JPH0781188B2 - 酸化錫膜の製造方法 - Google Patents
酸化錫膜の製造方法Info
- Publication number
- JPH0781188B2 JPH0781188B2 JP28029286A JP28029286A JPH0781188B2 JP H0781188 B2 JPH0781188 B2 JP H0781188B2 JP 28029286 A JP28029286 A JP 28029286A JP 28029286 A JP28029286 A JP 28029286A JP H0781188 B2 JPH0781188 B2 JP H0781188B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- tin oxide
- oxide film
- aqueous solution
- tin
- producing
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Lifetime
Links
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C17/00—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating
- C03C17/22—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with other inorganic material
- C03C17/23—Oxides
- C03C17/25—Oxides by deposition from the liquid phase
- C03C17/253—Coating containing SnO2
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C2217/00—Coatings on glass
- C03C2217/20—Materials for coating a single layer on glass
- C03C2217/21—Oxides
- C03C2217/211—SnO2
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C2218/00—Methods for coating glass
- C03C2218/10—Deposition methods
- C03C2218/11—Deposition methods from solutions or suspensions
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- General Chemical & Material Sciences (AREA)
- Geochemistry & Mineralogy (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Surface Treatment Of Glass (AREA)
- Chemically Coating (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明の酸化錫膜の製造方法に関し、特に弗化水素酸の
酸化錫過飽和水溶液と基材とを接触させて基材表面に酸
化錫膜を析出させる方法に関する。
酸化錫過飽和水溶液と基材とを接触させて基材表面に酸
化錫膜を析出させる方法に関する。
一般に酸化錫膜はすぐれた硬度をを有していることから
ビン製品、食器などの表面の傷つき防止に広く用いられ
ている。また酸化錫膜の半導体的性質を利用した応用例
も多く例えば酸化錫膜を形成したガラスは液晶セルの電
極板、防曇ガラスなど透明な電導体としての用途に広く
使用されており、更にはそのすぐれた赤外線反射特性か
ら太陽熱集熱器のカバーガラスとしても極めて有用であ
る。
ビン製品、食器などの表面の傷つき防止に広く用いられ
ている。また酸化錫膜の半導体的性質を利用した応用例
も多く例えば酸化錫膜を形成したガラスは液晶セルの電
極板、防曇ガラスなど透明な電導体としての用途に広く
使用されており、更にはそのすぐれた赤外線反射特性か
ら太陽熱集熱器のカバーガラスとしても極めて有用であ
る。
酸化錫膜を基材表面に付着させる方法としては種々ある
が量産に適した方法として古くから四塩化錫を有機溶媒
に溶かした溶液を高温の基材に吹付ける方法が用いられ
てきた。そして近年、四塩化錫またはジメチル二塩化錫
を加熱蒸発させて得られる蒸気を高温の基材表面に接触
させる、いわゆるCVD法も広く採用されている。しかし
ながらこれらの方法では成膜に高温を必要とするため高
温に耐えられない基材には適用できない。あるいは平板
以外の異型表面を持つ基材では膜ムラが発生するなど材
料面での制限があった。
が量産に適した方法として古くから四塩化錫を有機溶媒
に溶かした溶液を高温の基材に吹付ける方法が用いられ
てきた。そして近年、四塩化錫またはジメチル二塩化錫
を加熱蒸発させて得られる蒸気を高温の基材表面に接触
させる、いわゆるCVD法も広く採用されている。しかし
ながらこれらの方法では成膜に高温を必要とするため高
温に耐えられない基材には適用できない。あるいは平板
以外の異型表面を持つ基材では膜ムラが発生するなど材
料面での制限があった。
本発明は従来方では高温が必要であり又異型表面にはム
ラが発生するという問題点を解決し、低温でいかなる形
状の基板表面にも均一な酸化錫膜を製造する方法を提供
するものである。
ラが発生するという問題点を解決し、低温でいかなる形
状の基板表面にも均一な酸化錫膜を製造する方法を提供
するものである。
本発明は上記問題点を解決するために、酸化錫を過飽和
状態とした錫および弗素を含む処理液と基材とを接触さ
せて基材表面に酸化錫膜を析出させている。
状態とした錫および弗素を含む処理液と基材とを接触さ
せて基材表面に酸化錫膜を析出させている。
通常錫を含む水溶液等を過飽和にしただけでは、溶液中
に沈澱を生じるのみで均一に基材表面に成膜することは
不可能である。本発明は、溶液に、弗素を配位子とする
スズ化合物を含むことで沈殿を生じさせずに複雑な形状
の基材表面にも均一な酸化錫膜を製造させるものであ
る。
に沈澱を生じるのみで均一に基材表面に成膜することは
不可能である。本発明は、溶液に、弗素を配位子とする
スズ化合物を含むことで沈殿を生じさせずに複雑な形状
の基材表面にも均一な酸化錫膜を製造させるものであ
る。
本発明に使用される処理液としては弗素水素酸水溶液に
SnOを飽和状態まで溶解したものにAlCl3,CaCl2,BaCl2,N
iCl2,CoCl2,CuCl2,FeCl2,ZnCl2,ZrCl4,Al（OH）3,Zn（O
H）2,SnCl4,SnCl2,ZnO,ZrO2,H3BO3等の金属酸化物、金
属水酸化物、金属塩化物および／またはそれらの水溶液
を添加して酸化錫を過飽和にしたもの等があげられる。
SnOを飽和状態まで溶解したものにAlCl3,CaCl2,BaCl2,N
iCl2,CoCl2,CuCl2,FeCl2,ZnCl2,ZrCl4,Al（OH）3,Zn（O
H）2,SnCl4,SnCl2,ZnO,ZrO2,H3BO3等の金属酸化物、金
属水酸化物、金属塩化物および／またはそれらの水溶液
を添加して酸化錫を過飽和にしたもの等があげられる。
これらの処理液中で酸化錫が過飽和になる反応例は下記
の通りと予想される。
の通りと予想される。
それぞれの添加物の添加範囲は弗素の量をHFに換算して
HF/molに対して0.5mol以上5mol以下であり0.5molより少
ない添加量では膜は形成されにくく5molより多い添加量
では処理液中に酸化錫の沈殿を生じやすくなる。この添
加範囲では酸化錫膜の形成速度は添加物の添加量に比例
して増大する。また処理液の温度、濃度を変化させると
酸化錫膜の形成速度が変化する。従って所定の膜厚を得
るための処理条件は任意に設定することが出来る。
HF/molに対して0.5mol以上5mol以下であり0.5molより少
ない添加量では膜は形成されにくく5molより多い添加量
では処理液中に酸化錫の沈殿を生じやすくなる。この添
加範囲では酸化錫膜の形成速度は添加物の添加量に比例
して増大する。また処理液の温度、濃度を変化させると
酸化錫膜の形成速度が変化する。従って所定の膜厚を得
るための処理条件は任意に設定することが出来る。
処理液と基材との接触は処理液中に基材を浸漬させる方
法が最も簡単であり効率的で好ましいが、基材表面に処
理液を流下させる等で接触させてもかまわない。
法が最も簡単であり効率的で好ましいが、基材表面に処
理液を流下させる等で接触させてもかまわない。
実施例１ たて横50mm、厚さ1mmのソーダライムガラスおよびたて
横25mm厚さ500μｍのシリコンウェハーを十分に洗浄、
乾燥し試料基材とした。次に1mol/の弗化水素水溶液
に酸化第一錫を飽和になるまで溶解しその後濾過して未
溶解の酸化第一錫を濾別した。この濾液100ml中に1mol/
のAlCl3の水溶液を各々、50ml,70ml,80ml,90ml,100m
l,200ml添加し、それぞれ300mlのビーカーに取り30℃の
水浴上にセットし加温した。この処理液中に上記試料基
材をそれぞれ一枚づつ浸漬し16時間保持した後取り出し
て洗浄乾燥した。その後接触針式膜厚測定機にて基材上
に析出した被膜の膜厚を測定したところ第１表の通りに
なった。膜が形成されたサンプルをESCA（Ｘ線光電子分
光）にて分析したところほぼSnとＯからなる物質である
ことが確認された。
横25mm厚さ500μｍのシリコンウェハーを十分に洗浄、
乾燥し試料基材とした。次に1mol/の弗化水素水溶液
に酸化第一錫を飽和になるまで溶解しその後濾過して未
溶解の酸化第一錫を濾別した。この濾液100ml中に1mol/
のAlCl3の水溶液を各々、50ml,70ml,80ml,90ml,100m
l,200ml添加し、それぞれ300mlのビーカーに取り30℃の
水浴上にセットし加温した。この処理液中に上記試料基
材をそれぞれ一枚づつ浸漬し16時間保持した後取り出し
て洗浄乾燥した。その後接触針式膜厚測定機にて基材上
に析出した被膜の膜厚を測定したところ第１表の通りに
なった。膜が形成されたサンプルをESCA（Ｘ線光電子分
光）にて分析したところほぼSnとＯからなる物質である
ことが確認された。
実施例２ たて横50mm,厚さ1mmのソーダライムガラスを十分に洗
浄、乾燥し試料基材とした。次にSnF2を蒸留水に、室温
にて飽和になるまで溶解し濾過したものを処理液とし
た。この濾液30mlにSnCl4の１モル／水溶液30mlおよ
び0.5モル／ホ ウ酸水溶液5mlを添加したものを100mlのビーカーに取り
35℃の水浴上にセットした加温した。この処理液に上記
試料基材を１枚浸漬し、16時間保持した後、とり出して
洗浄乾燥した。その接触針式膜厚測定機にて膜圧を測定
したところ20nmであった。又膜をESCA（Ｘ線光電子分
光）にて分析したところ、ほぼSnとＯからなる物質であ
ることが確認された。
浄、乾燥し試料基材とした。次にSnF2を蒸留水に、室温
にて飽和になるまで溶解し濾過したものを処理液とし
た。この濾液30mlにSnCl4の１モル／水溶液30mlおよ
び0.5モル／ホ ウ酸水溶液5mlを添加したものを100mlのビーカーに取り
35℃の水浴上にセットした加温した。この処理液に上記
試料基材を１枚浸漬し、16時間保持した後、とり出して
洗浄乾燥した。その接触針式膜厚測定機にて膜圧を測定
したところ20nmであった。又膜をESCA（Ｘ線光電子分
光）にて分析したところ、ほぼSnとＯからなる物質であ
ることが確認された。
本発明によれば実施例からもあきらかなとうり、焼成等
の加熱操作を行なわずに基材上に酸化錫膜を作成するこ
とができ、プラスチック基板等の上にも簡単に酸化錫膜
を作成することができる。又溶液を用いた析出法である
ので溶液と接触させることのできる任意の形状の物品表
面、あらゆる形状の物品表面に酸化錫膜を作成すること
ができる。
の加熱操作を行なわずに基材上に酸化錫膜を作成するこ
とができ、プラスチック基板等の上にも簡単に酸化錫膜
を作成することができる。又溶液を用いた析出法である
ので溶液と接触させることのできる任意の形状の物品表
面、あらゆる形状の物品表面に酸化錫膜を作成すること
ができる。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 河原 秀夫 大阪府大阪市東区道修町４丁目８番地 日 本板硝子株式会社内 (56)参考文献 特開 昭61−31329（ＪＰ，Ａ) 特開 昭61−281047（ＪＰ，Ａ) 特開 昭55−58359（ＪＰ，Ａ) 特開 昭58−110427（ＪＰ，Ａ)
Claims (5)
- 【請求項１】酸化錫を過飽和状態とした錫および弗素を
含む処理液と基材とを接触させて基材表面に酸化錫膜を
析出させる酸化錫膜の製造方法。 - 【請求項２】該処理液が錫および弗素を含む水溶液に金
属酸化物および／または金属水酸化物および／または金
属塩化物および／またはこれらの水溶液を添加すること
により酸化錫を過飽和状態としたものである特許請求の
範囲第１項記載の酸化錫膜の製造方法。 - 【請求項３】該錫および弗素を含む水溶液が弗化水素酸
水溶液に酸化第１錫を飽和に溶解した水溶液である特許
請求の範囲第２項記載の酸化錫膜の製造方法。 - 【請求項４】該金属酸化物および金属水酸化物および金
属塩化物がZnO,ZrO2,H3BO3,Al（OH）3,Zn（OH）2,AlC
l3,CaCl2,FeCl2,FeCl3,ZnCl2,ZrCl4,SnCl4,SnCl2である
特許請求の範囲第２項記載の酸化錫膜の製造方法。 - 【請求項５】該水溶液中の弗素１モルに対して、金属酸
化物および／または金属水酸化物および／または金属塩
化物を0.5〜５モル添加して酸化錫を過飽和状態とした
特許請求の範囲第２項ないし第４項記載の酸化錫膜の製
造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP28029286A JPH0781188B2 (ja) | 1986-11-25 | 1986-11-25 | 酸化錫膜の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP28029286A JPH0781188B2 (ja) | 1986-11-25 | 1986-11-25 | 酸化錫膜の製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS63134667A JPS63134667A (ja) | 1988-06-07 |
| JPH0781188B2 true JPH0781188B2 (ja) | 1995-08-30 |
Family
ID=17622951
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP28029286A Expired - Lifetime JPH0781188B2 (ja) | 1986-11-25 | 1986-11-25 | 酸化錫膜の製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0781188B2 (ja) |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2541269B2 (ja) * | 1987-08-27 | 1996-10-09 | 日本板硝子株式会社 | 酸化物薄膜の製造方法 |
-
1986
- 1986-11-25 JP JP28029286A patent/JPH0781188B2/ja not_active Expired - Lifetime
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS63134667A (ja) | 1988-06-07 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| Takahashi et al. | Dip‐coating of Sb‐doped SnO2 films by ethanolamine‐alkoxide method | |
| US4468420A (en) | Method for making a silicon dioxide coating | |
| Knapp et al. | Aerosol-assisted chemical vapor deposition of transparent conductive gallium− indium− oxide films | |
| US20010051213A1 (en) | Process for depositing optical layers | |
| JPH0585491B2 (ja) | ||
| JPH09241037A (ja) | 防曇性被膜形成基材およびその製造方法 | |
| JPS61227946A (ja) | 電導性ガラス | |
| JP2541269B2 (ja) | 酸化物薄膜の製造方法 | |
| JPS6236046A (ja) | 酸化錫膜の形成方法 | |
| JP2006516926A (ja) | 基板上に膜を被着するための方法 | |
| RU2003108874A (ru) | Способ нанесения покрытия на стекло | |
| JPH0781188B2 (ja) | 酸化錫膜の製造方法 | |
| JP3834339B2 (ja) | 透明導電膜およびその製造方法 | |
| JP2720568B2 (ja) | 酸化チタン被膜の製造方法 | |
| EP0818561A1 (en) | Protection coatings produced by sol-gel on silver reflectors | |
| JP3821963B2 (ja) | ガラス用コーティング剤、およびそれを用いたガラス材料のコーティング方法 | |
| JP2872826B2 (ja) | 酸化物薄膜の製法 | |
| JP3889221B2 (ja) | Ｉｔｏ透明導電膜形成用塗布液および透明導電膜の形成方法 | |
| JP2759470B2 (ja) | 錫酸ゾル及びその製造方法 | |
| JPS5923403B2 (ja) | 透明導電膜の製造方法 | |
| Imai et al. | Preparation of hollow fibers of tin oxide with and without antimony doping | |
| JPH0662317B2 (ja) | 透明導電性ガラスの製造方法 | |
| JPH05262524A (ja) | 酸化亜鉛薄膜の製造方法 | |
| JPS63179082A (ja) | 酸化ジルコニウム膜の製造方法 | |
| JPS59198606A (ja) | 透明導電膜形成用組成物 |