縁を密封
的に挾持し、この金属ダイヤフラム５をはさんで上部の
負荷手段10側と下部のキャビティ室11側とに区画し、前
記負荷手段の印加によって金属ダイヤフラム５を弁座４
に当接させ、負荷手段の解除によって金属ダイヤフラム
５を原形状に自己復帰させて弁の開閉を行うメタルダイ
ヤフラム弁において、前記キャビティ室から下方に延び
る流出流路は略円筒状の流路を複数個集合させたもので
あることを特徴とするメタルダイヤフラム弁。
通化して、しかも大流量の流すことが出来るメタルダイ
ヤフラム弁を提供すること。 【構成】 本発明は、弁箱内の流入流路21と流出流路33
との間に弁座４を設け、この弁座４に対向して中央部が
負荷手段側に膨出した金属ダイヤフラム５の周縁を密封
的に挾持し、この金属ダイヤフラム５をはさんで上部の
負荷手段10側と下部のキャビティ室11側とに区画し、前
記負荷手段の印加によって金属ダイヤフラム５を弁座４
に当接させ、負荷手段の解除によって金属ダイヤフラム
５を原形状に自己復帰させて弁の開閉を行うメタルダイ
ヤフラム弁において、前記キャビティ室から下方に延び
る流出流路は略円筒状の流路を複数個集合させたもので
あることを特徴とするメタルダイヤフラム弁。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、半導体製造装置などに
用いられるメタルダイヤフラム弁に関するものである。
用いられるメタルダイヤフラム弁に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】従来、例えば特公平４−54104号などに
開示されたメタルダイヤフラム弁がある。図３は手動開
閉型のメタルダイヤフラム弁の全開状態を示す縦断面図
である。１は弁箱で耐食性のあるステンレス鋼材、例え
ばSUS316L材からなり、流入流路２が逆Ｌ字状に、流出
流路３がＬ字状に形成され、これらの流路は上部の開口
部で互いに連通されるようになっている。この開口部に
は弁座４があり、通常樹脂材料からなる比較的軟質のシ
ートリングがかしめ手段などにより嵌着されている。弁
座４の囲りには若干の段差をもって流出流路３につなが
るキャビティ室11が設けられている。そしてキャビティ
室11の周縁の段差面にメタルダイヤフラム５の周縁部を
載せ、その上でダイヤフラム押え輪６を載せてふた７を
弁箱１に対し螺合することにより、メタルダイヤフラム
５の周縁部を弁箱１に密封挾持し、これによって上部の
負荷手段部分とキャビティ室11を区画形成している。
開示されたメタルダイヤフラム弁がある。図３は手動開
閉型のメタルダイヤフラム弁の全開状態を示す縦断面図
である。１は弁箱で耐食性のあるステンレス鋼材、例え
ばSUS316L材からなり、流入流路２が逆Ｌ字状に、流出
流路３がＬ字状に形成され、これらの流路は上部の開口
部で互いに連通されるようになっている。この開口部に
は弁座４があり、通常樹脂材料からなる比較的軟質のシ
ートリングがかしめ手段などにより嵌着されている。弁
座４の囲りには若干の段差をもって流出流路３につなが
るキャビティ室11が設けられている。そしてキャビティ
室11の周縁の段差面にメタルダイヤフラム５の周縁部を
載せ、その上でダイヤフラム押え輪６を載せてふた７を
弁箱１に対し螺合することにより、メタルダイヤフラム
５の周縁部を弁箱１に密封挾持し、これによって上部の
負荷手段部分とキャビティ室11を区画形成している。
【０００３】メタルダイヤフラム５は、弾性変形可能な
適宜の金属材料（Ｎｉ−Ｃｏ合金やＦｅ−Ｎｉ−Ｃｏ合
金など）からなり、その中央部が上方に膨出した形状で
２〜３枚を重ねて用いる。そして中央部の下面が弁座４
と直接着座あるいは離座して弁の開閉が行われる。負荷
手段10は、ふた７の中央貫通孔の一部でねじ螺合する弁
棒（図示せず）と、この弁棒の外端部に設けられたハン
ドル９を備えている。尚、弁棒でなく空圧等の流体圧で
作動するシリンダ機構や磁力などによって昇降させる構
造のものであってもよい。
適宜の金属材料（Ｎｉ−Ｃｏ合金やＦｅ−Ｎｉ−Ｃｏ合
金など）からなり、その中央部が上方に膨出した形状で
２〜３枚を重ねて用いる。そして中央部の下面が弁座４
と直接着座あるいは離座して弁の開閉が行われる。負荷
手段10は、ふた７の中央貫通孔の一部でねじ螺合する弁
棒（図示せず）と、この弁棒の外端部に設けられたハン
ドル９を備えている。尚、弁棒でなく空圧等の流体圧で
作動するシリンダ機構や磁力などによって昇降させる構
造のものであってもよい。
【０００４】このメタルダイヤフラム弁の作動は、ハン
ドル９を回転することによって弁棒を介してスラストボ
タン８が昇降し、これに追随してメタルダヤフラム５の
中央部が弁座４に接離して弁が開閉されるようになって
いる。弁棒を下降させるとスラストボタン８の曲面状の
下面がメタルダイヤフラム５を押圧し、メタルダイヤフ
ラム５は弾性変形の範囲内で中央部が弁座４に圧接して
弁が閉状態となる。このようにメタルダイヤフラムと弁
座との間隔すなわちリフトを定めている。この後、弁棒
を上昇させるとメタルダイヤフラム５はスラストボタン
８と共に追随して上昇し、元の形状に自己の力で弾性復
帰するようになっている。このようにメタルダイヤフラ
ムを弾性変形範囲内で変形させて弁を開閉するようにし
ている。
ドル９を回転することによって弁棒を介してスラストボ
タン８が昇降し、これに追随してメタルダヤフラム５の
中央部が弁座４に接離して弁が開閉されるようになって
いる。弁棒を下降させるとスラストボタン８の曲面状の
下面がメタルダイヤフラム５を押圧し、メタルダイヤフ
ラム５は弾性変形の範囲内で中央部が弁座４に圧接して
弁が閉状態となる。このようにメタルダイヤフラムと弁
座との間隔すなわちリフトを定めている。この後、弁棒
を上昇させるとメタルダイヤフラム５はスラストボタン
８と共に追随して上昇し、元の形状に自己の力で弾性復
帰するようになっている。このようにメタルダイヤフラ
ムを弾性変形範囲内で変形させて弁を開閉するようにし
ている。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】ところで、半導体の製
造過程では多種多様のガスが使用され、これに共ないバ
ルブ類も多種多様にわたってきている。例えば装置側に
分岐する元配管に用いる弁などでは大流量のバルクガス
（Ｎ2やＡｒ）を流すことのできるメタルダイヤフラム
弁が必要とされている。流れ易さを表す数値としてＣｖ
値が使われるが、ここでは従来のメタルダイヤフラム弁
のＣｖ値よりも倍程度のものが必要とされることがあ
る。Ｃｖ値を上げるには基本的には弁座の開口径を大き
くするか、又はリフトを大きくするという手段がある。
造過程では多種多様のガスが使用され、これに共ないバ
ルブ類も多種多様にわたってきている。例えば装置側に
分岐する元配管に用いる弁などでは大流量のバルクガス
（Ｎ2やＡｒ）を流すことのできるメタルダイヤフラム
弁が必要とされている。流れ易さを表す数値としてＣｖ
値が使われるが、ここでは従来のメタルダイヤフラム弁
のＣｖ値よりも倍程度のものが必要とされることがあ
る。Ｃｖ値を上げるには基本的には弁座の開口径を大き
くするか、又はリフトを大きくするという手段がある。
【０００６】しかしながら、一方でダウンサイジングが
さけばれ配管部品の小形化が要望されている。つまり、
開口径やリフトを大きくすることはメタルダイヤフラム
弁自体の大型化に直接影響を与えるから好ましくないと
いうことが言える。また、実際製造面やコスト面のこと
を考えると新たに大Ｃｖ値のメタルダイヤフラム弁を製
作するよりも現在流通している部品を流用し共通化を局
力はかり、それでいて大きな流量を流せるメタルダイヤ
フラム弁を得ることが望ましい場合もある。
さけばれ配管部品の小形化が要望されている。つまり、
開口径やリフトを大きくすることはメタルダイヤフラム
弁自体の大型化に直接影響を与えるから好ましくないと
いうことが言える。また、実際製造面やコスト面のこと
を考えると新たに大Ｃｖ値のメタルダイヤフラム弁を製
作するよりも現在流通している部品を流用し共通化を局
力はかり、それでいて大きな流量を流せるメタルダイヤ
フラム弁を得ることが望ましい場合もある。
【０００７】以上のことより本発明は、既存のメタルダ
イヤフラム弁に対し極めて簡単な一部の追加工を行うこ
とによって、より大きなＣｖ値をもった新たなメタルダ
イヤフラム弁を提供することを目的とするものである。
イヤフラム弁に対し極めて簡単な一部の追加工を行うこ
とによって、より大きなＣｖ値をもった新たなメタルダ
イヤフラム弁を提供することを目的とするものである。
【０００８】
【課題を解決するための手段】本発明は、弁箱内の流入
流路と流出流路との間に弁座を設け、この弁座に対向し
て中央部が負荷手段側に膨出した金属ダイヤフラムの周
縁を密封的に挾持し、この金属ダイヤフラムをはさんで
上部の負荷手段側と下部のキャビティ室側とに区画し、
前記負荷手段の印加によって金属ダイヤフラムを弁座に
当接させ、負荷手段の解除によって金属ダイヤフラムを
原形状に自己復帰させて弁の開閉を行うメタルダイヤフ
ラム弁において、前記キャビティ室から下方に延びる流
出流路は略円筒状の流路を複数個集合させたメタルダイ
ヤフラム弁である。
流路と流出流路との間に弁座を設け、この弁座に対向し
て中央部が負荷手段側に膨出した金属ダイヤフラムの周
縁を密封的に挾持し、この金属ダイヤフラムをはさんで
上部の負荷手段側と下部のキャビティ室側とに区画し、
前記負荷手段の印加によって金属ダイヤフラムを弁座に
当接させ、負荷手段の解除によって金属ダイヤフラムを
原形状に自己復帰させて弁の開閉を行うメタルダイヤフ
ラム弁において、前記キャビティ室から下方に延びる流
出流路は略円筒状の流路を複数個集合させたメタルダイ
ヤフラム弁である。
【０００９】また、弁箱内の流入流路と弁箱内の流入流
路と流出流路との間に弁座を設け、この弁座に対向して
中央部が負荷手段側に膨出した金属ダイヤフラムの周縁
を密封的に挾持し、この金属ダイヤフラムをはさんで上
部の負荷手段側と下部のキャビティ室側とに区画し、前
記負荷手段の印加によって金属ダイヤフラムを弁座に当
接させ、負荷手段の解除によって金属ダイヤフラムを原
形状に自己復帰させて弁の開閉を行うメタルダイヤフラ
ム弁において、前記キャビティ室は下方に深く堀削した
中空円筒空間となし、このキャビティ室から流出流路を
連絡したメタルダイヤフラム弁である。
路と流出流路との間に弁座を設け、この弁座に対向して
中央部が負荷手段側に膨出した金属ダイヤフラムの周縁
を密封的に挾持し、この金属ダイヤフラムをはさんで上
部の負荷手段側と下部のキャビティ室側とに区画し、前
記負荷手段の印加によって金属ダイヤフラムを弁座に当
接させ、負荷手段の解除によって金属ダイヤフラムを原
形状に自己復帰させて弁の開閉を行うメタルダイヤフラ
ム弁において、前記キャビティ室は下方に深く堀削した
中空円筒空間となし、このキャビティ室から流出流路を
連絡したメタルダイヤフラム弁である。
【００１０】
【作用】従来の流出流路は１本の円筒流路が下方に延び
ていただけであったのに対し、本発明ではこのような流
路が複数個集まった、例えば図１にあるような断面楕円
形にしたものであるから流れの断面積が増えると共に流
体が流れ易くなってＣｖ値が増大した。
ていただけであったのに対し、本発明ではこのような流
路が複数個集まった、例えば図１にあるような断面楕円
形にしたものであるから流れの断面積が増えると共に流
体が流れ易くなってＣｖ値が増大した。
【００１１】また、従来略Ｌ字状の流出流路が形成され
ていたキャビティ室側に大きな容積をもったキャビティ
空間を設けた。これによって流出流路に続く流れの障壁
を取り除くと共に流出流路自体が略ストレート形状とな
り流れ易くなったので全体として流体の流れがスムーズ
となりＣｖ値が増大した。
ていたキャビティ室側に大きな容積をもったキャビティ
空間を設けた。これによって流出流路に続く流れの障壁
を取り除くと共に流出流路自体が略ストレート形状とな
り流れ易くなったので全体として流体の流れがスムーズ
となりＣｖ値が増大した。
【００１２】
【実施例】以下本発明の実施例を図面と共に説明する。
図１は第１実施例を示す弁箱の上面図で、メタルダイヤ
フラム弁としてのその他の構成部品は図３と同じである
から同一符号を付している。即ち、図３で説明したメタ
ルダイヤフラム弁の弁箱１の流入流路と流出流路の加工
が異なるだけでその他の部品は共通化されている。弁箱
12は、上から見ると図のように略正方形をしており中央
に流入流路21が立ち上る格好で開口し、その囲りに弁座
４が設けられ、さらにその囲りにキャビティ室11が形成
されている。流入流路21は、従来の流入流路２より若干
径が大きくなっているが、それ以外は弁座４もキャビテ
ィ室11も従来と同じである。そして、流出流路は、図の
ように円形断面の穴31と同じく穴32が並んで切削形成さ
れ合せて断面略楕円形の流出流路33となっている。この
流出流路33の断面は従来のものに比べて約２倍となって
いる。また、上記穴31と32は下方に延びる円筒状の流路
を構成し、継手側の流路と直交するまで延びているが、
キャビティ室のスペースや加工上の制限がない限り流路
となる穴を多く集めて流出流路の断面を大きくすること
が望ましい。上記の弁箱12の流入、流出流路を含む接ガ
ス面について電解研磨を施し面粗度を１Ｓ以下に加工
し、これを用いて組立てたメタルダイヤフラム弁のＣｖ
値を測定したところＣｖ＝2.5であった。従来の同サイ
ズのものがＣｖ＝1.2であったからＣｖ値は約２倍に増
大した。
図１は第１実施例を示す弁箱の上面図で、メタルダイヤ
フラム弁としてのその他の構成部品は図３と同じである
から同一符号を付している。即ち、図３で説明したメタ
ルダイヤフラム弁の弁箱１の流入流路と流出流路の加工
が異なるだけでその他の部品は共通化されている。弁箱
12は、上から見ると図のように略正方形をしており中央
に流入流路21が立ち上る格好で開口し、その囲りに弁座
４が設けられ、さらにその囲りにキャビティ室11が形成
されている。流入流路21は、従来の流入流路２より若干
径が大きくなっているが、それ以外は弁座４もキャビテ
ィ室11も従来と同じである。そして、流出流路は、図の
ように円形断面の穴31と同じく穴32が並んで切削形成さ
れ合せて断面略楕円形の流出流路33となっている。この
流出流路33の断面は従来のものに比べて約２倍となって
いる。また、上記穴31と32は下方に延びる円筒状の流路
を構成し、継手側の流路と直交するまで延びているが、
キャビティ室のスペースや加工上の制限がない限り流路
となる穴を多く集めて流出流路の断面を大きくすること
が望ましい。上記の弁箱12の流入、流出流路を含む接ガ
ス面について電解研磨を施し面粗度を１Ｓ以下に加工
し、これを用いて組立てたメタルダイヤフラム弁のＣｖ
値を測定したところＣｖ＝2.5であった。従来の同サイ
ズのものがＣｖ＝1.2であったからＣｖ値は約２倍に増
大した。
【００１３】次に、第２実施例を図２に示す。この実施
例も上記実施例と同様従来と同じ部品については同一符
号を付している。従って、異なるところは弁箱13で流入
流路21が若干大きくなった点と、ギャビティ室14を下方
に深く堀削して形成したところである。キャビティ室14
の深さは概ね下方に向く流路全長の１／５以上設けるこ
とが望ましい。上記と同様にこの弁箱に電解研磨を施し
た後、組立てたメタルダイヤフラム弁のＣｖ値を測定し
たところ従来のそれよりもＣｖ値の増大が認められた。
例も上記実施例と同様従来と同じ部品については同一符
号を付している。従って、異なるところは弁箱13で流入
流路21が若干大きくなった点と、ギャビティ室14を下方
に深く堀削して形成したところである。キャビティ室14
の深さは概ね下方に向く流路全長の１／５以上設けるこ
とが望ましい。上記と同様にこの弁箱に電解研磨を施し
た後、組立てたメタルダイヤフラム弁のＣｖ値を測定し
たところ従来のそれよりもＣｖ値の増大が認められた。
【００１４】本発明の他の実施例としては、上記第１と
第２の実施例を兼ねて実施したものである。即ち、キャ
ビティ室を下方に深く堀削すると共にこれにつづく流出
流路を円筒流路が集合した例えば楕円形に形成すること
が考えられる。
第２の実施例を兼ねて実施したものである。即ち、キャ
ビティ室を下方に深く堀削すると共にこれにつづく流出
流路を円筒流路が集合した例えば楕円形に形成すること
が考えられる。
【００１５】
【発明の効果】本発明によれば、従来のメタルダイヤフ
ラム弁より流体が流れ易く大流量を流すことができるメ
タルダイヤフラム弁となった。また、このためには既存
のメタルダイヤフラム弁の弁箱に若干の追加工を施すだ
けなので、弁の他の部品は共通化でき安価に提供するこ
とができる。
ラム弁より流体が流れ易く大流量を流すことができるメ
タルダイヤフラム弁となった。また、このためには既存
のメタルダイヤフラム弁の弁箱に若干の追加工を施すだ
けなので、弁の他の部品は共通化でき安価に提供するこ
とができる。
【図１】 本発明の実施例を示す弁箱の上面図である。
【図２】 本発明の他の実施例を示すメタルダイヤフラ
ム弁の部分断面図である。
ム弁の部分断面図である。
【図３】 従来のメタルダイヤフラム弁を示す部分断面
図である。
図である。
１，12，13…弁箱 ２，21…流入流路
３，33，34…流出流路 ４…弁座 ５…メタルダイヤフラム ６
…ダイヤフラム押え輪 ７…ふた ８…スラストボタン ９
…ハンドル 10…負荷手段 11，14…キャビティ室
３，33，34…流出流路 ４…弁座 ５…メタルダイヤフラム ６
…ダイヤフラム押え輪 ７…ふた ８…スラストボタン ９
…ハンドル 10…負荷手段 11，14…キャビティ室
Claims (2)
- 【請求項１】 弁箱内の流入流路と流出流路との間に弁
座を設け、この弁座に対向して中央部が負荷手段側に膨
出した金属ダイヤフラムの周縁を密封的に挾持し、この
金属ダイヤフラムをはさんで上部の負荷手段側と下部の
キャビティ室側とに区画し、前記負荷手段の印加によっ
て金属ダイヤフラムを弁座に当接させ、負荷手段の解除
によって金属ダイヤフラムを原形状に自己復帰させて弁
の開閉を行うメタルダイヤフラム弁において、前記キャ
ビティ室から下方に延びる流出流路は略円筒状の流路を
複数個集合させたものであることを特徴とするメタルダ
イヤフラム弁。 - 【請求項２】 弁箱内の流入流路と弁箱内の流入流路と
流出流路との間に弁座を設け、この弁座に対向して中央
部が負荷手段側に膨出した金属ダイヤフラムの周縁を密
封的に挾持し、この金属ダイヤフラムをはさんで上部の
負荷手段側と下部のキャビティ室側とに区画し、前記負
荷手段の印加によって金属ダイヤフラムを弁座に当接さ
せ、負荷手段の解除によって金属ダイヤフラムを原形状
に自己復帰させて弁の開閉を行うメタルダイヤフラム弁
において、前記キャビティ室は下方に深く堀削した中空
円筒空間となし、このキャビティ室から流出流路が連絡
されてなることを特徴とするメタルダイヤフラム弁。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP6238790A JPH08105554A (ja) | 1994-10-03 | 1994-10-03 | メタルダイヤフラム弁 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP6238790A JPH08105554A (ja) | 1994-10-03 | 1994-10-03 | メタルダイヤフラム弁 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH08105554A true JPH08105554A (ja) | 1996-04-23 |
Family
ID=17035326
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP6238790A Pending JPH08105554A (ja) | 1994-10-03 | 1994-10-03 | メタルダイヤフラム弁 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH08105554A (ja) |
Cited By (8)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2002147623A (ja) * | 2000-11-16 | 2002-05-22 | Fujikin Inc | メタルダイヤフラム弁 |
| JP2006300091A (ja) * | 2005-04-15 | 2006-11-02 | Ckd Corp | 流体制御弁 |
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| WO2015022865A1 (ja) * | 2013-08-12 | 2015-02-19 | 株式会社フジキン | ダイヤフラム弁 |
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| CN108692062A (zh) * | 2017-03-30 | 2018-10-23 | 株式会社开滋Sct | 金属隔膜阀 |
| CN109477587A (zh) * | 2016-08-25 | 2019-03-15 | 株式会社开滋Sct | 膜片阀和半导体制造装置用流量控制设备 |
-
1994
- 1994-10-03 JP JP6238790A patent/JPH08105554A/ja active Pending
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