JPH0786497A - インテリジェントパワーモジュール - Google Patents
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- H05K1/142—Arrangements of planar printed circuit boards in the same plane, e.g. auxiliary printed circuit insert mounted in a main printed circuit
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- H05K—PRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
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- H05K3/22—Secondary treatment of printed circuits
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Abstract
(57)【要約】
【目的】 小型で大電流対応のインテリジェントパワー
モジュールを提供する。 【構成】 セラミック板4上に搭載したパワーデバイス
チップ7よりなるインバータ部10と、樹脂基板14上
に搭載した制御デバイス8よりなる制御部11とが同一
の金属基板1上に接合され、樹脂外周ケース17により
包囲された領域がシリコンゲール18,エポキシ樹脂1
9で埋め込まれた構成とした。大電流容量を必要とする
インバータ部10にはセラミック板4を用いたので、配
線用の金属膜5を厚膜で形成でき、制御部11の制御デ
バイス8は微細配線された樹脂基板14の金属膜15上
に搭載されるので、小型でしかも大電流容量に対応でき
るインテリジェントパワーモジュールを実現することが
できた。
モジュールを提供する。 【構成】 セラミック板4上に搭載したパワーデバイス
チップ7よりなるインバータ部10と、樹脂基板14上
に搭載した制御デバイス8よりなる制御部11とが同一
の金属基板1上に接合され、樹脂外周ケース17により
包囲された領域がシリコンゲール18,エポキシ樹脂1
9で埋め込まれた構成とした。大電流容量を必要とする
インバータ部10にはセラミック板4を用いたので、配
線用の金属膜5を厚膜で形成でき、制御部11の制御デ
バイス8は微細配線された樹脂基板14の金属膜15上
に搭載されるので、小型でしかも大電流容量に対応でき
るインテリジェントパワーモジュールを実現することが
できた。
Description
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、微細配線可能で大電流
容量対応、小型パッケージで構成されたインテリジェン
トパワーモジュールに関するものである。
容量対応、小型パッケージで構成されたインテリジェン
トパワーモジュールに関するものである。
【0002】
【従来の技術】インテリジェントパワーモジュールは、
パワーデバイスチップとその制御部を一体化したものと
して、近年脚光をあびている。
パワーデバイスチップとその制御部を一体化したものと
して、近年脚光をあびている。
【0003】以下、従来のインテリジェントパワーモジ
ュールについて、図面を参照しながら説明する。
ュールについて、図面を参照しながら説明する。
【0004】従来のインテリジェントパワーモジュール
の一つに、図2に示すように、一枚の金属板1上に低温
半田2を介して形成した金属膜3を底面に備えたセラミ
ック板4を設け、このセラミック板4上の目的とする箇
所に部分的に金属膜5を形成し、金属膜5上に高温半田
6でパワーデバイスチップ7a,7bを、また低温半田
2で制御用デバイス8a,8bをそれぞれ接合し、パワ
ーデバイスチップ7a,7bの電極と金属膜5とを金属
細線9で配線したものがある。パワーデバイスチップ7
a,7bの領域をインバータ部10、制御用デバイス8
a,8bの領域を制御部11としている。
の一つに、図2に示すように、一枚の金属板1上に低温
半田2を介して形成した金属膜3を底面に備えたセラミ
ック板4を設け、このセラミック板4上の目的とする箇
所に部分的に金属膜5を形成し、金属膜5上に高温半田
6でパワーデバイスチップ7a,7bを、また低温半田
2で制御用デバイス8a,8bをそれぞれ接合し、パワ
ーデバイスチップ7a,7bの電極と金属膜5とを金属
細線9で配線したものがある。パワーデバイスチップ7
a,7bの領域をインバータ部10、制御用デバイス8
a,8bの領域を制御部11としている。
【0005】また、図3に示すように、一枚の金属基板
1上に有機絶縁層12で絶縁された金属膜5を目的とす
る箇所に部分的に設け、この金属膜5上に、パワーデバ
イスチップ7a,7bを高温半田6でヒートスプレット
台座13に接合したものを低温半田2で接合し、パワー
デバイスチップ7a,7bと金属膜5とを金属細線9で
接続して、インバータ部10を形成し、またインバータ
部10と近接した箇所の金属基板1上の有機絶縁層12
上には、ガラスクロスエポキシ等の樹脂基板14を金属
膜5と同一面になるように金属膜15を介して設け、樹
脂基板14上の目的とする箇所に金属膜15を部分的に
設けて、制御用デバイス8a,8bを低温半田2で接合
して制御部11を形成したものがある。インバータ部1
0では、パワーデバイスチップ7a,7bの発熱を底部
に設けたヒートスプレット台座13により下方へ逃がし
ている。
1上に有機絶縁層12で絶縁された金属膜5を目的とす
る箇所に部分的に設け、この金属膜5上に、パワーデバ
イスチップ7a,7bを高温半田6でヒートスプレット
台座13に接合したものを低温半田2で接合し、パワー
デバイスチップ7a,7bと金属膜5とを金属細線9で
接続して、インバータ部10を形成し、またインバータ
部10と近接した箇所の金属基板1上の有機絶縁層12
上には、ガラスクロスエポキシ等の樹脂基板14を金属
膜5と同一面になるように金属膜15を介して設け、樹
脂基板14上の目的とする箇所に金属膜15を部分的に
設けて、制御用デバイス8a,8bを低温半田2で接合
して制御部11を形成したものがある。インバータ部1
0では、パワーデバイスチップ7a,7bの発熱を底部
に設けたヒートスプレット台座13により下方へ逃がし
ている。
【0006】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら前記従来
の構成では、まず金属板1にセラミック板4を設けた従
来例の場合、前記セラミック板4上に設けた金属膜3,
5の厚みが約300〜500μmと非常に厚く、金属膜
3,5で制御部の回路配線を形成する場合、配線の微細
化が困難であった。そのため、実装密度を高められず、
パッケージの小型化ができなかった。
の構成では、まず金属板1にセラミック板4を設けた従
来例の場合、前記セラミック板4上に設けた金属膜3,
5の厚みが約300〜500μmと非常に厚く、金属膜
3,5で制御部の回路配線を形成する場合、配線の微細
化が困難であった。そのため、実装密度を高められず、
パッケージの小型化ができなかった。
【0007】また一方、金属基板1上にガラスクロスエ
ポキシ等の樹脂基板14を設けた従来例の場合には、樹
脂基板14の金属膜15(主に銅,表面のメッキも可)
の厚みが約40μm以下であり、制御部の微細配線が可
能である。しかし、金属板1上に有機絶縁層12を介し
てパワーデバイスチップで構成されるインバータ部の金
属膜5の厚みを、前記インバータ部で必要とされる電流
容量に耐え得る膜厚まで厚くすることは、製造工程にお
いて銅材をロール状で扱うのがむずかしくなるなどの理
由により、現段階の技術では、175μm以上の厚みに
形成することは非常に困難である。そのため、小型パッ
ケージは形成できても電流容量を増やすことはむずかし
く、小型で大電流対応型のインテリジェントパワーモジ
ュールを実現困難であった。
ポキシ等の樹脂基板14を設けた従来例の場合には、樹
脂基板14の金属膜15(主に銅,表面のメッキも可)
の厚みが約40μm以下であり、制御部の微細配線が可
能である。しかし、金属板1上に有機絶縁層12を介し
てパワーデバイスチップで構成されるインバータ部の金
属膜5の厚みを、前記インバータ部で必要とされる電流
容量に耐え得る膜厚まで厚くすることは、製造工程にお
いて銅材をロール状で扱うのがむずかしくなるなどの理
由により、現段階の技術では、175μm以上の厚みに
形成することは非常に困難である。そのため、小型パッ
ケージは形成できても電流容量を増やすことはむずかし
く、小型で大電流対応型のインテリジェントパワーモジ
ュールを実現困難であった。
【0008】本発明は、前記従来の課題を解決するもの
で、大電流を扱うパワーデバイスチップを搭載したイン
バータ部のセラミック板の面積は必要最小限とした小型
パッケージのインテリジェントパワーモジュールを提供
することを目的とする。
で、大電流を扱うパワーデバイスチップを搭載したイン
バータ部のセラミック板の面積は必要最小限とした小型
パッケージのインテリジェントパワーモジュールを提供
することを目的とする。
【0009】
【課題を解決するための手段】前記従来の課題を解決す
るために、本発明のインテリジェントパワーモジュール
は以下のような構成を有している。すなわち、セラミッ
ク板の表裏面に金属膜を備え、表面の金属膜上に複数個
のパワーデバイスチップを搭載して金属細線で配線して
なるインバータ部と、樹脂基板の表裏面に金属膜を備
え、表面の金属膜上に複数個の半導体素子を搭載してな
る制御部とを備え、前記インバータ部と前記制御部とを
含む領域を樹脂で埋め込んだことを特徴とする。
るために、本発明のインテリジェントパワーモジュール
は以下のような構成を有している。すなわち、セラミッ
ク板の表裏面に金属膜を備え、表面の金属膜上に複数個
のパワーデバイスチップを搭載して金属細線で配線して
なるインバータ部と、樹脂基板の表裏面に金属膜を備
え、表面の金属膜上に複数個の半導体素子を搭載してな
る制御部とを備え、前記インバータ部と前記制御部とを
含む領域を樹脂で埋め込んだことを特徴とする。
【0010】また前記インバータ部のセラミック板の表
裏面に設けられた金属膜の厚みが、前記制御部の樹脂基
板の表裏面に設けられた金属膜の厚みよりも大きいこと
を特徴とする。
裏面に設けられた金属膜の厚みが、前記制御部の樹脂基
板の表裏面に設けられた金属膜の厚みよりも大きいこと
を特徴とする。
【0011】
【作用】前記構成により、大電流容量を必要とするイン
バータ部領域には、セラミック板を用いているので、配
線用の金属膜を厚膜で形成でき、微細配線形成が必要な
制御部領域には、樹脂基板を用いているので、きわめて
薄い金属膜が形成できる。そして、インバータ部領域と
制御部領域とを同一の金属板上に並べて配置することに
より、セラミック板の面積は必要最小限であり、制御部
の制御デバイスは微細配線された樹脂基板の金属膜上に
搭載されるので、小型でしかも大電流容量に対応できる
インテリジェントパワーモジュールを実現することがで
きる。
バータ部領域には、セラミック板を用いているので、配
線用の金属膜を厚膜で形成でき、微細配線形成が必要な
制御部領域には、樹脂基板を用いているので、きわめて
薄い金属膜が形成できる。そして、インバータ部領域と
制御部領域とを同一の金属板上に並べて配置することに
より、セラミック板の面積は必要最小限であり、制御部
の制御デバイスは微細配線された樹脂基板の金属膜上に
搭載されるので、小型でしかも大電流容量に対応できる
インテリジェントパワーモジュールを実現することがで
きる。
【0012】
【実施例】本発明の一実施例について、図面を参照しな
がら説明する。図1は本実施例の断面図である。
がら説明する。図1は本実施例の断面図である。
【0013】本実施例のインテリジェントパワーモジュ
ールは、裏面に配線用の銅材よりなる金属膜3を300
〜500μm厚で形成したセラミック板4が、銅板より
なる金属板1上の目的とする領域に、共晶半田などの低
温半田2で固着され、前記セラミック板4上の目的とす
る領域に部分的に銅材よりなる金属膜5が300〜50
0μm厚で形成されている。金属膜3,5は微細配線を
目的とせず、大電流対応を目的としているので、厚膜で
形成されている。また、セラミック板4は600μm厚
で形成されている。そして、金属膜5上にパワーデバイ
スチップ7a,7bが高温半田6で接合されている。パ
ワーデバイスチップ7a,7bと他の金属膜5とがアル
ミニウムよりなる金属細線9で接続されている。セラミ
ック板4上に搭載されたパワーデバイスチップ7a,7
bにより、インバータ部10が形成されている。
ールは、裏面に配線用の銅材よりなる金属膜3を300
〜500μm厚で形成したセラミック板4が、銅板より
なる金属板1上の目的とする領域に、共晶半田などの低
温半田2で固着され、前記セラミック板4上の目的とす
る領域に部分的に銅材よりなる金属膜5が300〜50
0μm厚で形成されている。金属膜3,5は微細配線を
目的とせず、大電流対応を目的としているので、厚膜で
形成されている。また、セラミック板4は600μm厚
で形成されている。そして、金属膜5上にパワーデバイ
スチップ7a,7bが高温半田6で接合されている。パ
ワーデバイスチップ7a,7bと他の金属膜5とがアル
ミニウムよりなる金属細線9で接続されている。セラミ
ック板4上に搭載されたパワーデバイスチップ7a,7
bにより、インバータ部10が形成されている。
【0014】そして、金属板1上のセラミック板4を設
けた以外の領域に、裏面に配線用の金属膜15を形成し
たガラスクロスエポキシ樹脂よりなる樹脂基板14が、
低温半田2を介して設けられ、樹脂基板14上には目的
とする領域に部分的に金属膜15が30〜50μm厚で
形成されている。金属膜15は微細配線を目的としてい
るので、きわめて薄い膜厚で形成されている。また、樹
脂基板14は1000μm厚で形成されている。そし
て、金属膜15上に各種保護機能を持った半導体集積回
路素子および周辺回路素子などの制御用デバイス8a,
8bが高温半田6で接合されている。制御用デバイス8
a,8bと他の金属膜15とが金属細線9で接続されて
いる。樹脂基板14上に搭載された制御用デバイス8
a,8bにより、制御部11が形成されている。また、
インバータ部10と制御部11との間はアルミニウムよ
りなる金属細線9で接続されている。
けた以外の領域に、裏面に配線用の金属膜15を形成し
たガラスクロスエポキシ樹脂よりなる樹脂基板14が、
低温半田2を介して設けられ、樹脂基板14上には目的
とする領域に部分的に金属膜15が30〜50μm厚で
形成されている。金属膜15は微細配線を目的としてい
るので、きわめて薄い膜厚で形成されている。また、樹
脂基板14は1000μm厚で形成されている。そし
て、金属膜15上に各種保護機能を持った半導体集積回
路素子および周辺回路素子などの制御用デバイス8a,
8bが高温半田6で接合されている。制御用デバイス8
a,8bと他の金属膜15とが金属細線9で接続されて
いる。樹脂基板14上に搭載された制御用デバイス8
a,8bにより、制御部11が形成されている。また、
インバータ部10と制御部11との間はアルミニウムよ
りなる金属細線9で接続されている。
【0015】すなわち、パワーデバイスチップ7a,7
bを搭載するインバータ部10領域を、配線用の金属膜
3,5を厚くできるセラミック板4で形成し、微細配線
を必要とする制御部11領域を、ガラスクロスエポキシ
樹脂よりなる樹脂基板14で形成し、これらインバータ
部10領域と前記制御部11とを同一の金属板1上に並
べて配置している。
bを搭載するインバータ部10領域を、配線用の金属膜
3,5を厚くできるセラミック板4で形成し、微細配線
を必要とする制御部11領域を、ガラスクロスエポキシ
樹脂よりなる樹脂基板14で形成し、これらインバータ
部10領域と前記制御部11とを同一の金属板1上に並
べて配置している。
【0016】そして、銅材による外部接続用端子16が
インバータ部10の金属膜5と制御部11の金属膜15
とに接続され、金属板1周辺に外囲器として樹脂外周ケ
ース17が接着され、包囲されている。樹脂外周ケース
17により囲まれたインバータ部10と制御部11の領
域は、まず第1の樹脂としてシリコーンゲル18で埋め
られ、次に第2の樹脂として液状エポキシ樹脂19で埋
められ、熱硬化されている。前述のように第1の樹脂と
してシリコーンゲル18と、第2の樹脂として液状エポ
キシ樹脂19との二段樹脂で埋め込むことにより、第1
の樹脂としてのシリコーンゲル18で樹脂封止した際の
応力を緩和し、インバータ部10と制御部11とを応力
破壊から保護でき、また絶縁性を保護できる。そして、
第2の樹脂としての液状エポキシ樹脂19でシリコーン
ゲル18を固定し、液状エポキシ樹脂19自体は熱硬化
するので、パッケージを固定できるという効果がある。
インバータ部10の金属膜5と制御部11の金属膜15
とに接続され、金属板1周辺に外囲器として樹脂外周ケ
ース17が接着され、包囲されている。樹脂外周ケース
17により囲まれたインバータ部10と制御部11の領
域は、まず第1の樹脂としてシリコーンゲル18で埋め
られ、次に第2の樹脂として液状エポキシ樹脂19で埋
められ、熱硬化されている。前述のように第1の樹脂と
してシリコーンゲル18と、第2の樹脂として液状エポ
キシ樹脂19との二段樹脂で埋め込むことにより、第1
の樹脂としてのシリコーンゲル18で樹脂封止した際の
応力を緩和し、インバータ部10と制御部11とを応力
破壊から保護でき、また絶縁性を保護できる。そして、
第2の樹脂としての液状エポキシ樹脂19でシリコーン
ゲル18を固定し、液状エポキシ樹脂19自体は熱硬化
するので、パッケージを固定できるという効果がある。
【0017】なお、本実施例では、セラミック板4を形
成している領域は、半分の領域としているが、領域はパ
ワーデバイスチップ7a,7bの大きさ、数等により調
整することが可能である。また、配線用の銅材よりなる
金属膜3,5はセラミック板4に対してエポキシ系接着
剤により接合されている。そして、金属細線9はアルミ
ニウム線に限定するものではなく、金線でも適用でき
る。
成している領域は、半分の領域としているが、領域はパ
ワーデバイスチップ7a,7bの大きさ、数等により調
整することが可能である。また、配線用の銅材よりなる
金属膜3,5はセラミック板4に対してエポキシ系接着
剤により接合されている。そして、金属細線9はアルミ
ニウム線に限定するものではなく、金線でも適用でき
る。
【0018】また、セラミック板4に接合している金属
膜3,5は、たとえば500μm厚で100A以上の大
電流にも対応できる。また、制御部11のガラスクロス
エポキシ樹脂よりなる樹脂基板14に接合している金属
膜15は、35μm厚で0.45mmピッチの微細配線
を形成できるものである。
膜3,5は、たとえば500μm厚で100A以上の大
電流にも対応できる。また、制御部11のガラスクロス
エポキシ樹脂よりなる樹脂基板14に接合している金属
膜15は、35μm厚で0.45mmピッチの微細配線
を形成できるものである。
【0019】本実施例のインテリジェントパワーモジュ
ールのインバータ部10領域はセラミック板4を用いて
厚膜の金属膜3,5を形成しているので、100A以上
の大電流で動作しても対応でき、制御部11領域は樹脂
基板14に金属膜15を微細配線させているので、実装
面積の縮小が図れる。
ールのインバータ部10領域はセラミック板4を用いて
厚膜の金属膜3,5を形成しているので、100A以上
の大電流で動作しても対応でき、制御部11領域は樹脂
基板14に金属膜15を微細配線させているので、実装
面積の縮小が図れる。
【0020】ゆえに本実施例に示す技術により、大電流
に対応した小型のインテリジェントパワーモジュールを
実現できる。
に対応した小型のインテリジェントパワーモジュールを
実現できる。
【0021】
【発明の効果】本発明のインテリジェントパワーモジュ
ールは、パワーデバイスチップを搭載するインバータ部
領域は、配線金属膜を厚くできるセラミック板で形成
し、微細配線を必要とする制御部領域は、ガラスクロス
エポキシ等の樹脂基板で形成し、前記インバータ部領域
と前記制御部領域とを同一の金属板上に並べて配置する
ことにより、大電流を扱うパワーデバイスチップを載置
するセラミック板の面積を必要最小限とした小型パッケ
ージのインテリジェントパワーモジュールを実現でき、
回路形成にセラミックを全面採用した場合と比較して、
パッケージ面積を約20%低減することができた。
ールは、パワーデバイスチップを搭載するインバータ部
領域は、配線金属膜を厚くできるセラミック板で形成
し、微細配線を必要とする制御部領域は、ガラスクロス
エポキシ等の樹脂基板で形成し、前記インバータ部領域
と前記制御部領域とを同一の金属板上に並べて配置する
ことにより、大電流を扱うパワーデバイスチップを載置
するセラミック板の面積を必要最小限とした小型パッケ
ージのインテリジェントパワーモジュールを実現でき、
回路形成にセラミックを全面採用した場合と比較して、
パッケージ面積を約20%低減することができた。
【図1】本発明の一実施例のインテリジェントパワーモ
ジュールの断面図
ジュールの断面図
【図2】従来のインテリジェントパワーモジュールの一
例の断面図
例の断面図
【図3】従来のインテリジェントパワーモジュールの他
の例の断面図
の例の断面図
1 金属板 2 低温半田 3 金属膜 4 セラミック板 5 金属膜 6 高温半田 7a,7b パワーデバイスチップ 8a,8b 制御用デバイス 9 金属細線 10 インバータ部 11 制御部 14 樹脂基板 15 金属膜 16 外部接続用端子 17 樹脂外周ケース 18 シリコーンゲル 19 液状エポキシ樹脂
Claims (4)
- 【請求項1】 セラミック板の表裏面に設けられた金属
膜と、前記セラミック板の表面に設けられた前記金属膜
上に搭載したパワーデバイスチップと、前記パワーデバ
イスチップと前記金属膜とを接続した金属線よりなるイ
ンバータ部と、樹脂基板の表裏面に設けられた金属膜
と、前記樹脂基板の表面に設けられた前記金属膜上に搭
載した半導体素子とよりなる制御部と、前記インバータ
部と前記制御部とが接合された基板と、前記インバータ
部と前記制御部とを接続した金属線と、前記インバータ
部の前記セラミック板の表面の金属膜に接合された外部
接続端子と、前記制御部の前記樹脂基板の表面の金属膜
に接合された外部接続端子と、前記インバータ部と前記
制御部が配置された基板周辺を包囲した外囲器と、前記
外囲器で包囲された前記インバータ部と前記制御部とを
含む領域を埋め込んだ樹脂とからなることを特徴とする
インテリジェントパワーモジュール。 - 【請求項2】 セラミック板の表裏面に設けられた金属
膜と、前記セラミック板の表面に設けられた前記金属膜
上に搭載した複数個のパワーデバイスチップと、前記パ
ワーデバイスチップと前記金属膜とを接続した金属細線
とよりなるインバータ部と、樹脂基板の表裏面に設けら
れた金属膜と、前記樹脂基板の表面に設けられた前記金
属膜上に搭載した複数個の半導体素子とよりなる制御部
と、前記インバータ部と前記制御部とが接合された基板
と、前記インバータ部と前記制御部とを接続した金属細
線と、前記インバータ部の前記セラミック板の表面の金
属膜に接合された外部接続端子と、前記制御部の前記樹
脂基板の表面の金属膜に接合された外部接続端子と、前
記インバータ部と前記制御部が配置された基板周辺を包
囲した外囲器と、前記外囲器で包囲された前記インバー
タ部と前記制御部とを含む領域を埋め込んだ第1の樹脂
と、前記第1の樹脂上に積層され、前記インバータ部と
前記制御部とを含む領域を埋め込んだ第2の樹脂とから
なることを特徴とする請求項1記載のインテリジェント
パワーモジュール。 - 【請求項3】 セラミック板の表裏面に設けられた金属
膜の厚みが、樹脂基板の表裏面に設けられた金属膜の厚
みよりも厚いことを特徴とする請求項1または請求項2
記載のインテリジェントパワーモジュール。 - 【請求項4】 第1の樹脂が非熱硬化型のシリコーンゲ
ルであり、第2の樹脂が熱硬化型のエポキシ樹脂である
ことを特徴とする請求項2記載のインテリジェントパワ
ーモジュール。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP5228574A JPH0786497A (ja) | 1993-09-14 | 1993-09-14 | インテリジェントパワーモジュール |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP5228574A JPH0786497A (ja) | 1993-09-14 | 1993-09-14 | インテリジェントパワーモジュール |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH0786497A true JPH0786497A (ja) | 1995-03-31 |
Family
ID=16878501
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP5228574A Pending JPH0786497A (ja) | 1993-09-14 | 1993-09-14 | インテリジェントパワーモジュール |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH0786497A (ja) |
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2008187146A (ja) * | 2007-01-31 | 2008-08-14 | Sanyo Electric Co Ltd | 回路装置 |
JP2008187145A (ja) * | 2007-01-31 | 2008-08-14 | Sanyo Electric Co Ltd | 回路装置 |
CN113594154A (zh) * | 2021-06-16 | 2021-11-02 | 北京无线电测量研究所 | 一种射频收发前端封装结构及系统 |
-
1993
- 1993-09-14 JP JP5228574A patent/JPH0786497A/ja active Pending
Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2008187146A (ja) * | 2007-01-31 | 2008-08-14 | Sanyo Electric Co Ltd | 回路装置 |
JP2008187145A (ja) * | 2007-01-31 | 2008-08-14 | Sanyo Electric Co Ltd | 回路装置 |
CN113594154A (zh) * | 2021-06-16 | 2021-11-02 | 北京无线电测量研究所 | 一种射频收发前端封装结构及系统 |
CN113594154B (zh) * | 2021-06-16 | 2023-08-08 | 北京无线电测量研究所 | 一种射频收发前端封装结构及系统 |
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