JPH0798889A - 光ディスク - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【目的】 ２種以上の薄膜を組み合わせることにより、
文字等の装飾パターンを形成すると共に再生信号に影響
を与えることのない反射層を有する光ディスクを提供す
る。 【構成】 表面に凹凸状の信号を有するディスク基盤２
の表面に反射層５を形成してなる光ディスクにおいて、
上記反射層を２種以上の金属薄膜６、７により形成し、
部分的には可視光に対してはパターン状に異なる反射率
波長特性を有し、レーザ光等の信号再生光４の波長に対
しては全面に渡って反射率が略同一となるようにする。
これにより信号領域にもラベル等のパターンを形成する
ことが可能となる。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は、音楽用のＣＤ（コンパ
クトディスク）や映像、情報ファイル等の光ディスクに
関する。

【０００２】

【従来の技術】一般に、音楽用ＣＤや情報ファイル等の
光ディスクは、表面に凹凸状の信号が形成されたディス
ク基盤の信号面に反射膜を形成し、更にその上に紫外線
硬化樹脂等よりなる保護層を形成することにより製造さ
れている。再生専用或いは記録再生可能な光ディスクに
用いられるこの反射膜は、従来においてはアルミニウム
或いはアルミニウム合金を真空蒸着法或いはスパッタ法
により堆積させて薄膜化することにより形成され、特別
な場合には金、銅或いはそれらの合金も薄膜化すること
により用いられている。

【０００３】これらの金属は、光ディスクに形成された
微小な凹凸信号を読み取るためのレーザ光波長において
高い反射率を有しており、従って、信号対ノイズ比の高
い良質な光ディスク媒体を提供するために役立ってい
る。光ディスクの中で従来一般的で生産数の多い再生専
用の光ディスクの成形方法は、射出成型法等により成型
された高分子製のディスク基盤の信号形成面に、アルミ
ニウム等の反射膜を成膜し、その膜面に一般的には紫外
線硬化樹脂をスピナーにて塗布後、紫外線を照射するこ
とにより硬化させて保護膜を形成し、その後、その保護
膜上にディスクのタイトル等をスクリーン印刷法等によ
り印刷インキを用いて印刷するようになっている。

【０００４】ところで近年、信号検出面から光ディスク
を見た場合の反射面（以下、鏡面と称す）に装飾性を付
与するための試みがなされている。それは、ディスク基
盤の射出成型時に用いる金型（以下、スタンパと称す）
に装飾パターンを形成し、これをディスク基盤に転写す
ることにより装飾性を付与するものである。この装飾パ
ターンは光ディスクの製作工程の中で、特にラベル印刷
前の工程においてディスクを識別するために大きな威力
を発揮する。

【０００５】

【発明が解決しようとする課題】ところで、上記した装
飾パターンの形成領域は、信号領域上にこれを形成する
と信号の読み取りエラー等が生ずることから信号領域外
に限定されてしまう。そのために、装飾パターン用の十
分な広さのパターン領域を確保できないという問題があ
った。また、パターン領域が少ないことからディスクの
両面が信号読み取り面である光ディスクへのラベル付与
が困難になるという問題点もあった。また、上記装飾パ
ターン領域に記録できない情報は、上述のように保護層
側にインキにより印刷していたが、この場合にはインキ
印刷装置を用いた印刷工程を経ることから工程が複雑化
するのみならず、インキ印刷装置の各種トラブルによる
生産性の低下や、インキの有機溶剤による公害問題も発
生していた。

【０００６】本発明は、以上のような問題点に着目し、
これを有効に解決すべく創案されたものであり、その目
的は２種以上の薄膜を組み合わせることにより文字等の
装飾パターンを形成できると共に再生信号に影響を与え
ることのない反射層を有する光ディスクを提供すること
にある。

【０００７】

【課題を解決するための手段】第１の発明は、上記問題
点を解決するために、表面に凹凸状の信号を有するディ
スク基盤の表面に、２種以上の金属薄膜を形成し、部分
的に異なる反射率波長特性を有すると共に信号再生光の
波長に対して所定の範囲内で反射率が一致する反射層を
備えるように構成したものである。

【０００８】第２の発明は、上記問題点を解決するため
に、表面に凹凸状の信号を有するディスク基盤の表面
に、光透過性膜を含む少なくとも２種以上の薄膜を形成
し、部分的に異なる反射率波長特性を有すると共に信号
再生光の波長において所定の範囲内で反射率が一致する
反射層を備えるように構成したものである。

【０００９】

【作用】第１の発明によれば、光ディスクの信号再生光
の波長において反射率が同じ或いは許容範囲内で一致す
る２種以上の金属薄膜を文字や図柄等の所望のパターン
に積層配置することにより保護層が形成される。そし
て、可視光波長範囲における反射率の違いによって所望
のパターンを認識でき、また、信号再生光に対しては略
同一の反射率であることから読み取り信号に何ら悪影響
を与えることもない。

【００１０】すなわち、第１の発明は、光ディスクの信
号検出用レーザの波長において反射率が一致或いは許容
範囲内にある２種以上の金属薄膜を用いて、信号領域内
にも図柄の装飾パターンや光ディスクの種類を識別する
ための文字等の信号パターンを形成し、可視光波長範囲
における各金属薄膜の反射率の違いによって光ディスク
の鏡面から上記パターンを認識できるようにしたもので
ある。上記構成を図１に基づいて説明すると、図中１は
上面に微小な凹凸状の信号が形成された信号面１が形成
された円盤状のディスク基盤２であり、この信号面１上
に光ディスクの鏡面３から入射する信号再生光としての
レーザ光４を反射するための反射層５が成膜されてい
る。

【００１１】この反射層５は、上記レーザ光４の波長近
傍においては反射率が所定の範囲内で略一致すると共に
可視光の波長領域では人間の視覚において認識し得る程
度に大きく反射率の異なる例えば２種以上の金属薄膜を
選択的に積層することにより形成される。また、個々の
金属薄膜が上記特性を有していなくても、積層して重ね
合わせることにより上記した特性を有するような２種以
上の金属薄膜を用いるようにしてもよい。図示例にあっ
ては、装飾或いは文字等がパターン化された第１の金属
薄膜６を信号面１上に部分的に成膜し、この第１の金属
薄膜６を部分的に或いは全体的に被って第２の金属薄膜
７を成膜している。更に、この第２の金属薄膜７の上に
は、必要に応じて例えばラベル表示用のラベル表示膜８
が部分的に形成されている。尚、第２の金属膜７を設け
ることになく、第１の金属薄膜６上に直接、ラベル表示
膜８を成膜するようにしても良く、第１及び第２の金属
薄膜の組み合わせはレーザ光の波長領域に対する全体的
な反射率が略同一であるように設定されれば限定されな
い。そして、このような反射層５の上部に例えば紫外線
硬化樹脂よりなる保護層９が形成され、全体を完成す
る。

【００１２】光ディスクの信号検出器にとっては検出用
波長が通常７８０ｎｍ程度に限定されており、その波長
における反射率の差を上述のように小さくすることによ
り上記装飾パターンや信号パターンは信号検出器にとっ
ては認識することができず、従って光ディスクの信号再
生特性には何ら影響を与えることなく可視光領域におい
ては上記パターンを認識することが可能となる。これら
のパターンは、ディスク基盤の成膜すべき面にパターン
マスクプレートを重ねて成膜することにより形成され、
従って、反射膜成膜時に形成することができる。

【００１３】このパターンマスクプレートとしては、パ
ターンに沿ってエッチング除去された金属板やプラスチ
ック板を用いることができる。このパターンマスクプレ
ートを用いた成膜によれば、光ディスク基盤側から見た
反射率に影響を与えない反射膜面（以下、ラベル面と称
す）上に、選択的に成膜することによって光ディスクの
タイトルや必要な他の情報を更に付与することが可能と
なる。すなわち、光ディスクにとって必要な全ての情報
はディスク基盤の成型から成膜工程において付与するこ
とができ、従来行なわれていたインク印刷を不要にする
ことができる。

【００１４】ところで、上述のように光ディスクの信号
検出器に用いられるレーザ光の波長は一般的には７８０
ｎｍ付近のものが多く、可視光波長の領域では反射率の
差に起因して人間の目には異なった色として認識できた
としてもこの７８０ｎｍの波長付近における反射率が略
同等であれば、上述のように信号検出器はその差を認識
することができず、読み取り信号に悪影響を与えること
がない。例えば銅や金は、短波長帯域での反射率が低
く、アルミニウムや銀等に対しては人間の目では異なっ
た色として認識することができるが、しかしながら銅や
金は７８０ｎｍ付近の波長に対しては逆に反射率が高く
なる。

【００１５】一般的に用いられている反射膜はアルミニ
ウム合金であって波長７８０ｎｍにおけるその反射率は
８０〜９０％であり、上記銅や金の場合は９４〜９６％
にもなる。これらの反射率の差が大き過ぎると信号検出
器はパターンエッジを信号として誤って検出し、パター
ンによってはエラーレートが大き過ぎて原信号の再生が
困難になってしまう。この反射率の差は±１０％以内の
範囲、好ましくは±５％の範囲内であればよい。

【００１６】ここで、上記反射率の差を制御して小さく
する方法を図２及び図３に基づいて説明する。図２はＮ
ｉ（ニッケル）添加量を変えた場合の銅の波長７８０ｎ
ｍにおける反射率の変化を示すグラフであり、図３は金
属薄膜の膜厚に対する波長７８０ｎｍの反射率の変化を
示すグラフである。

【００１７】図２の縦軸はディスク鏡面から垂直に近い
入射角で波長７８０ｎｍのレーザ光を入射した時の反射
率を示し、横軸は金属銅に対する添加ニッケル量を体積
％で示した。これによるとニッケルの添加量を多くする
程、反射率が低下することが判明する。この現象は、金
属に共通する特性であり、金、銀、銅、アルミニウム等
は、ニッケル、パラジウム、チタン、タンタル等の金属
元素やシリコン等の半金属元素の添加により、光学的信
号検出器として一般的に用いられている波長帯（７７０
〜８３０ｎｍ）における反射率は減少する。従って、
金、銀、銅、アルミニウム等の金属元素を主成分とする
反射膜にて元素の添加量を制御することにより、上記波
長帯における反射率を一致させることが可能であり、こ
れらの反射膜（金属膜）を複数個組み合わせてパターン
を形成することができる。

【００１８】また、上記反射率は、元素の添加量のみな
らず図３に示すように膜厚によっても制御することがで
き、膜厚が薄い程、反射率は低下する。すなわち図３は
波長７８０ｎｍにおける銅の反射率の膜厚依存性を示
し、図中曲線Ａ１は銅単独の場合の反射率特性を示し、
曲線Ａ２は銅膜の後方にシリコンを１％含有したアルミ
ニウム膜を積層させた場合の反射率特性を示し、また、
一点鎖線Ｂは上記アルミニウム膜の反射率を示す。これ
によれば、上述のように膜厚を厚くする程、反射率を上
げることができる。図示例において、例えば銅の膜厚を
約３０ｎｍに設定することにより銅で形成したパターン
部とその周辺のアルミニウム膜部における反射率を略完
全に一致させることができる。このような効果は、銅に
限らず、他の一般的な金属においても同様に生ずる。

【００１９】このように構成することにより、ディスク
の信号面に読み取り信号に影響を与えることなく装飾や
文字等のパターンを形成することが可能となり、十分に
広いパターン領域を得ることができる。また、インキ印
刷を用いることなくパターンを形成することができ、イ
ンキ使用に伴う装置の不具合や有機溶剤による公害もな
くすことができる。

【００２０】次に第２の発明について説明する。上記第
１の発明においては、２種以上の金属薄膜を用いたため
に金属色しか呈すことができず、従って金属色以外の
色、例えば緑色等は呈すことができい。

【００２１】この第２の発明においては、少なくとも１
つの光透過性膜を用いて第１の発明の場合と同様に２種
以上の薄膜を積層させることにより、レーザ光の波長７
８０ｎｍ付近において反射率が高い光学干渉膜によって
広い範囲の発色が可能になる。

【００２２】この第２の発明の基本構成を図４に基づい
て説明すると、ディスク基盤２の信号面１上にパターン
化された例えばシリコンよりなる光透過性膜１０を成膜
し、その上から全面に渡って例えばアルミニウム合金よ
りなる金属薄膜１１を成膜して反射層５を形成してい
る。そして、この反射層５の上に例えば紫外線硬化樹脂
よりなる保護層９を形成し、全体を完成する。このよう
に、光透過性膜１０を形成することにより、この膜の表
面で反射したレーザ光と裏面で反射したレーザ光とが干
渉し、膜厚に依存して種々の色彩の干渉色を得ることが
できる。

【００２３】ここで反射率の差を小さくするための方法
について説明すると、上記光透過性膜１０の膜厚を適当
に選択することにより、反射率を制御することができ
る。図５は光透過性膜の膜厚を変化させた時の反射率の
変化を示すグラフであり、図中曲線Ｃ１〜Ｃ５は光透過
性膜１０の部分における反射率を示し、曲線Ｄは金属薄
膜１１の部分における反射率を示している。曲線Ｃ１〜
Ｃ５の順に、膜厚はそれぞれ１００、１２０、１４０、
１５０及び２５０ｎｍとなって次第に大きくなってお
り、膜厚を適切に選択することにより反射率を高くする
ことができる。図示例においては波長７８０ｎｍの近傍
において例えば曲線Ｃ２（１２０ｎｍ）及び曲線Ｃ３
（１４０ｎｍ）は高い反射率を示している。例えば曲線
Ｃ２で示す光透過性膜１０の膜厚１２０ｎｍの反射率は
約７９．８％を示し、曲線Ｄで示す金属薄膜１１の反射
率は約８２％である。このように光透過性膜１０の膜厚
を適当に選択することにより、信号検出器の波長７８０
ｎｍにおける反射率を略整合させることができる。

【００２４】また、反射率整合のための他の方法として
は反射率補正用の反射率整合膜を用いることもできる。
図６はその方法を説明するための図であり、光透過性膜
１０の裏面（図中上面）側に反射率整合膜１２を形成
し、信号検出器の波長における反射率がその周辺部分の
反射率と略一致するように整合させる。

【００２５】このように、反射率整合膜１２の反射率に
よって光透過性膜１０の部分における反射率をかなり広
い範囲に渡って変化させることができるので、これを被
う金属薄膜１１としてチタンやタンタルを数パーセント
含有するアルミニウム合金（反射率７５％）等を用いる
ことができ、また、反射率整合膜１２としてシリコンを
１パーセント含有するアルミニウム合金（反射率８２
％）等を用いることができる。この場合、反射率整合膜
の材料自体を選択する他、この膜厚も適宜選択すること
によっても信号検出器の波長における反射率を整合させ
ることができる。従って、反射率整合膜として反射率の
高い材料を用いれば、光透過性膜１０の膜厚を制御する
だけで複数の干渉色に対応させることが可能となる。

【００２６】上記した２つの構造にあっては、光透過性
膜１０以外の部分においては金属色となるが、この金属
色を不要とする場合には図７に示すように構成してもよ
い。すなわちディスク基盤２の信号面１上に全面に渡っ
て光透過性膜１０を均一に成膜すると共にこの上に部分
的にパターン化された同じ材質或いは異なる材質の補助
光透過性膜１０Ａを成膜する。更に、その上より全面に
渡って金属薄膜１１を成膜する。これによればディスク
全面に渡って干渉色が生じ、また、補助光透過性膜１０
Ａの部分はその干渉色が異なった色となる。これは膜厚
差の小さいパターンを形成する時に有効となる。このよ
うに以上のような方法乃至構造を適宜組み合わせること
により、多種類の色調やパターンを光ディスクの鏡面に
付与することができる。

【００２７】また、図８は金属薄膜１１を全面に設け
て、その上にラベル表示膜１３を形成した状態を示した
図であり、鏡面側に対する光学的影響は上記金属薄膜１
１により遮断されているので、このラベル表示膜１３と
しては反射率の低い金属、例えばニッケルやゲルマニウ
ム等を用いることができ、しかもこのラベル表示膜１３
は反射率を限定する必要がないので色調選択の自由度は
大きくなる。このように、ディスク全面を金属薄膜１１
を成膜することにより、その裏面をラベル面として使用
することができる。

【００２８】尚、光透過性膜１０の材料としては、シリ
コンの外に、シリコンを主成分とする材料、或いはシリ
コンの酸化物、窒化物等も用いることができる。この場
合、使用材料を適宜選択することにより使用材料数を少
なくすることができ、生産性を向上させることができ
る。上述のように光透過性膜１０を用いることによって
干渉色を発色させるようにしたので、第１の発明の有す
る効果の外に、従来のインキ印刷を用いた場合に比較し
て、極めて鮮やかな色調を得ることができ、鮮明な図柄
パターンを観賞する楽しみを付与することができる。

【００２９】また、干渉色を用いるようにしたので、音
楽用或いはゲーム用等の仕様毎に色分けができ、製造段
階或いは使用段階において識別が容易となり、混入ミス
等をなくすことができる。この効果は、特にディスクが
積み重ねられている場合に有効となる。更には、信号検
出器の波長以外における、反射率差の大きい波長におい
て光ディスクの識別パターンを付与することにより、例
えば自動検査等を容易に行なえることができる。

【００３０】尚、光透過性膜１０及び金属薄膜１１の積
層方法は上記したものに限定されず、特定波長における
反射率を略同一に維持している範囲で干渉色を発色し得
るならば、どのような積層構造としてもよい。

【００３１】

【実施例】以下に、本発明に係る光ディスクの一例につ
いて詳述する。まず、第１の発明の実施例について説明
する。

【００３２】＜第１の発明の実施例１＞図１に示すよう
にポリカーボネート樹脂よりなるディスク基盤２の信号
面１側に、この面に近接して配置された金属マスクを介
してパターンに沿って選択的に真空蒸着法により１００
ｎｍの厚さの第１の金属薄膜６を形成した。この第１の
金属薄膜６は、銅に体積比で約５％のニッケルを含有し
た銅合金である。その後、体積比で１％のシリコンを含
有するアルミニウムを信号面側全面に真空蒸着法により
１００ｎｍの厚さで成膜し、第２の金属薄膜７を形成
し、反射層５を構成した。続いて、ディスクのタイトル
や図柄のパターンを有する金属マスクを介してニッケル
を真空蒸着法により１００ｎｍの厚さに成膜し、ラベル
表示膜８を形成した。その後、スピンコート法により保
護層５を形成し、インキ印刷層のない光ディスクを得
た。

【００３３】このような光ディスクにおいて、凹凸信号
のない部分である鏡面側から信号検出器の波長に対する
反射率を測定したところ、反射率は第１の金属薄膜６の
部分及び第２の金属薄膜７の部分のいずれも約８２％で
あり、良好な値であった。また、この光ディスクの再生
時の信号特性も、ディスク基盤の全面が単一の第２の金
属薄膜７により被われた従来の光ディスクの再生信号の
特性と同等であり、原信号を忠実に再現することができ
た。また、第１及び第２の金属薄膜６、７間において異
なる金属色でパターンを認識することができた。

【００３４】＜第１の発明の実施例２＞上記実施例１の
場合と同様のポリカーボネート製のディスク基盤２の信
号面１に、これに近接して配置した金属マスクを介して
銅を選択的に真空蒸着法により３０ｎｍの厚さに成膜し
て、第１の金属薄膜６を形成した。その後、体積比が１
％のシリコンを含有するアルミニウム合金をディスク全
面に真空蒸着法により１００ｎｍの厚さに成膜し、第２
の金属薄膜７を成膜して、反射層５を形成した。続い
て、タイトルや図柄のパターンを有する金属マスクを介
してニッケルを真空蒸着法により１００ｎｍの厚さに成
膜し、ラベル表示膜８を形成した。その後、スピンコー
ト法により保護層９を形成し、インキ印刷層のない光デ
ィスクを得た。

【００３５】この光ディスクの反射率を実施例１と同様
に測定したところ、反射率は第１の金属薄膜６の部分及
び第２の金属薄膜７の部分のいずれも約８２％であっ
た。また、この光ディスクの再生時の信号特性も、ディ
スク基盤の全面が第２の金属薄膜７により被われた従来
の光ディスクの再生信号の特性と同等であり、実施例１
と同様に良好な結果を得ることができた。また、第１及
び第２の金属薄膜６、７間において異なる金属色でパタ
ーンを認識することができた。

【００３６】次に第２の発明の実施例について説明す
る。 ＜第２の発明の実施例１＞まず、射出成型法によって得
られたポリカーボネート製のディスク基盤の信号面に、
２ターゲットの通過型スパッタ装置を用いて、第１層目
に光透過性膜としてシリコン膜を形成し、第２層目に金
属薄膜としてアルミニウム合金を積層して反射層を形成
した。この場合、第１層目の成膜時に投入電力を変化さ
せることによりこの膜厚が異なったものを複数個、製造
した。この時のシリコン膜厚と発色及び７８０ｎｍにお
ける反射率を表１に示す。

【００３７】

【表１】

【００３８】表１に示すようにシリコン膜厚を変化させ
ることにより干渉色である発色として種々の色を得るこ
とがで、波長７８０ｎｍにおける反射率も良好な値を示
している。一般的には、波長７８０ｎｍでの反射率が７
０％以上ならば光透過性膜として使用できるが、表１に
現したシリコン膜厚の外に、例えば膜厚が１００、１５
０及び２５０ｎｍの場合、反射率は７０％以上となり、
使用することができる。各光ディスクの信号を再生した
ところ、この信号特性は、第１層を全面的にアルミニウ
ム合金により成膜した従来の光ディスクの信号特性と同
等であった。

【００３９】＜第２の発明の実施例２＞まず、射出成型
法によって得られたポリカーボネート製のディスク基盤
の信号面に、２つのスパッタ室を有する連続スパッタ装
置を用いて第１層目は所定のパターンを有する金属マス
クを介してアルミニウム合金を３０ｎｍの厚さで成膜
し、第２層目に光透過性膜としてシリコン膜を全面に１
５０ｎｍの厚さで形成した。続いて第３層目に金属薄膜
としてアルミニウム合金を全面に１００ｎｍの厚さで成
膜して積層した。得られた光ディスクを再生した結果、
その信号特性は第１層目全面がアルミニウム合金で成膜
した従来の光ディスクの信号特性と同等であり、良好な
結果を得た。また、光ディスクの鏡面は緑色を背景色と
して銀色のパターンが付与されており、美しい干渉色を
得ることができた。

【００４０】＜第２の発明の実施例３＞まず、射出成型
法によって得られたポリカーボネート製のディスク基盤
の信号面全面に、シリコンを１１０ｎｍの厚さで真空蒸
着することにより光透過性膜を形成した。次に、ディス
ク基盤に近接して配置された所定のパターンを有する金
属マスクを介してシリコンを３５ｎｍの厚さで成膜し
た。続いてディスク基盤とマスクとの相対位置を変えず
に、蒸発源を１％のシリコンを含有するアルミニウム合
金として７０ｎｍの厚さの成膜を行なった。次に、マス
クを外して３％のチタンを含有するアルミニウム合金を
全面に１００ｎｍの厚さで真空蒸着により成膜して金属
薄膜を形成し、反射層を得た。

【００４１】得られた光ディスクを再生した場合の信号
特性は、第１層目全体をアルミニウム合金で成膜した従
来の光ディスクの信号特性と同等であり、良好であっ
た。また、光ディスクは、黄色を背景色とした緑色パタ
ーンとなり美しい干渉色を得ることができた。また、７
８０ｎｍの波長に対する反射率は黄色部分及び緑色部分
において共に７６％であった。

【００４２】

【発明の効果】以上説明したように、本発明の光ディス
クによれば、次のように優れた作用効果を発揮すること
ができる。第１の発明によれば、２種以上の金属薄膜を
組み合わせることにより再生信号特性に悪影響を与える
ことなく信号面に対応する部分にもパターンを形成する
ことができるので、十分な広さのパターン領域を得るこ
とができる。従って、張合わせ型のディスクにあっても
十分大きなラベル表示用のスペースを確保することがで
きる。また、従来必要としていたインキ印刷を不要にす
ることができるので、インキ印刷に伴う工程の複雑さ、
装置の故障、インキの有機溶剤による公害等の諸問題を
なくすことができる。更には、従来印画面としていた面
を平坦にできるので、この面に磁気的な記録層を形成し
たり、ホトポリマリゼーション法を用いて新たな信号面
を形成することができる。また、第２の発明によれば、
光透過性膜を含む２種以上の薄膜を組み合わせて干渉色
を発色させるようにしたので、上記した第１の発明に伴
う効果の外、金属色以外の多種類の発色を得ることがで
き、しかも鮮明な図柄パターンを観賞することができ
る。

【図面の簡単な説明】

【図１】第１の発明に係る光ディスクの一例を示す断面
図である。

【図２】Ｎｉ添加量を変えた場合の銅の波長７８０ｎｍ
における反射率の変化を示すグラフである。

【図３】金属薄膜の膜厚に対する波長７８０ｎｍの反射
率の変化を示すグラフである。

【図４】第２の発明に係る光ディスクの一例を示す部分
断面図である。

【図５】光透過性膜の膜厚を変化させた時の反射率の変
化を示すグラフである。

【図６】反射率整合膜を用いた光ディスクの一例を示す
部分断面図である。

【図７】光透過性膜の膜厚を部分的に変化させた光ディ
スクの一例を示す部分断面図である。

【図８】ラベル表示膜を形成した光ディスクの一例を示
す部分断面図である。

【符号の説明】

１…信号面、２…ディスク基盤、３…光ディスクの鏡
面、４…レーザ光（信号再生光）、５…反射層、６…第
１の金属薄膜、７…第２の金属薄膜、８，１３…ラベル
表示膜、９…保護層、１０…光透過性膜（薄膜）、１０
Ａ…補助光透過性膜、１１…金属薄膜（薄膜）、１２…
反射率整合膜。

Claims (2)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 表面に凹凸状の信号を有するディスク基
   盤の表面に、２種以上の金属薄膜を形成し、部分的に異
   なる反射率波長特性を有すると共に信号再生光の波長に
   対して所定の範囲内で反射率が一致する反射層を備える
   ように構成したことを特徴とする光ディスク。
2. 【請求項２】 表面に凹凸状の信号を有するディスク基
   盤の表面に、光透過性膜を含む少なくとも２種以上の薄
   膜を形成し、部分的に異なる反射率波長特性を有すると
   共に信号再生光の波長において所定の範囲内で反射率が
   一致する反射層を備えるように構成したことを特徴とす
   る光ディスク。