JPH0791381A - スクロール型圧縮機 - Google Patents
スクロール型圧縮機Info
- Publication number
- JPH0791381A JPH0791381A JP23685993A JP23685993A JPH0791381A JP H0791381 A JPH0791381 A JP H0791381A JP 23685993 A JP23685993 A JP 23685993A JP 23685993 A JP23685993 A JP 23685993A JP H0791381 A JPH0791381 A JP H0791381A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- pressure receiving
- scroll
- position regulating
- revolution
- movable
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Landscapes
- Rotary Pumps (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】 高い加工精度を要する公転位置規制孔の数を
減らし、可動スクロールを円滑に公転させ、摺動面の摩
耗を抑制し、耐久性を向上する。 【構成】 受圧壁11aとスクロール基板7aとの間に
はアルミニウム−シリコン合金よりなる公転位置規制リ
ング9が介在されており、該規制リング9には自転阻止
用素子10が止着されている。自転阻止用素子10はス
クロール基板7a上及び受圧壁11a上の公転位置規制
孔7c,11bに緩く挿入されている。固定スクロール
1と可動スクロール7との間の圧縮室Pにおける圧縮反
力は公転位置規制リング9の両面に形成された受圧突部
9A,9Bを介して受圧壁11aに伝えられる。さら
に、この先端面9a,9bの摺動面におけるシリコン粒
子の露出度を大きくしている。
減らし、可動スクロールを円滑に公転させ、摺動面の摩
耗を抑制し、耐久性を向上する。 【構成】 受圧壁11aとスクロール基板7aとの間に
はアルミニウム−シリコン合金よりなる公転位置規制リ
ング9が介在されており、該規制リング9には自転阻止
用素子10が止着されている。自転阻止用素子10はス
クロール基板7a上及び受圧壁11a上の公転位置規制
孔7c,11bに緩く挿入されている。固定スクロール
1と可動スクロール7との間の圧縮室Pにおける圧縮反
力は公転位置規制リング9の両面に形成された受圧突部
9A,9Bを介して受圧壁11aに伝えられる。さら
に、この先端面9a,9bの摺動面におけるシリコン粒
子の露出度を大きくしている。
Description
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、ハウジンク内に収容し
た固定スクロールと、この固定スクロールに対向して自
転不能かつ公転可能に支持された可動スクロールとの間
に可動スクロールの公転に基づいて容積減少する圧縮室
を形成するスクロール型圧縮機に関するものである。
た固定スクロールと、この固定スクロールに対向して自
転不能かつ公転可能に支持された可動スクロールとの間
に可動スクロールの公転に基づいて容積減少する圧縮室
を形成するスクロール型圧縮機に関するものである。
【0002】
【従来の技術】スクロール型圧縮機の可動スクロールの
自転を阻止した状態で公転を許容するスクロール公転機
構としては特開昭59−28082号公報に開示された
ものがある。この公転機構では、可動スクロールを収容
するハウジングと可動スクロールとの両対向面上にレー
スを介して固定リング及び可動リングを対向止着すると
ともに、両リングに複数のポケットを対向して透設し、
この対向ポケット間に円筒軸受け素子を挿入している。
円筒軸受け素子は対向するポケットの周壁間に挟みこま
れながら転動する。この挟み込み転動によって可動スク
ロールが自転を阻止されつつ公転する。
自転を阻止した状態で公転を許容するスクロール公転機
構としては特開昭59−28082号公報に開示された
ものがある。この公転機構では、可動スクロールを収容
するハウジングと可動スクロールとの両対向面上にレー
スを介して固定リング及び可動リングを対向止着すると
ともに、両リングに複数のポケットを対向して透設し、
この対向ポケット間に円筒軸受け素子を挿入している。
円筒軸受け素子は対向するポケットの周壁間に挟みこま
れながら転動する。この挟み込み転動によって可動スク
ロールが自転を阻止されつつ公転する。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】自転阻止を行なうため
の円筒軸受け素子の径d、ポケットの径D及び公転半径
rの間にはD=d+rの関係があり、円筒軸受け素子の
径dは公転半径r及びポケットの径Dによって規制され
る。円筒軸受け素子は可動スクロールに作用する冷媒ガ
スの圧縮反力をハウジングに伝え、ハウジングは円筒軸
受け素子を介して圧縮反力を受け止めている。このよう
な受圧機能を持つ円筒軸受け素子の径dはポケットの径
Dを大きくすれば大きくできるが、そのためには固定リ
ング及び可動リングの幅を大きくしなければならない。
の円筒軸受け素子の径d、ポケットの径D及び公転半径
rの間にはD=d+rの関係があり、円筒軸受け素子の
径dは公転半径r及びポケットの径Dによって規制され
る。円筒軸受け素子は可動スクロールに作用する冷媒ガ
スの圧縮反力をハウジングに伝え、ハウジングは円筒軸
受け素子を介して圧縮反力を受け止めている。このよう
な受圧機能を持つ円筒軸受け素子の径dはポケットの径
Dを大きくすれば大きくできるが、そのためには固定リ
ング及び可動リングの幅を大きくしなければならない。
【0004】しかしながら、固定リング及び可動リング
の幅の拡大は圧縮機の胴径の拡大をもたらし、圧縮機が
大型化する。圧縮機の大型化を回避しつつ圧縮反力を受
け止めるために必要な受圧面積を複数の円筒軸受け素子
で分担するには円筒軸受け素子の個数を増やさねばなら
ない。このような円筒軸受け素子の個数増はポケットの
個数増にも繋がるが、高い加工精度を要求されるポケッ
トの個数増は加工時間増、コスト増を招く。
の幅の拡大は圧縮機の胴径の拡大をもたらし、圧縮機が
大型化する。圧縮機の大型化を回避しつつ圧縮反力を受
け止めるために必要な受圧面積を複数の円筒軸受け素子
で分担するには円筒軸受け素子の個数を増やさねばなら
ない。このような円筒軸受け素子の個数増はポケットの
個数増にも繋がるが、高い加工精度を要求されるポケッ
トの個数増は加工時間増、コスト増を招く。
【0005】本発明の第1の目的は自転阻止機能を受け
持つ自転阻止用素子の個数及び高い加工精度を要する公
転位置規制孔の個数を減らして構造を簡素化し、加工工
程の簡略化を図ることができ、さらに、可動スクロール
基板の背面とハウジングの固定側受圧壁との間で圧縮反
力を受けつつ摺接する公転位置規制リングの受圧部の焼
き付きを防止して耐久性を向上することができるスクロ
ール型圧縮機を提供することにある。
持つ自転阻止用素子の個数及び高い加工精度を要する公
転位置規制孔の個数を減らして構造を簡素化し、加工工
程の簡略化を図ることができ、さらに、可動スクロール
基板の背面とハウジングの固定側受圧壁との間で圧縮反
力を受けつつ摺接する公転位置規制リングの受圧部の焼
き付きを防止して耐久性を向上することができるスクロ
ール型圧縮機を提供することにある。
【0006】又、この発明の第2の目的は上記第1の目
的に加えて、公転位置規制リングの受圧部の焼き付きを
より確実に防止して耐久性をさらに向上することができ
るスクロール型圧縮機を提供することにある。
的に加えて、公転位置規制リングの受圧部の焼き付きを
より確実に防止して耐久性をさらに向上することができ
るスクロール型圧縮機を提供することにある。
【0007】
【課題を解決するための手段】請求項1記載の発明で
は、上記第1の目的を達成するため、ハウジング内に設
けた固定スクロールと、この固定スクロールに対向して
自転不能かつ公転可能に支持された可動スクロールとの
間に該可動スクロールの公転に基づいて容積減少する圧
縮室を形成するスクロール型圧縮機において、可動スク
ロールに作用する圧縮室内の圧縮反力を受け止めるハウ
ジングの固定側受圧壁と可動スクロールの基板背面との
間に公転位置規制リングを介在し、該公転位置規制リン
グ及び前記固定側受圧壁のうち一方に複数の自転阻止用
素子を周方向に配列し、他方に前記各自転阻止用素子を
緩く係合する公転位置規制孔を周方向に配列するととも
に、前記公転位置規制リング及び可動スクロール基板の
可動側受圧壁にも前記公転位置規制孔及び自転阻止用素
子と同様の公転位置規制孔及び自転阻止用素子を設けて
前記自転阻止機構を構成し、前記可動スクロールに作用
する圧縮室内の圧縮反力を前記可動側受圧壁から固定側
受圧壁に伝えるための受圧部を前記公転位置規制リング
の両面に一体に設け、さらに公転位置規制リング及び受
圧部をアルミニウム−シリコン合金により形成し、前記
受圧部の摺動面におけるシリコン粒子を露出させた。
は、上記第1の目的を達成するため、ハウジング内に設
けた固定スクロールと、この固定スクロールに対向して
自転不能かつ公転可能に支持された可動スクロールとの
間に該可動スクロールの公転に基づいて容積減少する圧
縮室を形成するスクロール型圧縮機において、可動スク
ロールに作用する圧縮室内の圧縮反力を受け止めるハウ
ジングの固定側受圧壁と可動スクロールの基板背面との
間に公転位置規制リングを介在し、該公転位置規制リン
グ及び前記固定側受圧壁のうち一方に複数の自転阻止用
素子を周方向に配列し、他方に前記各自転阻止用素子を
緩く係合する公転位置規制孔を周方向に配列するととも
に、前記公転位置規制リング及び可動スクロール基板の
可動側受圧壁にも前記公転位置規制孔及び自転阻止用素
子と同様の公転位置規制孔及び自転阻止用素子を設けて
前記自転阻止機構を構成し、前記可動スクロールに作用
する圧縮室内の圧縮反力を前記可動側受圧壁から固定側
受圧壁に伝えるための受圧部を前記公転位置規制リング
の両面に一体に設け、さらに公転位置規制リング及び受
圧部をアルミニウム−シリコン合金により形成し、前記
受圧部の摺動面におけるシリコン粒子を露出させた。
【0008】又、請求項2記載の発明では、上記第2の
目的を達成するため、請求項1において公転位置規制リ
ングをシリコンの重量含有率が12〜20%であるアル
ミニウム−シリコン合金により形成した。
目的を達成するため、請求項1において公転位置規制リ
ングをシリコンの重量含有率が12〜20%であるアル
ミニウム−シリコン合金により形成した。
【0009】さらに、請求項3記載の発明では、上記第
2の目的を達成するため、請求項1において前記受圧部
の摺動面におけるシリコン粒子の露出度を40%以上と
した。ここで、シリコン粒子の露出度Rとは個々のシリ
コン粒子の露出面積をA1 とし、個々のシリコン粒子の
欠け面積をA2 とすると、次式により定義される。
2の目的を達成するため、請求項1において前記受圧部
の摺動面におけるシリコン粒子の露出度を40%以上と
した。ここで、シリコン粒子の露出度Rとは個々のシリ
コン粒子の露出面積をA1 とし、個々のシリコン粒子の
欠け面積をA2 とすると、次式により定義される。
【0010】R=ΣA1 /(ΣA1 +ΣA2 )
【0011】
【作用】請求項1記載の発明では、公転位置規制リング
と固定側及び可動側の受圧壁との間に複数の公転位置規
制孔及びそれらに緩く嵌合される自転阻止用素子が設け
られている。このため可動スクロールの公転に伴い、複
数の自転阻止用素子が公転位置規制孔の周面に沿ってそ
れぞれ可動スクロールの公転半径の2分の1の公転半径
で公転する。このような対応関係により可動スクロール
の自転が阻止される。
と固定側及び可動側の受圧壁との間に複数の公転位置規
制孔及びそれらに緩く嵌合される自転阻止用素子が設け
られている。このため可動スクロールの公転に伴い、複
数の自転阻止用素子が公転位置規制孔の周面に沿ってそ
れぞれ可動スクロールの公転半径の2分の1の公転半径
で公転する。このような対応関係により可動スクロール
の自転が阻止される。
【0012】又、圧縮動作中に生じる流体の圧縮反力は
可動スクロールの基板背面の可動側受圧壁から公転位置
規制リングの受圧部を介して固定側受圧壁で受け止めら
れる。
可動スクロールの基板背面の可動側受圧壁から公転位置
規制リングの受圧部を介して固定側受圧壁で受け止めら
れる。
【0013】公転位置規制リングはアルミニウム−シリ
コン合金により形成され、受圧部の摺動面にシリコン粒
子が露出しているので、該摺動面と固定側及び可動側の
受圧壁との摺動摩擦が軽減され、摺動面の摩耗や焼き付
きが防止される。
コン合金により形成され、受圧部の摺動面にシリコン粒
子が露出しているので、該摺動面と固定側及び可動側の
受圧壁との摺動摩擦が軽減され、摺動面の摩耗や焼き付
きが防止される。
【0014】又、請求項2記載の発明では、請求項1記
載の発明の作用に加えて、シリコンの含有率が高いアル
ミニウム−シリコン合金により受圧部が形成されている
ので、受圧部の摺動面に露出するシリコン粒子の面積が
増大し、該摺動面と受圧壁の摺動面との摩耗や焼き付き
がさらに抑制される。
載の発明の作用に加えて、シリコンの含有率が高いアル
ミニウム−シリコン合金により受圧部が形成されている
ので、受圧部の摺動面に露出するシリコン粒子の面積が
増大し、該摺動面と受圧壁の摺動面との摩耗や焼き付き
がさらに抑制される。
【0015】さらに、請求項3記載の発明では、請求項
1記載の発明の作用に加えて、受圧部の摺動面における
シリコン粒子の露出度が40%と高いので、受圧部の摺
動面と受圧壁の摺動面との摩耗や焼き付きがさらに抑制
される。
1記載の発明の作用に加えて、受圧部の摺動面における
シリコン粒子の露出度が40%と高いので、受圧部の摺
動面と受圧壁の摺動面との摩耗や焼き付きがさらに抑制
される。
【0016】
【実施例】以下、本発明を具体化した第1実施例を図1
〜図6に基づいて説明する。図1に示すように、センタ
ハウジングを兼ねる固定スクロール1にはフロントハウ
ジング2が接合固定されている。フロントハウジング2
内には回転軸3が回転可能に支持されており、回転軸3
には偏心軸4が止着されている。
〜図6に基づいて説明する。図1に示すように、センタ
ハウジングを兼ねる固定スクロール1にはフロントハウ
ジング2が接合固定されている。フロントハウジング2
内には回転軸3が回転可能に支持されており、回転軸3
には偏心軸4が止着されている。
【0017】偏心軸4にはバランスウエイト5及びブッ
シュ6が回動可能に支持されている。ブッシュ6には可
動スクロール7が固定スクロール1と対向接合するよう
にラジアルベアリング8を介して回転可能に支持されて
おり、両スクロール1,7のスクロール基板1a,7a
及び渦巻壁1b,7bにより圧縮室Pが形成される。可
動スクロール7は所定の円軌道運動(公転)を行うこと
により、圧縮室Pの容積を変化させ、冷媒ガスの圧縮を
行う。
シュ6が回動可能に支持されている。ブッシュ6には可
動スクロール7が固定スクロール1と対向接合するよう
にラジアルベアリング8を介して回転可能に支持されて
おり、両スクロール1,7のスクロール基板1a,7a
及び渦巻壁1b,7bにより圧縮室Pが形成される。可
動スクロール7は所定の円軌道運動(公転)を行うこと
により、圧縮室Pの容積を変化させ、冷媒ガスの圧縮を
行う。
【0018】可動スクロール7の基板7aとフロントハ
ウジング2の受圧壁2aと間には自転阻止機構Kを構成
する公転位置規制リング9が介在されている。公転位置
規制リング9の一面には冷媒ガスの圧縮反力を伝達する
受圧部としての複数の受圧突部9Aが周方向に配列形成
されている。公転位置規制リング9の他面にも同数の受
圧突部9Bが周方向に配列されている。受圧突部9Aと
受圧突部9Bとは背向して等間隔角度位置に配置されて
いる。公転位置規制リング9には可動スクロール7が自
身の軸心を中心に回転(自転)することを阻止するため
の円柱形状の自転阻止用素子10が複数箇所に貫通止着
されている。各自転阻止用素子10は受圧突部9A,9
Bの配列間において周方向に等間隔角度位置に配置され
ている。
ウジング2の受圧壁2aと間には自転阻止機構Kを構成
する公転位置規制リング9が介在されている。公転位置
規制リング9の一面には冷媒ガスの圧縮反力を伝達する
受圧部としての複数の受圧突部9Aが周方向に配列形成
されている。公転位置規制リング9の他面にも同数の受
圧突部9Bが周方向に配列されている。受圧突部9Aと
受圧突部9Bとは背向して等間隔角度位置に配置されて
いる。公転位置規制リング9には可動スクロール7が自
身の軸心を中心に回転(自転)することを阻止するため
の円柱形状の自転阻止用素子10が複数箇所に貫通止着
されている。各自転阻止用素子10は受圧突部9A,9
Bの配列間において周方向に等間隔角度位置に配置され
ている。
【0019】図4に示すように、各受圧突部9A,9B
の先端摺動面9a,9b(以下単に摺動面という)は凸
曲面形状となっている。摺動面9a,9bの曲率半径は
受圧突部9A,9Bの径に比して大きい。
の先端摺動面9a,9b(以下単に摺動面という)は凸
曲面形状となっている。摺動面9a,9bの曲率半径は
受圧突部9A,9Bの径に比して大きい。
【0020】フロントハウジング2の受圧壁2aには鉄
製の固定受圧リング11が接合固定されている。該リン
グ11の受圧壁11aには自転阻止用素子10と同数の
公転位置規制孔11bが周方向に等間隔角度位置に配列
されている。この規制孔11bは受圧壁2aを穿つよう
に形成されている。可動スクロール基板7aには自転阻
止用素子10と同数の公転位置規制孔7cが周方向に等
間隔角度位置に配列されている。公転位置規制孔11
b,7cには自転阻止用素子10の両端部が挿入されて
いる。受圧突部9A,9Bの摺動面9a,9bからの自
転阻止用素子10の端面の突出高さは公転位置規制孔1
1b,7cの深さよりも小さくし、冷媒ガスの圧縮反力
を伝達しないようにしてある。
製の固定受圧リング11が接合固定されている。該リン
グ11の受圧壁11aには自転阻止用素子10と同数の
公転位置規制孔11bが周方向に等間隔角度位置に配列
されている。この規制孔11bは受圧壁2aを穿つよう
に形成されている。可動スクロール基板7aには自転阻
止用素子10と同数の公転位置規制孔7cが周方向に等
間隔角度位置に配列されている。公転位置規制孔11
b,7cには自転阻止用素子10の両端部が挿入されて
いる。受圧突部9A,9Bの摺動面9a,9bからの自
転阻止用素子10の端面の突出高さは公転位置規制孔1
1b,7cの深さよりも小さくし、冷媒ガスの圧縮反力
を伝達しないようにしてある。
【0021】前記公転位置規制リング9はアルミニウム
−シリコン(Al−Si)合金により形成されている。
図5(a)に示すようにこのシリコンSiの粒子はアル
ミニウム母材内に無数に散在しており、シリコンの含有
率は12〜20%(wt)である。又、前記受圧突部9
A,9Bの摺動面9a,9bにおけるシリコン粒子Si
の露出度Rが40%以上になるように摺動面9a,9b
を研磨するのが望ましい。ここで、シリコン粒子Siの
露出度Rとは図6に示すように個々のシリコン粒子Si
の露出面積をA1 、同じく個々のシリコン粒子Siの欠
け面積をA2 とすると、R=ΣA1 /(ΣA1 +Σ
A2 )により定義される。この摺動面9a,9bの加工
に際しては、切削加工で仕上げると図5(b)に示すよ
うにシリコン粒子Siが刃具によりアルミニウム母材の
表面から剥ぎ取られるので、細かい目の研磨加工で仕上
げる。特に、バフで仕上げると軟質なアルミニウム母材
のみが摩減されシリコン粒子の剥離が防止される。
−シリコン(Al−Si)合金により形成されている。
図5(a)に示すようにこのシリコンSiの粒子はアル
ミニウム母材内に無数に散在しており、シリコンの含有
率は12〜20%(wt)である。又、前記受圧突部9
A,9Bの摺動面9a,9bにおけるシリコン粒子Si
の露出度Rが40%以上になるように摺動面9a,9b
を研磨するのが望ましい。ここで、シリコン粒子Siの
露出度Rとは図6に示すように個々のシリコン粒子Si
の露出面積をA1 、同じく個々のシリコン粒子Siの欠
け面積をA2 とすると、R=ΣA1 /(ΣA1 +Σ
A2 )により定義される。この摺動面9a,9bの加工
に際しては、切削加工で仕上げると図5(b)に示すよ
うにシリコン粒子Siが刃具によりアルミニウム母材の
表面から剥ぎ取られるので、細かい目の研磨加工で仕上
げる。特に、バフで仕上げると軟質なアルミニウム母材
のみが摩減されシリコン粒子の剥離が防止される。
【0022】一方、可動スクロール7はアルミニウム合
金により形成され、かつ該可動スクロール基板7a、渦
巻壁7b及びボス部7cの各表面には、複合メッキ層1
2が形成されている。この複合メッキ層12は図7に示
すように可動スクロール7を構成するアルミニウム合金
母材の表面に形成したニッケル−リン(Ni−P)合金
よりなる内側メッキ層12Aと、該内側メッキ層12A
の表面に形成したニッケル−ボロン(Ni−B)合金よ
りなる外側メッキ層12Bとにより構成されている。内
側メッキ層12Aはアルミニウム合金母材と密着性に優
れていて、密着層12Cが形成されている。又、内側メ
ッキ層12Aと外側メッキ層12Bも同様に密着性に優
れているので、密着層12Dが形成されている。さら
に、内側メッキ層12Aは硬度が小さく、外側メッキ層
12Bは硬度が大きく、固定スクロール1との耐摩耗性
に優れている。内側メッキ層12Aの厚さT1 は、外側
メッキ層12Bの厚さT2 よりも大きく設定されてい
る。
金により形成され、かつ該可動スクロール基板7a、渦
巻壁7b及びボス部7cの各表面には、複合メッキ層1
2が形成されている。この複合メッキ層12は図7に示
すように可動スクロール7を構成するアルミニウム合金
母材の表面に形成したニッケル−リン(Ni−P)合金
よりなる内側メッキ層12Aと、該内側メッキ層12A
の表面に形成したニッケル−ボロン(Ni−B)合金よ
りなる外側メッキ層12Bとにより構成されている。内
側メッキ層12Aはアルミニウム合金母材と密着性に優
れていて、密着層12Cが形成されている。又、内側メ
ッキ層12Aと外側メッキ層12Bも同様に密着性に優
れているので、密着層12Dが形成されている。さら
に、内側メッキ層12Aは硬度が小さく、外側メッキ層
12Bは硬度が大きく、固定スクロール1との耐摩耗性
に優れている。内側メッキ層12Aの厚さT1 は、外側
メッキ層12Bの厚さT2 よりも大きく設定されてい
る。
【0023】ここで、可動スクロール7の公転について
より詳細に説明する。回転軸3の回転に伴い、偏心軸4
は軸3の中心軸心L1 を中心に半径r(中心軸心L1 と
可動スクロールの中心軸線L2 の距離)の円軌跡上を公
転する。偏心軸4の公転に伴い、可動スクロール7も回
転軸3の中心軸線L1 の回りを公転し、図示しない入口
から導入された冷媒ガスが両スクロール1,7間の圧縮
室Pへ流入する。圧縮室Pは可動スクロール7の公転に
伴って容積を減少しつつ両スクロール1,7の渦巻壁1
b,7bの始端部間に向けて収束して行く。圧縮室Pの
容積の減少によって圧縮された冷媒ガスは固定スクロー
ル基板1a上の吐出ポート1cからリヤハウジング内に
設けた吐出室17内へ吐出される。吐出ポート1cは吐
出室17側で吐出弁18により開放可能に閉塞されてい
る。
より詳細に説明する。回転軸3の回転に伴い、偏心軸4
は軸3の中心軸心L1 を中心に半径r(中心軸心L1 と
可動スクロールの中心軸線L2 の距離)の円軌跡上を公
転する。偏心軸4の公転に伴い、可動スクロール7も回
転軸3の中心軸線L1 の回りを公転し、図示しない入口
から導入された冷媒ガスが両スクロール1,7間の圧縮
室Pへ流入する。圧縮室Pは可動スクロール7の公転に
伴って容積を減少しつつ両スクロール1,7の渦巻壁1
b,7bの始端部間に向けて収束して行く。圧縮室Pの
容積の減少によって圧縮された冷媒ガスは固定スクロー
ル基板1a上の吐出ポート1cからリヤハウジング内に
設けた吐出室17内へ吐出される。吐出ポート1cは吐
出室17側で吐出弁18により開放可能に閉塞されてい
る。
【0024】図2及び図3の状態では互いに可動スクロ
ール7が180°公転した位置関係にある。図2では可
動スクロール7の公転位置が最上動位置にあり、自転阻
止用素子10は可動スクロール基板7a側の公転位置規
制孔7cの周面に対して最下位部分に接している。公転
位置規制リング9は自転阻止用素子10と公転位置規制
孔7cの周面の最下位部分との接触によって回転軸3の
回転軸線L1 (可動スクロール7の公転中心)から上方
に偏位されている。従って、自転阻止用素子10は固定
側の公転位置規制孔11bの周面に対して最上位部分に
接する。
ール7が180°公転した位置関係にある。図2では可
動スクロール7の公転位置が最上動位置にあり、自転阻
止用素子10は可動スクロール基板7a側の公転位置規
制孔7cの周面に対して最下位部分に接している。公転
位置規制リング9は自転阻止用素子10と公転位置規制
孔7cの周面の最下位部分との接触によって回転軸3の
回転軸線L1 (可動スクロール7の公転中心)から上方
に偏位されている。従って、自転阻止用素子10は固定
側の公転位置規制孔11bの周面に対して最上位部分に
接する。
【0025】図2の状態から偏心軸4が180°公転す
ると、図3に示すように可動スクロール7の公転位置が
最下動位置にくる。これにより自転阻止用素子10は公
転位置規制孔7cの周面に対して最上位部分に接する。
公転位置規制リング9は自転阻止用素子10と公転位置
規制孔7cの周面の最上位部分との接触によって回転軸
3の回転軸線L1 から下方に偏位されている。従って、
自転阻止用素子10が固定側公転位置規制孔11bの周
面の最下位部分に接触する。
ると、図3に示すように可動スクロール7の公転位置が
最下動位置にくる。これにより自転阻止用素子10は公
転位置規制孔7cの周面に対して最上位部分に接する。
公転位置規制リング9は自転阻止用素子10と公転位置
規制孔7cの周面の最上位部分との接触によって回転軸
3の回転軸線L1 から下方に偏位されている。従って、
自転阻止用素子10が固定側公転位置規制孔11bの周
面の最下位部分に接触する。
【0026】より詳述するならば、可動スクロール7の
公転に伴い、自転阻止用素子10が公転位置規制孔11
b,7cの周面に沿って摺接する。すると、公転位置規
制リング9はこの摺接作用によって公転中心L1 から公
転している可動スクロール7の側へ付勢される。従っ
て、自転阻止用素子10と公転位置規制孔11bとの接
触部分は、自転阻止用素子10と公転位置規制孔7cの
周面との接触部分に対して180°偏位している。
公転に伴い、自転阻止用素子10が公転位置規制孔11
b,7cの周面に沿って摺接する。すると、公転位置規
制リング9はこの摺接作用によって公転中心L1 から公
転している可動スクロール7の側へ付勢される。従っ
て、自転阻止用素子10と公転位置規制孔11bとの接
触部分は、自転阻止用素子10と公転位置規制孔7cの
周面との接触部分に対して180°偏位している。
【0027】前記公転位置規制孔11b,7cの径を
D、自転阻止用素子10の径をdとした場合、図2の状
態から図3の状態に移行すると、自転阻止用素子10は
公転位置規制孔11b,7cのそれぞれに対して(D−
d)だけ相対移動したことになる。この値はブッシュ6
の公転半径rに等しい。従って、公転位置規制孔11
b,7cの径D、自転阻止用素子10の径d、ブッシュ
6の公転半径rの間には、D=d+rの関係が予め設定
されている。この関係によって可動スクロール7の公転
半径がrに規定される。
D、自転阻止用素子10の径をdとした場合、図2の状
態から図3の状態に移行すると、自転阻止用素子10は
公転位置規制孔11b,7cのそれぞれに対して(D−
d)だけ相対移動したことになる。この値はブッシュ6
の公転半径rに等しい。従って、公転位置規制孔11
b,7cの径D、自転阻止用素子10の径d、ブッシュ
6の公転半径rの間には、D=d+rの関係が予め設定
されている。この関係によって可動スクロール7の公転
半径がrに規定される。
【0028】公転位置規制リング9にはブッシュ6の回
転軸線L2 を中心に自転しようとする力が働く。しか
し、受圧壁11a側の公転位置規制孔11bに接する自
転阻止用素子10は固定配置された規制孔11bによっ
て公転位置規制リング9の周方向への公転を阻止され
る。この公転阻止は公転位置規制リング9の全ての公転
位置に対して生じる。従って、公転位置規制リング9が
ブッシュ6の中心軸線L2を中心に自転することはな
い。
転軸線L2 を中心に自転しようとする力が働く。しか
し、受圧壁11a側の公転位置規制孔11bに接する自
転阻止用素子10は固定配置された規制孔11bによっ
て公転位置規制リング9の周方向への公転を阻止され
る。この公転阻止は公転位置規制リング9の全ての公転
位置に対して生じる。従って、公転位置規制リング9が
ブッシュ6の中心軸線L2を中心に自転することはな
い。
【0029】可動スクロール7はブッシュ6の回転軸線
L2 を中心に自転しようとする。しかし、可動スクロー
ル基板7a側の公転位置規制孔7cは自転しない公転位
置規制リング9上の自転阻止用素子10によって公転位
置規制リング9の周方向への公転を阻止される。この公
転阻止は可動スクロール7の全ての公転位置に対して生
じる。即ち、可動スクロール7がブッシュ6の中心軸線
L2 を中心に自転することはない。
L2 を中心に自転しようとする。しかし、可動スクロー
ル基板7a側の公転位置規制孔7cは自転しない公転位
置規制リング9上の自転阻止用素子10によって公転位
置規制リング9の周方向への公転を阻止される。この公
転阻止は可動スクロール7の全ての公転位置に対して生
じる。即ち、可動スクロール7がブッシュ6の中心軸線
L2 を中心に自転することはない。
【0030】可動スクロールを自転させることなく公転
させる第1実施例のスクロール型圧縮機では、特開昭5
9−28082号公報の従来装置に比して公転位置規制
リングが1つ減る。公転位置規制孔11b,7cの周面
の加工には高い精度が要求される。冷媒ガスの圧縮反力
の伝達及び自転阻止機能の両方を円筒軸受け素子で受け
持つ特開昭59−28082号公報の従来装置では、全
てのポケットの周面加工精度を高くしなければならな
い。受圧突部9A,9Bが圧縮反力伝達を受け持つ第1
実施例では自転阻止用素子10が4個あるが、自転阻止
用素子10の個数は最低3個あればよく、公転位置規制
孔11b,7cの個数もそれぞれ最低3個あればよい。
従って、高い加工精度を要求される公転位置規制孔の加
工時間を短くでき、コストも低減する。
させる第1実施例のスクロール型圧縮機では、特開昭5
9−28082号公報の従来装置に比して公転位置規制
リングが1つ減る。公転位置規制孔11b,7cの周面
の加工には高い精度が要求される。冷媒ガスの圧縮反力
の伝達及び自転阻止機能の両方を円筒軸受け素子で受け
持つ特開昭59−28082号公報の従来装置では、全
てのポケットの周面加工精度を高くしなければならな
い。受圧突部9A,9Bが圧縮反力伝達を受け持つ第1
実施例では自転阻止用素子10が4個あるが、自転阻止
用素子10の個数は最低3個あればよく、公転位置規制
孔11b,7cの個数もそれぞれ最低3個あればよい。
従って、高い加工精度を要求される公転位置規制孔の加
工時間を短くでき、コストも低減する。
【0031】公転位置規制リング9に止着された自転阻
止用素子10は前後の公転位置規制孔11b,7cの挟
み込み作用を受ける。この挟み込み作用は自転阻止用素
子10を傾ける作用として働き、各自転阻止用素子10
に対する作用方向は同一である。そのため、公転位置規
制リング9全体が傾こうとする。しかし、圧縮機の通常
運転状態では公転位置規制リング9は圧縮反力によって
可動スクロール基板7aと受圧壁11aとの間に挟みこ
まれており、従来装置の円筒軸受け素子とは異なって圧
縮機の通常運転時に傾くようなことはない。もし公転位
置規制リング9が傾くとすれば、それは圧縮反力の少な
い圧縮機始動時の不安定時期である。受圧突部9A,9
Bの摺動面9a,9bは曲率半径の大きい球面であるた
め、もし、公転位置規制リング9が傾いたとしても受圧
壁11aと球面形状の摺動面9aとの接触状態は変わら
ない。同様に、可動スクロール基板7aと球面形状の摺
動面9bとの接触状態は変わらない。つまり、受圧突部
9A,9Bの摺動面9a,9bの周縁が片当たりするこ
とはなく、偏摩耗は生じない。しかも、受圧壁11aと
摺動面9aとの摺接、及び可動スクロール基板7aと摺
動面9bとの摺接は点接触とはいえ、摺動面9a,9b
の曲率がかなり大きいために適度の潤滑があれば摺接は
円滑である。
止用素子10は前後の公転位置規制孔11b,7cの挟
み込み作用を受ける。この挟み込み作用は自転阻止用素
子10を傾ける作用として働き、各自転阻止用素子10
に対する作用方向は同一である。そのため、公転位置規
制リング9全体が傾こうとする。しかし、圧縮機の通常
運転状態では公転位置規制リング9は圧縮反力によって
可動スクロール基板7aと受圧壁11aとの間に挟みこ
まれており、従来装置の円筒軸受け素子とは異なって圧
縮機の通常運転時に傾くようなことはない。もし公転位
置規制リング9が傾くとすれば、それは圧縮反力の少な
い圧縮機始動時の不安定時期である。受圧突部9A,9
Bの摺動面9a,9bは曲率半径の大きい球面であるた
め、もし、公転位置規制リング9が傾いたとしても受圧
壁11aと球面形状の摺動面9aとの接触状態は変わら
ない。同様に、可動スクロール基板7aと球面形状の摺
動面9bとの接触状態は変わらない。つまり、受圧突部
9A,9Bの摺動面9a,9bの周縁が片当たりするこ
とはなく、偏摩耗は生じない。しかも、受圧壁11aと
摺動面9aとの摺接、及び可動スクロール基板7aと摺
動面9bとの摺接は点接触とはいえ、摺動面9a,9b
の曲率がかなり大きいために適度の潤滑があれば摺接は
円滑である。
【0032】受圧壁11a及び可動スクロール基板7a
は平面であるため、摺動面9aと受圧壁11aとの間、
及び摺動面9bと基板7aとの間には僅かな接触部位以
外では間隙ができる。この間隙には冷媒ガス中の潤滑油
が進入し、摺動面9a,9bの全体が常に潤滑される。
そのため、受圧壁11aと摺動面9aとの摺接、及び基
板7aと摺動面9bとの摺接は常に適度の潤滑を受けて
行われることになり、摺動面9a,9bが摩耗するよう
なことはない。
は平面であるため、摺動面9aと受圧壁11aとの間、
及び摺動面9bと基板7aとの間には僅かな接触部位以
外では間隙ができる。この間隙には冷媒ガス中の潤滑油
が進入し、摺動面9a,9bの全体が常に潤滑される。
そのため、受圧壁11aと摺動面9aとの摺接、及び基
板7aと摺動面9bとの摺接は常に適度の潤滑を受けて
行われることになり、摺動面9a,9bが摩耗するよう
なことはない。
【0033】前記第1実施例では可動スクロール7の公
転運動により圧縮動作が行われ、圧縮冷媒ガスの反力に
より可動スクロール7がスラスト方向の荷重を受ける。
このスラスト荷重は基板7aの可動側受圧壁7dから公
転位置規制リング9の受圧突部9A,9Bを介して固定
受圧リング11の受圧壁11aに伝達される。このため
受圧突部9A,9Bの摺動面9a,9bが基板7aの受
圧壁7d及び受圧壁11aに押圧され、摺動抵抗とな
る。しかし、この実施例では受圧突部9A,9Bの摺動
面9a,9bのアルミニウム母材の表面、つまり摺動面
におけるシリコン粒子の露出面積が大きいので、該摺動
面9a,9bの摩耗が抑制され、摺動面どうしの焼き付
きが防止される。又、受圧突部9A,9Bの摺動面9
a,9bの摩耗が進展すると固定スクロール1と可動ス
クロール7の間のクリアランスが大きくなるので、圧縮
室のシール性が低減され、圧縮効率の低下を招くが、こ
の実施例ではそれを防止することができる。
転運動により圧縮動作が行われ、圧縮冷媒ガスの反力に
より可動スクロール7がスラスト方向の荷重を受ける。
このスラスト荷重は基板7aの可動側受圧壁7dから公
転位置規制リング9の受圧突部9A,9Bを介して固定
受圧リング11の受圧壁11aに伝達される。このため
受圧突部9A,9Bの摺動面9a,9bが基板7aの受
圧壁7d及び受圧壁11aに押圧され、摺動抵抗とな
る。しかし、この実施例では受圧突部9A,9Bの摺動
面9a,9bのアルミニウム母材の表面、つまり摺動面
におけるシリコン粒子の露出面積が大きいので、該摺動
面9a,9bの摩耗が抑制され、摺動面どうしの焼き付
きが防止される。又、受圧突部9A,9Bの摺動面9
a,9bの摩耗が進展すると固定スクロール1と可動ス
クロール7の間のクリアランスが大きくなるので、圧縮
室のシール性が低減され、圧縮効率の低下を招くが、こ
の実施例ではそれを防止することができる。
【0034】前記実施例では、可動スクロール7の母材
表面に対しアルミニウム合金と密着性に優れたニッケル
−リン合金製の内側メッキ層12Aを形成し、該内側メ
ッキ層12Aに対し該メッキ層12Aと密着性に優れ、
かつ該メッキ層12Aより硬度の大きいニッケル−ボロ
ン合金製の外側メッキ層12Bを形成した。このため、
複合メッキ層12の耐剥離性が向上するとともに、可動
スクロール7と固定スクロール1の摺動時における耐摩
耗性が向上する。
表面に対しアルミニウム合金と密着性に優れたニッケル
−リン合金製の内側メッキ層12Aを形成し、該内側メ
ッキ層12Aに対し該メッキ層12Aと密着性に優れ、
かつ該メッキ層12Aより硬度の大きいニッケル−ボロ
ン合金製の外側メッキ層12Bを形成した。このため、
複合メッキ層12の耐剥離性が向上するとともに、可動
スクロール7と固定スクロール1の摺動時における耐摩
耗性が向上する。
【0035】特に、外側メッキ層12Bに亀裂が生じた
場合に、硬度の小さい内側メッキ層12Aへの伝播を抑
制することができ、耐久性を向上することができる。
又、前記実施例では、可動スクロール基板7aの可動側
受圧壁7dにも耐剥離性及び耐摩耗性の高い複合メッキ
層12を形成した。このため、公転位置規制リング9の
摺動面9bと受圧壁7dとの摺動動作が長期にわたって
安定して行われ、摺動面の耐久性を向上することができ
る。
場合に、硬度の小さい内側メッキ層12Aへの伝播を抑
制することができ、耐久性を向上することができる。
又、前記実施例では、可動スクロール基板7aの可動側
受圧壁7dにも耐剥離性及び耐摩耗性の高い複合メッキ
層12を形成した。このため、公転位置規制リング9の
摺動面9bと受圧壁7dとの摺動動作が長期にわたって
安定して行われ、摺動面の耐久性を向上することができ
る。
【0036】さらに、前記実施例では内側メッキ層12
Aの厚さT1 を外側メッキ層12Bの厚さT2 よりも大
きくしたので、実験の結果耐剥離性を向上することがで
きることが判明した。
Aの厚さT1 を外側メッキ層12Bの厚さT2 よりも大
きくしたので、実験の結果耐剥離性を向上することがで
きることが判明した。
【0037】次に、この発明の第2実施例を図8〜図1
1に基づいて説明する。可動スクロール7に対向する固
定受圧リング11の受圧壁11aには円柱形状の一対の
自転阻止用固定素子13A1 ,13A2 が嵌入止着され
ており、スクロール基板7a側には円柱形状の一対の自
転阻止用可動素子13B1 ,13B2 が嵌入止着されて
いる。自転阻止用固定素子13A1 ,13A2 は回転軸
3の回転軸線L1 に関して180°の回転対称位置に配
置されており、自転阻止用可動素子13B1 ,13B2
はブッシュ6の中心軸線L2 に関して180°の回転対
称位置に配置されている。
1に基づいて説明する。可動スクロール7に対向する固
定受圧リング11の受圧壁11aには円柱形状の一対の
自転阻止用固定素子13A1 ,13A2 が嵌入止着され
ており、スクロール基板7a側には円柱形状の一対の自
転阻止用可動素子13B1 ,13B2 が嵌入止着されて
いる。自転阻止用固定素子13A1 ,13A2 は回転軸
3の回転軸線L1 に関して180°の回転対称位置に配
置されており、自転阻止用可動素子13B1 ,13B2
はブッシュ6の中心軸線L2 に関して180°の回転対
称位置に配置されている。
【0038】スクロール基板7aと固定受圧リング11
との間に介在された公転位置規制リング14には4つの
公転位置規制孔14a1 ,14a2 ,14b1 ,14b
2 が90°の位相差をもって周方向に配列されている。
公転位置規制孔14a1 ,14a2 は公転位置規制リン
グ14の半径中心に関して180°の回転対称位置に配
置されており、公転位置規制孔14b1 ,14b2 は公
転位置規制リング14の半径中心に関して180°の回
転対称位置に配置されている。
との間に介在された公転位置規制リング14には4つの
公転位置規制孔14a1 ,14a2 ,14b1 ,14b
2 が90°の位相差をもって周方向に配列されている。
公転位置規制孔14a1 ,14a2 は公転位置規制リン
グ14の半径中心に関して180°の回転対称位置に配
置されており、公転位置規制孔14b1 ,14b2 は公
転位置規制リング14の半径中心に関して180°の回
転対称位置に配置されている。
【0039】図11は可動スクロール7、自転阻止用固
定素子13A1 ,13A2 、自転阻止用可動素子13B
1 ,13B2 、公転位置規制リング14及びフロントハ
ウジング2の分解斜視図である。図9及び図10に示す
ように自転阻止用固定素子13A1 ,13A2 は公転位
置規制孔14a1 ,14a2 に通され、自転阻止用可動
素子13B1 ,13B2 は公転位置規制孔14b1 ,1
4b2 に通されている。
定素子13A1 ,13A2 、自転阻止用可動素子13B
1 ,13B2 、公転位置規制リング14及びフロントハ
ウジング2の分解斜視図である。図9及び図10に示す
ように自転阻止用固定素子13A1 ,13A2 は公転位
置規制孔14a1 ,14a2 に通され、自転阻止用可動
素子13B1 ,13B2 は公転位置規制孔14b1 ,1
4b2 に通されている。
【0040】公転位置規制リング14の両面には受圧突
部14A,14Bが一体形成されている。受圧突部14
A,14Bは可動スクロール7に作用する圧縮室Pにお
ける圧縮反力を固定受圧リング11の受圧壁11aに伝
える。受圧突部14A,14Bの摺動面14c,14d
は前記第1実施例と同様に曲率半径の大きい曲面形状に
してある。
部14A,14Bが一体形成されている。受圧突部14
A,14Bは可動スクロール7に作用する圧縮室Pにお
ける圧縮反力を固定受圧リング11の受圧壁11aに伝
える。受圧突部14A,14Bの摺動面14c,14d
は前記第1実施例と同様に曲率半径の大きい曲面形状に
してある。
【0041】図9及び図10の状態では互いに可動スク
ロール7が180°公転した位置関係にある。図9では
可動スクロール7の公転位置が最上動位置にあり、自転
阻止用可動素子13B1 ,13B2 は公転位置規制孔1
4b1 ,14b2 の周面に対して最上位部分に接してい
る。公転位置規制リング14はこの接触によって回転軸
3の回転軸線L1 から上方に偏位されている。従って、
公転位置規制孔14a 1 ,14a2 の周面の最下位部分
が自転阻止用固定素子13A1 ,13A2 に接触する。
ロール7が180°公転した位置関係にある。図9では
可動スクロール7の公転位置が最上動位置にあり、自転
阻止用可動素子13B1 ,13B2 は公転位置規制孔1
4b1 ,14b2 の周面に対して最上位部分に接してい
る。公転位置規制リング14はこの接触によって回転軸
3の回転軸線L1 から上方に偏位されている。従って、
公転位置規制孔14a 1 ,14a2 の周面の最下位部分
が自転阻止用固定素子13A1 ,13A2 に接触する。
【0042】図9の状態から偏心軸4が180°公転す
ると、図10に示すように可動スクロール7の公転位置
が最下動位置にくる。これにより自転阻止用可動素子1
3B 1 ,13B2 は公転位置規制孔14b1 ,14b2
の周面に対して最下位部分に接する。公転位置規制リン
グ14はこの接触によって回転軸3の回転軸線L1 から
下方に偏位され、公転位置規制孔14a1 ,14a2 の
周面の最上位部分が自転阻止用固定素子13A1 ,13
A2 に接触する。
ると、図10に示すように可動スクロール7の公転位置
が最下動位置にくる。これにより自転阻止用可動素子1
3B 1 ,13B2 は公転位置規制孔14b1 ,14b2
の周面に対して最下位部分に接する。公転位置規制リン
グ14はこの接触によって回転軸3の回転軸線L1 から
下方に偏位され、公転位置規制孔14a1 ,14a2 の
周面の最上位部分が自転阻止用固定素子13A1 ,13
A2 に接触する。
【0043】即ち、可動スクロール7の公転に伴い、自
転阻止用可動素子13B1 ,13B 2 が公転位置規制孔
14b1 ,14b2 の周面に沿って摺接する。すると、
公転位置規制リング14はこの摺接作用によって公転中
心L1 から公転している可動スクロール7の側へ付勢さ
れる。従って、自転阻止用固定素子13A1 ,13A 2
と公転位置規制孔14a1 ,14a2 との接触部分は、
自転阻止用可動素子13B1 ,13B2 と公転位置規制
孔14b1 ,14b2 の周面との接触部分に対して18
0°偏位している。
転阻止用可動素子13B1 ,13B 2 が公転位置規制孔
14b1 ,14b2 の周面に沿って摺接する。すると、
公転位置規制リング14はこの摺接作用によって公転中
心L1 から公転している可動スクロール7の側へ付勢さ
れる。従って、自転阻止用固定素子13A1 ,13A 2
と公転位置規制孔14a1 ,14a2 との接触部分は、
自転阻止用可動素子13B1 ,13B2 と公転位置規制
孔14b1 ,14b2 の周面との接触部分に対して18
0°偏位している。
【0044】公転位置規制孔14a1 ,14a2 ,14
b1 ,14b2 の径をD、自転阻止用固定素子13
A1 ,13A2 及び自転阻止用可動素子13B1 ,13
B2 の径をdとした場合、図9の状態から図10の状態
に移行すると、自転阻止用可動素子13B1 ,13B2
は2(D−d)だけ移動したことになる。この値はブッ
シュ6の公転半径rの2倍であり、従って、公転位置規
制孔14a1 ,14a2 ,14b1 ,14b2 の径D、
自転阻止用固定素子13A1 ,13A2 及び自転阻止用
可動素子13B1 ,13B2 の径d、ブッシュ6の公転
半径rの間にはD=d+2rの関係が設定されている。
この関係によって可動スクロール7の公転半径がrに規
定される。
b1 ,14b2 の径をD、自転阻止用固定素子13
A1 ,13A2 及び自転阻止用可動素子13B1 ,13
B2 の径をdとした場合、図9の状態から図10の状態
に移行すると、自転阻止用可動素子13B1 ,13B2
は2(D−d)だけ移動したことになる。この値はブッ
シュ6の公転半径rの2倍であり、従って、公転位置規
制孔14a1 ,14a2 ,14b1 ,14b2 の径D、
自転阻止用固定素子13A1 ,13A2 及び自転阻止用
可動素子13B1 ,13B2 の径d、ブッシュ6の公転
半径rの間にはD=d+2rの関係が設定されている。
この関係によって可動スクロール7の公転半径がrに規
定される。
【0045】一対の自転阻止用可動素子13B1 ,13
B2 にはブッシュ6の回転軸線L2の回りに公転しよう
とする力が作用する。自転阻止用可動素子13B1 ,1
3B 2 に対して公転位置規制リング14の周方向へ略9
0°の角度差で配置された一対の自転阻止用固定素子1
3A1 ,13A2 はフロントハウジング2に固定されて
いる。従って、公転位置規制孔14a1 に接する自転阻
止用固定素子13A1は公転位置規制リング14の一方
向への回動を阻止し、公転位置規制孔14a2に接する
自転阻止用固定素子13A2 は公転位置規制リング14
の他方向への回動を阻止する。この回動阻止は可動スク
ロール7の全ての公転位置に対して生じる。従って、可
動スクロール7がブッシュ6の中心軸線L2 を中心に自
転することはない。
B2 にはブッシュ6の回転軸線L2の回りに公転しよう
とする力が作用する。自転阻止用可動素子13B1 ,1
3B 2 に対して公転位置規制リング14の周方向へ略9
0°の角度差で配置された一対の自転阻止用固定素子1
3A1 ,13A2 はフロントハウジング2に固定されて
いる。従って、公転位置規制孔14a1 に接する自転阻
止用固定素子13A1は公転位置規制リング14の一方
向への回動を阻止し、公転位置規制孔14a2に接する
自転阻止用固定素子13A2 は公転位置規制リング14
の他方向への回動を阻止する。この回動阻止は可動スク
ロール7の全ての公転位置に対して生じる。従って、可
動スクロール7がブッシュ6の中心軸線L2 を中心に自
転することはない。
【0046】この第2実施例では、公転位置規制孔14
a1 ,14a2 ,14b1 ,14b 2 の個数はそれぞれ
2個あればよい。従って、高い加工精度を要求される公
転位置規制孔の加工時間を短くでき、コストも低減す
る。
a1 ,14a2 ,14b1 ,14b 2 の個数はそれぞれ
2個あればよい。従って、高い加工精度を要求される公
転位置規制孔の加工時間を短くでき、コストも低減す
る。
【0047】又、この第2実施例においても摺動面14
cと受圧壁11aとの間、及び摺動面14dとスクロー
ル基板7aとの間には僅かな接触部位以外では間隙がで
きる。この間隙には冷媒ガス中の潤滑油が進入し、摺動
面14c,14dの全体が常に潤滑される。そのため、
受圧壁11aと摺動面14cとの摺接、及びスクロール
基板7aと摺動面14dとの摺接は常に適度の潤滑を受
けて行われることになり、摺動面14c,14dが摩耗
するようなことはない。
cと受圧壁11aとの間、及び摺動面14dとスクロー
ル基板7aとの間には僅かな接触部位以外では間隙がで
きる。この間隙には冷媒ガス中の潤滑油が進入し、摺動
面14c,14dの全体が常に潤滑される。そのため、
受圧壁11aと摺動面14cとの摺接、及びスクロール
基板7aと摺動面14dとの摺接は常に適度の潤滑を受
けて行われることになり、摺動面14c,14dが摩耗
するようなことはない。
【0048】さらに、この第2実施例でも前記受圧突部
14A,14Bの摺動面14c,14dに露出するシリ
コン粒子の面積を大きくしているので、第1実施例と同
様に摺動面の摩耗を抑制し、焼き付きを防止することが
できる。
14A,14Bの摺動面14c,14dに露出するシリ
コン粒子の面積を大きくしているので、第1実施例と同
様に摺動面の摩耗を抑制し、焼き付きを防止することが
できる。
【0049】なお、この発明は前記各実施例に限定され
るものではなく、次のように具体化することもできる。 (1)図示しないが、前記フロントハウジング2の固定
側受圧壁2aに対し複合メッキ層12を形成し、この壁
2aに前記受圧突部9A(14A)の摺動面9a(14
c)を摺動すること。
るものではなく、次のように具体化することもできる。 (1)図示しないが、前記フロントハウジング2の固定
側受圧壁2aに対し複合メッキ層12を形成し、この壁
2aに前記受圧突部9A(14A)の摺動面9a(14
c)を摺動すること。
【0050】(2)複合メッキ層12を固定スクロール
1側に形成すること。 (3)前記内側メッキ層12Aとして、ニッケル−リン
(Ni−P)合金を使用し、外側メッキ層12Bとして
ニッケル−リン−窒化珪素(Ni−P−Si3N4 )合
金、ニッケル−リン−ボロンナイトライド(Ni−P−
BN)合金、あるいはニッケル−リン−コバルト(Ni
−P−Co)合金等を使用すること。又、ニッケル−リ
ン−コバルト(Ni−P−Co)合金により内側メッキ
層12Aを形成し、外側メッキ層12Bとして該メッキ
層12Bより硬度の大きい前述したニッケル−ボロン
(Ni−B)合金、ニッケル−リン−窒化珪素(Ni−
P−Si3 N4 )合金、あるいはニッケル−リン−ボロ
ン−ナイトライド(Ni−P−BN)合金等を使用する
こと。
1側に形成すること。 (3)前記内側メッキ層12Aとして、ニッケル−リン
(Ni−P)合金を使用し、外側メッキ層12Bとして
ニッケル−リン−窒化珪素(Ni−P−Si3N4 )合
金、ニッケル−リン−ボロンナイトライド(Ni−P−
BN)合金、あるいはニッケル−リン−コバルト(Ni
−P−Co)合金等を使用すること。又、ニッケル−リ
ン−コバルト(Ni−P−Co)合金により内側メッキ
層12Aを形成し、外側メッキ層12Bとして該メッキ
層12Bより硬度の大きい前述したニッケル−ボロン
(Ni−B)合金、ニッケル−リン−窒化珪素(Ni−
P−Si3 N4 )合金、あるいはニッケル−リン−ボロ
ン−ナイトライド(Ni−P−BN)合金等を使用する
こと。
【0051】(4)前記第1及び第2の実施例におい
て、受圧突部の摺動面の形状を、公転位置規制リングの
周縁側のみ凸曲面とすること。このような曲面形状によ
っても公転位置規制リングが傾いたときの摺動面の周縁
の片当たりを回避でき、かつ摺動面とその摺接対象との
間の潤滑が良好に行われる。
て、受圧突部の摺動面の形状を、公転位置規制リングの
周縁側のみ凸曲面とすること。このような曲面形状によ
っても公転位置規制リングが傾いたときの摺動面の周縁
の片当たりを回避でき、かつ摺動面とその摺接対象との
間の潤滑が良好に行われる。
【0052】
【発明の効果】以上詳述したように本発明は、可動スク
ロールの基板と固定側受圧壁との間に公転位置規制リン
グを介在するとともに、公転位置規制リング上に受圧部
を設けたので、自転阻止機能を受け持つ自転阻止用素子
の個数及び高い加工精度を要する公転位置規制孔の個数
を減らして構造を簡素化し、加工工程の簡略化を図るこ
とができる効果がある。又、可動スクロール基板の背面
とハウジングの固定側受圧壁との間で圧縮反力を受けつ
つ摺接する公転位置規制リングの受圧部の焼き付きを防
止して耐久性を向上することができるという優れた効果
を奏する。
ロールの基板と固定側受圧壁との間に公転位置規制リン
グを介在するとともに、公転位置規制リング上に受圧部
を設けたので、自転阻止機能を受け持つ自転阻止用素子
の個数及び高い加工精度を要する公転位置規制孔の個数
を減らして構造を簡素化し、加工工程の簡略化を図るこ
とができる効果がある。又、可動スクロール基板の背面
とハウジングの固定側受圧壁との間で圧縮反力を受けつ
つ摺接する公転位置規制リングの受圧部の焼き付きを防
止して耐久性を向上することができるという優れた効果
を奏する。
【0053】又、請求項2記載の発明は、請求項1記載
の発明の効果に加えて、シリコンの含有率が高いアルミ
ニウム−シリコン合金により受圧部が形成されているの
で、受圧部の摺動面に露出するシリコン粒子の面積が増
大し、該摺動面と受圧壁の摺動面との摩耗や焼き付きを
より確実に防止して耐久性を向上することができる効果
を奏する。
の発明の効果に加えて、シリコンの含有率が高いアルミ
ニウム−シリコン合金により受圧部が形成されているの
で、受圧部の摺動面に露出するシリコン粒子の面積が増
大し、該摺動面と受圧壁の摺動面との摩耗や焼き付きを
より確実に防止して耐久性を向上することができる効果
を奏する。
【0054】さらに、請求項3記載の発明は、公転位置
規制リングの受圧部の摺動面におけるシリコン粒子の露
出度が大きいので、摺動面の焼き付きをより確実に防止
して耐久性をさらに向上することができる効果がある。
規制リングの受圧部の摺動面におけるシリコン粒子の露
出度が大きいので、摺動面の焼き付きをより確実に防止
して耐久性をさらに向上することができる効果がある。
【図1】本発明を具体化した第1実施例のスクロール型
圧縮機の縦断面図である。
圧縮機の縦断面図である。
【図2】図1のA−A線断面図である。
【図3】図2の状態から可動スクロールを180°公転
した状態を示す断面図である。
した状態を示す断面図である。
【図4】フロントハウジング、自転阻止機構及び可動ス
クロールの分解斜視図である。
クロールの分解斜視図である。
【図5】(a)は要部の拡大断面図、(b)は比較例を
示す断面図である。
示す断面図である。
【図6】シリコン粒子の露出面積と欠け面積の説明図で
ある。
ある。
【図7】複合メッキ層の断面図である。
【図8】この発明の第2実施例を示すスクロール型圧縮
機の縦断面図である。
機の縦断面図である。
【図9】図8のB−B線断面図である。
【図10】図9の状態から可動スクロールを180°公
転した状態を示す断面図である。
転した状態を示す断面図である。
【図11】フロントハウジング、自転阻止機構及び可動
スクロールの分解斜視図である。
スクロールの分解斜視図である。
1…固定スクロール、2…フロントハウジング、2a…
固定側受圧壁、3…回転軸、4…偏心軸、7…可動スク
ロール、7a…スクロール基板、7c…公転位置規制
孔、7d…固定側受圧壁、9…公転位置規制リング、9
A,9B…受圧部としての受圧突部、9a,9b…先端
摺動面、10…自転阻止用素子、11…固定受圧リン
グ、11a…受圧壁、11b…公転位置規制孔、13A
1 ,13A2…自転阻止用固定素子、13B1 ,13B
2 …自転阻止用可動素子、14…公転位置規制リング、
14a1 ,14a2 ,14b1 ,14b2 …公転位置規
制孔、14A,14B…受圧突部、K…自転阻止機構、
P…圧縮室。
固定側受圧壁、3…回転軸、4…偏心軸、7…可動スク
ロール、7a…スクロール基板、7c…公転位置規制
孔、7d…固定側受圧壁、9…公転位置規制リング、9
A,9B…受圧部としての受圧突部、9a,9b…先端
摺動面、10…自転阻止用素子、11…固定受圧リン
グ、11a…受圧壁、11b…公転位置規制孔、13A
1 ,13A2…自転阻止用固定素子、13B1 ,13B
2 …自転阻止用可動素子、14…公転位置規制リング、
14a1 ,14a2 ,14b1 ,14b2 …公転位置規
制孔、14A,14B…受圧突部、K…自転阻止機構、
P…圧縮室。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 井口 雅夫 愛知県刈谷市豊田町2丁目1番地 株式会 社豊田自動織機製作所内
Claims (3)
- 【請求項1】 ハウジング内に設けた固定スクロール
と、この固定スクロールに対向して自転阻止機構により
自転不能に、かつ公転可能に支持された可動スクロール
との間に該可動スクロールの公転に基づいて容積減少す
る圧縮室を形成するスクロール型圧縮機において、 前記可動スクロールに作用する圧縮室内の圧縮反力を受
け止めるハウジングの固定側受圧壁と可動スクロールの
基板背面との間に公転位置規制リングを介在し、該公転
位置規制リング及び前記固定側受圧壁のうち一方に複数
の自転阻止用素子を周方向に配列し、他方に前記各自転
阻止用素子を緩く係合する公転位置規制孔を周方向に配
列するとともに、前記公転位置規制リング及び可動スク
ロール基板の可動側受圧壁にも前記公転位置規制孔及び
自転阻止用素子と同様の公転位置規制孔及び自転阻止用
素子を設けて前記自転阻止機構を構成し、前記可動スク
ロールに作用する圧縮室内の圧縮反力を前記可動側受圧
壁から固定側受圧壁に伝えるための受圧部を前記公転位
置規制リングの両面に一体に設け、さらに公転位置規制
リング及び受圧部をアルミニウム−シリコン合金により
形成し、前記受圧部の摺動面におけるシリコン粒子を露
出したスクロール型圧縮機。 - 【請求項2】 請求項1において公転位置規制リングは
シリコンの重量含有率が12〜20%であるアルミニウ
ム−シリコン合金により形成されているスクロール型圧
縮機。 - 【請求項3】 請求項1において前記受圧部の摺動面に
おけるシリコン粒子の露出度を40%以上としたスクロ
ール型圧縮機。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP23685993A JPH0791381A (ja) | 1993-09-22 | 1993-09-22 | スクロール型圧縮機 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP23685993A JPH0791381A (ja) | 1993-09-22 | 1993-09-22 | スクロール型圧縮機 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH0791381A true JPH0791381A (ja) | 1995-04-04 |
Family
ID=17006863
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP23685993A Pending JPH0791381A (ja) | 1993-09-22 | 1993-09-22 | スクロール型圧縮機 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH0791381A (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2005076610A (ja) * | 2003-09-03 | 2005-03-24 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | スクロール圧縮機 |
-
1993
- 1993-09-22 JP JP23685993A patent/JPH0791381A/ja active Pending
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2005076610A (ja) * | 2003-09-03 | 2005-03-24 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | スクロール圧縮機 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP3561929B2 (ja) | スクロール型圧縮機 | |
JP2682790B2 (ja) | スクロール型圧縮機 | |
JPS581278B2 (ja) | スクロ−ル型圧縮機 | |
JPH07109983A (ja) | スクロール型圧縮機 | |
JPH08319981A (ja) | スクロール型圧縮機 | |
JP3018850B2 (ja) | スクロール型圧縮機 | |
JPH01167481A (ja) | スクロール型圧縮機 | |
JPH02308991A (ja) | スクロール型圧縮機 | |
JPH0791381A (ja) | スクロール型圧縮機 | |
JPH0668276B2 (ja) | 公転型圧縮機 | |
US5478223A (en) | Scroll type compressor having reaction force transmission and rotation prevention for the moveable scroll | |
JPH06264875A (ja) | スクロール型圧縮機 | |
JPH08219053A (ja) | スクロール型圧縮機 | |
JP2590507B2 (ja) | スクロール型圧縮機 | |
US5462418A (en) | Scroll type compressor equipped with mechanism for receiving reaction force of compressed gas | |
JP2595865Y2 (ja) | スクロール型圧縮機 | |
JP2592344Y2 (ja) | スクロール型圧縮機 | |
JPH02149785A (ja) | スクロール圧縮機 | |
JPH05321850A (ja) | スクロール型圧縮機 | |
JP3468378B2 (ja) | スクロール型圧縮機 | |
JPH0849671A (ja) | スクロール型圧縮機 | |
JPH0392590A (ja) | スクロール型圧縮機 | |
JPH11223185A (ja) | スクロール型流体機械における可動スクロールの自転阻止機構 | |
JPS6325345Y2 (ja) | ||
JPH074364A (ja) | スクロール型圧縮機 |