JPH07182703A - 光ディスクの製造方法 - Google Patents
光ディスクの製造方法Info
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- JPH07182703A JPH07182703A JP32834793A JP32834793A JPH07182703A JP H07182703 A JPH07182703 A JP H07182703A JP 32834793 A JP32834793 A JP 32834793A JP 32834793 A JP32834793 A JP 32834793A JP H07182703 A JPH07182703 A JP H07182703A
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Abstract
(57)【要約】
【目的】 基板上に形成された反射膜上に保護膜を形成
し、上記保護膜上にレーベル等の印刷を行う光ディスク
の製造方法において、印刷工程を短縮して製造工程を短
縮し、使用するインキの種類を減少させて製造コストを
低減し、生産性を向上させる。 【構成】 基板上に形成された反射膜上に保護膜を形成
し、この上に印刷を行う場合において、例えばオフセッ
ト印刷により印刷を行う時には、ＳＴ１（ＳＴＥＰ１）
として着色保護膜を形成する工程（着色保護膜形成工
程）の後、ＳＴ２としてオフセット印刷工程を実施し、
スクリーン印刷により印刷を行う場合には、ＳＴ１とし
て着色保護膜形成工程の後、ＳＴ２としてスクリーン印
刷工程を実施する。
し、上記保護膜上にレーベル等の印刷を行う光ディスク
の製造方法において、印刷工程を短縮して製造工程を短
縮し、使用するインキの種類を減少させて製造コストを
低減し、生産性を向上させる。 【構成】 基板上に形成された反射膜上に保護膜を形成
し、この上に印刷を行う場合において、例えばオフセッ
ト印刷により印刷を行う時には、ＳＴ１（ＳＴＥＰ１）
として着色保護膜を形成する工程（着色保護膜形成工
程）の後、ＳＴ２としてオフセット印刷工程を実施し、
スクリーン印刷により印刷を行う場合には、ＳＴ１とし
て着色保護膜形成工程の後、ＳＴ２としてスクリーン印
刷工程を実施する。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、レーザー光等の光によ
り情報の再生が行われる光ディスクの製造方法に関する
ものである。
り情報の再生が行われる光ディスクの製造方法に関する
ものである。
【０００２】
【従来の技術】近年、情報記録の分野においては光学情
報記録方式に関する研究が各所で進められている。この
光学情報記録方式は、非接触で記録・再生が行えるこ
と、磁気記録方式に比べて一桁以上も高い記録密度が達
成できること、再生専用型，追記型，書換可能型のそれ
ぞれのメモリー形態に対応できる等の数々の利点を有
し、安価な大容量ファイルの実現を可能とする方式とし
て産業用から民生用まで幅広い用途の考えられているも
のである。
報記録方式に関する研究が各所で進められている。この
光学情報記録方式は、非接触で記録・再生が行えるこ
と、磁気記録方式に比べて一桁以上も高い記録密度が達
成できること、再生専用型，追記型，書換可能型のそれ
ぞれのメモリー形態に対応できる等の数々の利点を有
し、安価な大容量ファイルの実現を可能とする方式とし
て産業用から民生用まで幅広い用途の考えられているも
のである。
【０００３】その中でも特に、再生専用型のメモリー形
態に対応した光ディスクであるデジタルオーディオディ
スクや光学式ビデオディスク等は広く普及している。
態に対応した光ディスクであるデジタルオーディオディ
スクや光学式ビデオディスク等は広く普及している。
【０００４】上記デジタルオーディオディスク等の光デ
ィスクは、情報信号を示すピットやグルーブ等の凹凸パ
ターンが形成された透明基板上にアルミニウム膜等の金
属薄膜よりなる反射膜が形成され、さらにこの反射膜を
大気中の水分，Ｏ2 から保護するための保護膜が上記反
射膜上に形成された構成とされる。なお、このような光
ディスクの情報を再生する際には透明基板側より上記凹
凸パターンにレーザ光等の再生光を照射し、その入射光
と戻り光の反射率の差によって情報を検出する。
ィスクは、情報信号を示すピットやグルーブ等の凹凸パ
ターンが形成された透明基板上にアルミニウム膜等の金
属薄膜よりなる反射膜が形成され、さらにこの反射膜を
大気中の水分，Ｏ2 から保護するための保護膜が上記反
射膜上に形成された構成とされる。なお、このような光
ディスクの情報を再生する際には透明基板側より上記凹
凸パターンにレーザ光等の再生光を照射し、その入射光
と戻り光の反射率の差によって情報を検出する。
【０００５】そして、このような光ディスクを製造する
には、先ず一主面に情報信号を示す凹凸パターンの形成
された基板上に例えばアルミニウム等よりなる反射膜を
スパッタリング或いは真空蒸着等の真空薄膜形成方法に
より形成する。次に、上記反射膜上に、例えば紫外線硬
化樹脂等の高分子材料をスピンコート法或いはロールコ
ート法等により全面に亘り均一に塗布した後、これを硬
化せしめて保護膜を形成する。
には、先ず一主面に情報信号を示す凹凸パターンの形成
された基板上に例えばアルミニウム等よりなる反射膜を
スパッタリング或いは真空蒸着等の真空薄膜形成方法に
より形成する。次に、上記反射膜上に、例えば紫外線硬
化樹脂等の高分子材料をスピンコート法或いはロールコ
ート法等により全面に亘り均一に塗布した後、これを硬
化せしめて保護膜を形成する。
【０００６】
【発明が解決しようとする課題】ところで、上記デジタ
ルオーディオディスク等の光ディスクにおいては、使用
者がそのディスクの記録内容を識別できるように、或い
は商品価値を高めるためのレーベル等を保護膜上にスク
リーン印刷或いはオフセット印刷等の手法によって印刷
するようにしている。
ルオーディオディスク等の光ディスクにおいては、使用
者がそのディスクの記録内容を識別できるように、或い
は商品価値を高めるためのレーベル等を保護膜上にスク
リーン印刷或いはオフセット印刷等の手法によって印刷
するようにしている。
【０００７】上記レーベル等は、使用者に内容を識別さ
せるという機能の他、そのデザインにより光ディスクの
商品価値としてのイメージを大きく左右する効果を有
し、商品の売上を大きく左右するものである。
せるという機能の他、そのデザインにより光ディスクの
商品価値としてのイメージを大きく左右する効果を有
し、商品の売上を大きく左右するものである。
【０００８】かかる機能を有するレーベル等を印刷する
には、これまでは次のような工程がとられている。例え
ば、オフセット印刷により印刷を行う場合には、図５に
示すように、ＳＴ´１（ＳＴＥＰ´１）として保護膜を
形成する工程（保護膜形成工程）の後、ＳＴ´２として
白色インキをベタ刷りする工程（白ベタ印刷工程）を実
施し、ＳＴ´３としてオフセット印刷工程（４色印刷作
業）を実施する。また、スクリーン印刷により印刷を行
う場合には、図５に示すように、ＳＴ´１（ＳＴＥＰ´
１）として保護膜形成工程の後、ＳＴ´４としてスクリ
ーン印刷工程を実施する。
には、これまでは次のような工程がとられている。例え
ば、オフセット印刷により印刷を行う場合には、図５に
示すように、ＳＴ´１（ＳＴＥＰ´１）として保護膜を
形成する工程（保護膜形成工程）の後、ＳＴ´２として
白色インキをベタ刷りする工程（白ベタ印刷工程）を実
施し、ＳＴ´３としてオフセット印刷工程（４色印刷作
業）を実施する。また、スクリーン印刷により印刷を行
う場合には、図５に示すように、ＳＴ´１（ＳＴＥＰ´
１）として保護膜形成工程の後、ＳＴ´４としてスクリ
ーン印刷工程を実施する。
【０００９】このとき、前述のように保護膜は紫外線硬
化樹脂等の透明な材料よりなる。そのため、保護膜上に
印刷されるレーベル等の色調が反射膜によって影響され
ないように、上記のようにオフセット印刷により印刷す
る場合には保護膜上に下地膜を形成すべく白ベタ印刷を
行うようにし、スクリーン印刷により印刷する場合には
特殊インキを使用するようにしている。
化樹脂等の透明な材料よりなる。そのため、保護膜上に
印刷されるレーベル等の色調が反射膜によって影響され
ないように、上記のようにオフセット印刷により印刷す
る場合には保護膜上に下地膜を形成すべく白ベタ印刷を
行うようにし、スクリーン印刷により印刷する場合には
特殊インキを使用するようにしている。
【００１０】ところが、白ベタ印刷工程は煩雑な工程で
あり、また特殊インキはコストがかかり、光ディスクの
生産性を低下させるものである。
あり、また特殊インキはコストがかかり、光ディスクの
生産性を低下させるものである。
【００１１】そこで本発明は、従来の実情に鑑みて提案
されたものであり、印刷工程を短縮して製造工程を短縮
し、使用するインキの種類を減少させて製造コストを低
減し、生産性を向上させることの可能な光ディスクの製
造方法を提供することを目的とする。
されたものであり、印刷工程を短縮して製造工程を短縮
し、使用するインキの種類を減少させて製造コストを低
減し、生産性を向上させることの可能な光ディスクの製
造方法を提供することを目的とする。
【００１２】
【課題を解決するための手段】上述の目的を達成するた
めに本発明の光ディスクの製造方法は、基板上に形成さ
れた反射膜上に顔料を含有する高分子材料を成膜して保
護膜を形成する工程と、上記保護膜上に印刷を行う工程
を有することを特徴とするものである。
めに本発明の光ディスクの製造方法は、基板上に形成さ
れた反射膜上に顔料を含有する高分子材料を成膜して保
護膜を形成する工程と、上記保護膜上に印刷を行う工程
を有することを特徴とするものである。
【００１３】上記保護膜を形成する高分子材料として
は、例えば紫外線硬化型樹脂やホットメルト樹脂，溶剤
乾燥硬化型樹脂或いはこれらの複合型樹脂等が挙げら
れ、顔料としては、ＴｉＯ2 ，ＣａＣＯ3 ，Ａｌ2 Ｏ
3 ，ＳｉＯ2 等が挙げられ、上記顔料の高分子材料中の
含有量は０．５〜２０％程度とすることが好ましい。
は、例えば紫外線硬化型樹脂やホットメルト樹脂，溶剤
乾燥硬化型樹脂或いはこれらの複合型樹脂等が挙げら
れ、顔料としては、ＴｉＯ2 ，ＣａＣＯ3 ，Ａｌ2 Ｏ
3 ，ＳｉＯ2 等が挙げられ、上記顔料の高分子材料中の
含有量は０．５〜２０％程度とすることが好ましい。
【００１４】そして、上記高分子材料を成膜して保護膜
を形成する方法としては、スピンコート法，ロールコー
ト法等といったこの種の光ディスクの製造に通常用いら
れる方法が挙げられる。
を形成する方法としては、スピンコート法，ロールコー
ト法等といったこの種の光ディスクの製造に通常用いら
れる方法が挙げられる。
【００１５】さらに、保護膜上に印刷を行う方法として
は、スクリーン印刷，オフセット印刷，タンポ印刷とい
ったこの種の光ディスクの印刷に通常用いられる方法が
使用される。
は、スクリーン印刷，オフセット印刷，タンポ印刷とい
ったこの種の光ディスクの印刷に通常用いられる方法が
使用される。
【００１６】
【作用】本発明の光ディスクの製造方法により製造され
る光ディスクにおいては、顔料を含有する高分子材料を
成膜して保護膜を形成していることから、該保護膜は予
め着色がなされているものとなり、このような保護膜上
にレーベル等の印刷を行った場合、上記レーベル等の色
調は反射膜の影響を受けない。従って、本発明の光ディ
スクの製造方法においては、下地膜を形成する必要がな
くなり、製造工程が短縮され、また特殊インキを使用す
る必要がなくなることから製造コストが低減される。
る光ディスクにおいては、顔料を含有する高分子材料を
成膜して保護膜を形成していることから、該保護膜は予
め着色がなされているものとなり、このような保護膜上
にレーベル等の印刷を行った場合、上記レーベル等の色
調は反射膜の影響を受けない。従って、本発明の光ディ
スクの製造方法においては、下地膜を形成する必要がな
くなり、製造工程が短縮され、また特殊インキを使用す
る必要がなくなることから製造コストが低減される。
【００１７】
【実施例】以下、本発明の具体的な実施例について図面
を参照しながら詳細に説明する。本実施例の光ディスク
の製造方法においては、先ず図１に示すように、情報を
示すピットやグルーブ等の凹凸部を有する基板１の一主
面１ａ上にアルミニウム膜，金膜，ステンレス膜，誘電
体膜等の金属膜よりなる反射膜２を形成する。
を参照しながら詳細に説明する。本実施例の光ディスク
の製造方法においては、先ず図１に示すように、情報を
示すピットやグルーブ等の凹凸部を有する基板１の一主
面１ａ上にアルミニウム膜，金膜，ステンレス膜，誘電
体膜等の金属膜よりなる反射膜２を形成する。
【００１８】上記基板１は、この種の光ディスクの基板
を構成する材料として通常用いられているもので構成す
れば良く、例えばポリカーボネート系樹脂，ポリメチル
メタクリレート系樹脂或いはアモルファスポリオレフィ
ン系樹脂等の高分子材料やガラス板等よりなるものが挙
げられる。なお、基板１の作製方法としては、この種の
光ディスクの製造に通常使用される射出成型法や２Ｐ
法，エンボス法等が挙げられる。
を構成する材料として通常用いられているもので構成す
れば良く、例えばポリカーボネート系樹脂，ポリメチル
メタクリレート系樹脂或いはアモルファスポリオレフィ
ン系樹脂等の高分子材料やガラス板等よりなるものが挙
げられる。なお、基板１の作製方法としては、この種の
光ディスクの製造に通常使用される射出成型法や２Ｐ
法，エンボス法等が挙げられる。
【００１９】一方、上記反射膜２は、アルミニウム等の
金属膜をこの種の光ディスクの製造に通常使用される蒸
着，スパッタリング法，ＣＶＤ法等の真空薄膜形成方法
により成膜して形成すれば良い。
金属膜をこの種の光ディスクの製造に通常使用される蒸
着，スパッタリング法，ＣＶＤ法等の真空薄膜形成方法
により成膜して形成すれば良い。
【００２０】そして、図２に示すように、反射膜２上に
レーベル等の印刷のための下地膜としても機能する保護
膜３を形成する。このとき、本実施例の光ディスクの製
造方法においては、上記保護膜３は、ＴｉＯ2 ，ＳｉＯ
2 ，Ａｌ2 Ｏ3 ，ＣａＣＯ3等の顔料を含有する紫外線
硬化樹脂等の高分子材料等により構成し、また上記高分
子材料をスピンコート法，ロールコート法等のこの種の
光ディスクの製造に通常使用される方法により塗布して
形成すれば良い。すなわち、反射膜２上に、着色された
保護膜３が形成されることとなる。
レーベル等の印刷のための下地膜としても機能する保護
膜３を形成する。このとき、本実施例の光ディスクの製
造方法においては、上記保護膜３は、ＴｉＯ2 ，ＳｉＯ
2 ，Ａｌ2 Ｏ3 ，ＣａＣＯ3等の顔料を含有する紫外線
硬化樹脂等の高分子材料等により構成し、また上記高分
子材料をスピンコート法，ロールコート法等のこの種の
光ディスクの製造に通常使用される方法により塗布して
形成すれば良い。すなわち、反射膜２上に、着色された
保護膜３が形成されることとなる。
【００２１】次いで上記保護膜３上にレーベル等を印刷
するが、本実施例の光ディスクの製造方法においては、
保護膜３が既に着色されており、印刷されるレーベル等
の色調が反射膜の影響を受けない。そこで、例えばオフ
セット印刷により印刷を行う場合には、図３に示すよう
にＳＴ１（ＳＴＥＰ１）として着色保護膜を形成する工
程（着色保護膜形成工程）の後、ＳＴ２としてオフセッ
ト印刷工程を実施し、スクリーン印刷により印刷を行う
場合には、図３に示すようにＳＴ１として着色保護膜形
成工程の後、ＳＴ２としてスクリーン印刷工程を実施す
る。すなわち、図４に示すように、保護膜３上に直に印
刷層４が形成されることとなる。
するが、本実施例の光ディスクの製造方法においては、
保護膜３が既に着色されており、印刷されるレーベル等
の色調が反射膜の影響を受けない。そこで、例えばオフ
セット印刷により印刷を行う場合には、図３に示すよう
にＳＴ１（ＳＴＥＰ１）として着色保護膜を形成する工
程（着色保護膜形成工程）の後、ＳＴ２としてオフセッ
ト印刷工程を実施し、スクリーン印刷により印刷を行う
場合には、図３に示すようにＳＴ１として着色保護膜形
成工程の後、ＳＴ２としてスクリーン印刷工程を実施す
る。すなわち、図４に示すように、保護膜３上に直に印
刷層４が形成されることとなる。
【００２２】本実施例の光ディスクの製造方法において
は、従来、オフセット印刷によりレーベル等を印刷する
場合に必要とされた白ベタ印刷工程が不要とされ、スク
リーン印刷により印刷する場合においても従来のように
特殊インキを使用する必要がなく、通常のインキを使用
できる。従って、印刷工程が短縮されるために製造工程
が短縮され、インキの種類を減少させることにより製造
コストが低減され、生産性が大幅に向上される。また、
本実施例の光ディスクの製造方法においては、印刷され
たレーベル等の色調が損なわれることもなく、品質的に
も十分な光ディスクが得られる。
は、従来、オフセット印刷によりレーベル等を印刷する
場合に必要とされた白ベタ印刷工程が不要とされ、スク
リーン印刷により印刷する場合においても従来のように
特殊インキを使用する必要がなく、通常のインキを使用
できる。従って、印刷工程が短縮されるために製造工程
が短縮され、インキの種類を減少させることにより製造
コストが低減され、生産性が大幅に向上される。また、
本実施例の光ディスクの製造方法においては、印刷され
たレーベル等の色調が損なわれることもなく、品質的に
も十分な光ディスクが得られる。
【００２３】なお、上述の本実施例の光ディスクの製造
方法は、デジタルオーディオディスク等の光ディスクの
製造方法に適用した例であるが、本発明の光ディスクの
製造方法が光磁気記録ディスク等の光ディスクの製造方
法にも適用されることは言うまでもない。
方法は、デジタルオーディオディスク等の光ディスクの
製造方法に適用した例であるが、本発明の光ディスクの
製造方法が光磁気記録ディスク等の光ディスクの製造方
法にも適用されることは言うまでもない。
【００２４】
【発明の効果】以上の説明からも明らかなように、本発
明の光ディスクの製造方法は、基板上に形成された反射
膜上に顔料を含有する高分子材料を成膜して保護膜を形
成する工程と、上記保護膜上に印刷を行う工程を有する
ため、保護膜は予め着色がなされていることとなり、こ
のような保護膜上に印刷を行った場合、上記印刷物の色
調は反射膜の影響を受けない。従って、本発明の光ディ
スクの製造方法においては、下地膜を形成する必要がな
くなり、製造工程が短縮され、また特殊インキを使用す
る必要がなくなることから製造コストが低減され、生産
性が大幅に向上される。
明の光ディスクの製造方法は、基板上に形成された反射
膜上に顔料を含有する高分子材料を成膜して保護膜を形
成する工程と、上記保護膜上に印刷を行う工程を有する
ため、保護膜は予め着色がなされていることとなり、こ
のような保護膜上に印刷を行った場合、上記印刷物の色
調は反射膜の影響を受けない。従って、本発明の光ディ
スクの製造方法においては、下地膜を形成する必要がな
くなり、製造工程が短縮され、また特殊インキを使用す
る必要がなくなることから製造コストが低減され、生産
性が大幅に向上される。
【図１】本発明を適用した光ディスクの製造方法の一実
施例を工程順に示すものであり、基板上に反射膜を形成
する工程を示す断面図である。
施例を工程順に示すものであり、基板上に反射膜を形成
する工程を示す断面図である。
【図２】反射膜上に保護膜を形成する工程を示す断面図
である。
である。
【図３】保護膜上にレーベル等の印刷を行う工程を示す
チャート図である。
チャート図である。
【図４】保護膜上に印刷層が形成された状態を示す断面
図である。
図である。
【図５】従来の光ディスクの保護膜上にレーベル等を印
刷する工程を示すチャート図である。
刷する工程を示すチャート図である。
１・・・基板 １ａ・・・一主面 ２・・・反射膜 ３・・・保護膜 ４・・・印刷層
Claims (1)
- 【請求項１】 基板上に形成された反射膜上に顔料を含
有する高分子材料を成膜して保護膜を形成する工程と、 上記保護膜上に印刷を行う工程を有することを特徴とす
る光ディスクの製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP32834793A JPH07182703A (ja) | 1993-12-24 | 1993-12-24 | 光ディスクの製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP32834793A JPH07182703A (ja) | 1993-12-24 | 1993-12-24 | 光ディスクの製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH07182703A true JPH07182703A (ja) | 1995-07-21 |
Family
ID=18209230
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP32834793A Pending JPH07182703A (ja) | 1993-12-24 | 1993-12-24 | 光ディスクの製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH07182703A (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP0843306A1 (en) * | 1996-06-03 | 1998-05-20 | Kao Corporation | Optical disc, process for producing the optical disc and its manufacturing apparatus |
| WO2006016505A1 (en) * | 2004-08-10 | 2006-02-16 | Canon Kabushiki Kaisha | Radiation detecting apparatus, scintillator panel, their manufacturing method and radiation detecting system |
| JP2006052978A (ja) * | 2004-08-10 | 2006-02-23 | Canon Inc | 放射線検出装置、シンチレータパネル、及び放射線検出システム |
-
1993
- 1993-12-24 JP JP32834793A patent/JPH07182703A/ja active Pending
Cited By (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP0843306A1 (en) * | 1996-06-03 | 1998-05-20 | Kao Corporation | Optical disc, process for producing the optical disc and its manufacturing apparatus |
| EP0843306A4 (en) * | 1996-06-03 | 2001-01-10 | Kao Corp | OPTICAL PLATE, METHOD FOR PRODUCING THE OPTICAL PLATE AND PRODUCTION DEVICE THEREFOR |
| WO2006016505A1 (en) * | 2004-08-10 | 2006-02-16 | Canon Kabushiki Kaisha | Radiation detecting apparatus, scintillator panel, their manufacturing method and radiation detecting system |
| JP2006052978A (ja) * | 2004-08-10 | 2006-02-23 | Canon Inc | 放射線検出装置、シンチレータパネル、及び放射線検出システム |
| US7514686B2 (en) | 2004-08-10 | 2009-04-07 | Canon Kabushiki Kaisha | Radiation detecting apparatus, scintillator panel, their manufacturing method and radiation detecting system |
| EP1779140A4 (en) * | 2004-08-10 | 2016-08-31 | Canon Kk | RADIATION DETECTION DEVICE, SCINTILLATE PANEL, PRODUCTION METHOD AND RADIATION DETECTION SYSTEM |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 20021126 |