JPH0778305A

JPH0778305A - 磁気ヘッドおよびその製造方法

Info

Publication number: JPH0778305A
Application number: JP6013590A
Authority: JP
Inventors: Masahiro Kawase; 正博川瀬
Original assignee: Canon Inc
Current assignee: Canon Inc
Priority date: 1993-07-16
Filing date: 1994-02-07
Publication date: 1995-03-20

Abstract

(57)【要約】【目的】所定の記録能力を確保しつつ、記録時のサイ
ドイレース、再生時の隣接トラックに対するクロストー
クを改善する磁気ヘッドおよびその磁気ヘッドの製造方
法を提供する。【構成】一対のコア２を突き合わせてなる磁気ヘッド
１の摺動面上において、コア２の磁気ギャップ形成部２
ｅと、この磁気ギャップ形成部２ｅの双方の端部にそれ
ぞれ連続する傾斜部２ｅ、２ｄの内一方２ｃとに連続し
て高飽和磁束密度金属磁性膜６を被着してなる磁気ヘッ
ド１であって、前記金属磁性膜６が被着された傾斜部２
ｃの前記ギャップ形成部２ｅとのなす角度を略３０度か
ら７０度として形成し、他方の傾斜部２ｄの前記ギャッ
プ形成部２ｅとのなす角度を略９０度として形成してい
る。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は、磁気ヘッド及びその製
造方法に関し、特に酸化物磁性材よりなるコアの磁気ギ
ャップ形成面に高飽和磁束密度金属磁性膜を有するメタ
ル・イン・ギャップ構造のヘッドに関するものである。

【０００２】

【従来の技術とその課題】磁気記録の高密度化に従い、
媒体の高保磁力化により記録波長を短くし、トラック幅
を狭小化することで、１ビット当たりの占有面積を小さ
くしてきている。

【０００３】特にＶＴＲでは、今後ディジタル化が必至
であり、記録情報の増加により、トラックピッチ５μｍ
のような狭トラック化が要求される。

【０００４】その場合の問題として、以下の点が上げら
れる。

【０００５】ヘッドトラック端での記録磁界フリン
ジングによるサイドイレース領域が、トラックピッチに
対し大きくなり、Ｓ／Ｎの点から無視できなくなる。

【０００６】狭トラックピッチではアジマスロスが
小さくなり、低周波での隣接トラックからのクロストー
クが大きくなる。

【０００７】以上の問題は、セラミック等非磁性基板に
高飽和磁束密度金属磁性膜を成膜し、その厚さでトラッ
ク幅を形成する積層ヘッドでは、トラック端がシャープ
であり、且つ隣接トラックに磁性材がほとんど掛からな
いためほとんど問題はないが、フェライトコアのギャッ
プ形成面に高飽和磁束密度金属磁性膜を成膜したメタル
・イン・ギャップ（以降ＭＩＧと略す）ヘッドでは、か
なりの制約を受けてしまう。

【０００８】従来のＭＩＧヘッドの一例のトラック形状
を図１３に示す。このヘッドは、図１４に示されるよう
にフェライトコア５０上に所定のトラック幅Ｔ_Wを形成
する溝を得た後に高飽和磁束密度金属磁性膜５２を成膜
するため、トラックの端５２ａ、５２ｂに丸みが生じ、
その部分でギャップ幅が緩やかに変化している。

【０００９】このヘッドで、ガードバンドレスのアジマ
ス記録をした場合、図１５のように、サイドイレース部
６０が生じ、記録を一部消してしまう。

【００１０】サイドイレース部６０の幅は１〜２μｍ程
度であっても、トラックピッチＴｐが数μｍのシステム
では出力低下の影響が無視できず、サイドイレース部６
０の幅は１μｍ未満に押さえる必要がある。

【００１１】また、図１３に示すように、トラックを形
成するトラックサイド５０ａのギャップ形成面に対する
角度θ_tは、６０°であるが、アジマス角Ａ_zを２０°と
した場合、隣接トラックアジマスが形成される方向とト
ラックサイド５０ａのなす角度θ_Aは２０°しか取れな
く、低周波（長波長）領域でアジマスロスが稼げないこ
とより前記のクロストークが不十分となる。

【００１２】このタイプで、トラックサイド５０ａの角
度を大きくした場合は、前記のクローストークが改善
されるものの、トラック端の金属磁性膜の部分５２ａ、
５２ｂの丸みが更に大きくなり、前記のサイドイレー
スの問題が改善されない。

【００１３】また、図１６のように、ギャップ形成面７
０にのみに金属磁性膜７２が付くタイプでは、ギャップ
形成面７０に金属磁性膜７２を成膜後、その面７０に垂
直にトラック幅Ｔ_Wを形成する溝７４を入れるため、エ
ッジ７２ａ、７２ｂがシャープであり、前記のサイド
イレースの問題は改善される。しかし、磁性膜７２がギ
ャップ形成面７０のみに形成されているヘッドは、その
近くの部分７６でフェライトが磁気飽和し、記録能力が
低いという課題を有することになる。

【００１４】上記課題を考慮して、本発明は、所定の記
録能力を確保しつつ、記録時のサイドイレース、再生時
の隣接トラックに対するクロストークを改善する磁気ヘ
ッドさらには記録能力を改善し得る磁気ヘッドおよびそ
の磁気ヘッドの製造方法を提供することを目的とする。

【００１５】

【課題を解決するための手段】従来抱えている課題を解
決し、上記目的を達成するため、本発明による磁気ヘッ
ドは、一対のコアを付き合わせてなる磁気ヘッドの摺動
面上において、コアの磁気ギャップ形成部とこの磁気ギ
ャップ形成部の双方の端部にそれぞれ連続する傾斜部の
内一方とに連続して高飽和磁束密度金属性膜を被着して
なる磁気ヘッドであって、前記金属磁性膜が被着された
傾斜部の前記ギャップ形成部とのなす角度を略３０度か
ら７０度として形成し、他方の傾斜部の前記ギャップ形
成部とのなす角度を略９０度として形成している。

【００１６】また、一対のコアを付き合わせてなる磁気
ヘッドの摺動面上において、コアの磁気ギャップ形成部
とこの磁気ギャップ形成部の端部に連続する傾斜部とに
連続して高飽和磁束密度金属磁性膜を被着してなる磁気
ヘッドであって、前記傾斜部に被着された金属磁性膜の
厚さをｔ_Sとし、前記ギャップ形成部に被着された金属
磁性膜の厚さをｔ_Gとしたとき、ｔ_S／ｔ_Gは０．８７以
上として形成している。

【００１７】また、本発明による磁気ヘッドの製造方法
は、コアブロックの一つの面に対し所定の角度を有する
傾斜部を形成すべく、前記コアブロックの一つの面に溝
を形成する工程と、少なくとも前記コアブロックの一つ
の面および傾斜部に高飽和磁束密度金属磁性膜を被着す
る工程と、前記傾斜部に被着された高飽和磁束密度金属
磁性膜の上面を延長する線分と、前記コアブロックの一
つの面に被着された高飽和磁束密度金属磁性膜の上面を
延長する線分との交点を基準とし、所定のトラック幅を
得るべく、前記コアブロックの一つの面に被着された高
飽和磁束密度金属磁性膜の上面に対し垂直方向に溝を形
成する工程とを有する。

【００１８】

【実施例】以下、本発明の一実施例を図面を基に説明す
る。

【００１９】図１（ａ），（ｂ）に、本実施例の磁気ヘ
ッド１およびその摺動面１ａを示す。コア材２にＭｎ−
Ｚｎのフェライトを用い、磁気ギャップ対向部にはトラ
ック幅Ｔ_Wを規制するトラック溝４，５を有している。
磁気ギャップ形成面の一方の端部２ａが規制される面２
ｃは、ギャップ形成面２ｅより連続した高飽和磁束密度
金属磁性膜６が被着しており、もう一方の端面２ｄは、
ギャップ形成面２ｅよりおおむね垂直に入れられたトラ
ック溝５によりフェライトが露出している。ギャップｇ
のアジマス角は２０°となっている。なお、コア材２同
士はガラス２６により溶着されている。

【００２０】面２ｃがギャップｇとなす角度θ₁は、４
５°となっている。

【００２１】このθ₁は大きすぎると、面２ｃ側の高飽
和磁束密度金属磁性膜６の磁気特性が劣化し、フェライ
ト２への磁束集中による磁気飽和により記録能力が低下
してしまう。また、θ₁が小さすぎるとギャップ端６ａ
の寸法制度が悪くなるため、θ₁は３０°〜７０°の範
囲で使用するのが望ましい。θ₁＝４５°の場合の記録
能力は、従来例のθ＝６０°と同等以上の記録能力が確
認されている。

【００２２】本実施例のヘッドの記録時記録波長０．５
μｍでのサイドイレース幅は０．５μｍであり、良好で
あった。また、ガードバンドレスアジマス２０°の再生
時のクロストークも改善され、積層ヘッド並みになっ
た。

【００２３】理由としては、ギャップ端の一端面２ｄを
機械加工で得るため、エッシ６ｂがシャープとなり、漏
れ磁界によるサイドイレースが改善されたこと、および
面２ｄとギャップｇとのなす角度θ₂が９０°であり、
隣接トラックの逆アジマス形成面とのなす角度θ₃が５
０°と大きく取れた事でアジマスロスが寄与し、クロス
トークも改善されたこと等が挙げられる。

【００２４】次に上記実施例の磁気ヘッドの構成をより
明確にするために、以下に図２を用いてその製造方法に
ついて説明する。

【００２５】図２（ａ）は、Ｍｎ−Ｚｎ系フェライトピ
ース１０を示しており、ギャップ形成面となる上面１０
ａをラップする。次に、図２（ｂ）に示すように巻線窓
溝１２と後部ガラス溝１４を形成する。続いて、図２
（ｃ）に示すように上面１０ａに巻線溝１２と垂直方向
に複数本の平行なトラック形成溝１６を形成する。

【００２６】この溝１６の断面形状は、図３に示すよう
にギャップ形成面１０ａと所定の角度θ₁を持つ傾斜面
を含む台形溝となっているが、ここでは傾斜面が得られ
れば良いのであって溝の底形状は任意であり、Ｖ字溝や
底部円弧状等台形溝に限られるものでない。また、θ₁
はここでは４５°とした。ここでのギャップ規制面の残
り幅Ｔ_WOは最終トラック幅Ｔ_W（図３（ｃ）参照）より
数μｍ大きくとる。

【００２７】角度θ₁は小さくなると、加工ピースの高
さのバラツキの影響が大きくなり、Ｔ_WOのバラツキが大
きくなるため、角度θ₁は３０°以上が望ましい。ま
た、上限は後工程の高飽和磁束密度金属合金の磁気特性
の確保を考えると７０°以下が望ましい。

【００２８】次に、図２（ｄ）に示すように、上記加工
を施されたフェライトピース上面１０ａに、スパッタリ
ング等の真空成膜技術によりＣｒ，Ｃｒ₂Ｏ₃，ＳｉＯ₂
等の拡散防止膜２０（図３（ｂ）参照）を数十オングス
トロームのオーダーで成膜を行い、その上にＦｅ−Ａｌ
−Ｓｉ等高飽和磁束密度金属合金２２を成膜する。

【００２９】続いて、図２（ｅ），図３（ｃ）に示すよ
うに、トラック端を基準にギャップ形成面におおむね垂
直に溝２４を入れ、所定のトラック幅Ｔ_w1を規制する。
このトラック幅Ｔ_w1はアジマス角を考慮した幅になって
いる。以上の図では、左アジマス用ヘッドに関して説明
しているが、右アジマス用はトラック端の基準を反対側
に取り、垂直溝も反対になる。

【００３０】更に、金属磁性膜２２のギャップ形成面２
２ａ上にスパッタリング等の真空成膜技術によりＣｒ、
Ｃｒ₂Ｏ₃、ＳｉＯ₂等の不図示の被磁性膜をスペーサー
として成膜し、図２（ｆ）、図３（ｄ）に示すように反
対側のコアピースと突合せ、ガラス２６を用いガラス溶
着を行う。図３（ｄ）は摺動面２８側を示している。

【００３１】次に、図２（ｇ）に示すように、摺動面２
８側を円筒研削し、アジマス角の分だけ傾斜させ切断
し、媒体摺動方向端部を所定の形状にすることで、図１
（ｂ）に示すような本発明のヘッドコアを得ることがで
きる。その後、得られたヘッドコア１を不図示のヘッド
ベースに取り付け、摺動面２８を円弧状にラップし、巻
線窓３０（図１（ｂ））に巻線し、この巻線の端部をハ
ンダ付けすることによりヘッドが完成する。

【００３２】以上の実施例は、ＶＴＲのようなガードバ
ンドレスアジマス記録を前提としたものであるが、ＦＤ
ＤやＨＤＤのようなガードバンド有りのアジマスなしの
記録でも狭いトラックピッチでは、同様な問題が生ずる
と考えられ、本発明の技術はこの分野でも有効である。

【００３３】次に、上記実施例をさらに改良した実施例
について説明する。

【００３４】上記実施例による磁気ヘッドによれば、所
定の記録能力を確保しつつ、記録時のサイドイレース、
再生時の隣接トラックに対するクロストークを改善する
ことができるものであるが、記録媒体の保磁力Ｈｃが１
５００Ｏｅを越えるようなメタル媒体では記録能力がや
や不足となり、記録アンプの消費電力増やオーバーライ
トの低下が問題となってきた。

【００３５】例えば、図４に示すようなコア３２と高飽
和金属磁性膜３４との構成になっているいわゆるＴＳＳ
タイプといわれる構成材料の同じＭＩＧヘッドと上記実
施例によるヘッド（膜厚ｔ＝５μｍ）とを、Ｈｃ＝１６
００Ｏｅの蒸着（ＭＥ）媒体としての磁気テープを用
い、ヘッドに対する媒体の移動速度を１０ｍ／ｓとし、
２１ＭＨｚの記録電流を用いて比較してみたところ、図
５に示す通り、上記実施例によるヘッドは出力がＴＳＳ
タイプのものより少し高いものの最大出力が得られる最
適記録電流値が１．５ｄＢ高く、最適記録電流値より大
きい電流値での記録減磁も少ないことが判った。また、
磁性膜の膜厚を１０μｍにすると、最適記録電流は膜厚
が５μｍの場合に比べ改善されＴＳＳタイプと同程度に
なるものの高周波損失である磁性膜の過電流損失の増加
により再生効率が低下してしまう。

【００３６】なお、本測定において、２１ＭＨｚ記録電
流の０ｄＢは３０ｍＡＰ−Ｐに相当している。

【００３７】以下に説明する実施例においては、高飽和
磁束密度金属磁性膜のトラック形成溝部での厚さを磁気
ギャップ形成面での厚さの所定値倍以上としたことで記
録能力を改善している。

【００３８】図６に本実施例の磁気ヘッドの摺動面を示
す。構造は基本的には図１（ａ）に示すものと同様であ
り、したがって図１（ａ）に示した番号を付して各構成
要素の説明は省略するが、トラック形成溝部４，５側に
形成された磁性膜６の厚さｔｓが、磁気ギャップ形成面
２ｅでの厚さｔ_Gに対し所定値倍以上に設定している。
以下詳細に説明する。

【００３９】本実施例における磁性膜の形成は、図２
（ｄ）の高飽和磁束密度金属磁性膜２２を成膜する工程
で磁気ギャップ形成面に対しおおむね垂直に入射させて
成膜していたものを、図７に矢印で示すようにトラック
形成溝４側に角度αだけ入射方向を傾けることで、磁気
ギャップ形成面２ｅ側とトラック形成面２ｃ側での厚さ
を変えた。

【００４０】以下、その結果について詳述する。図８は
膜厚比ｔ_S／ｔ_Gと成膜方向すなわち入射角αとの関係を
示したものである。膜厚比は、ｔ_S／ｔ_G＝ｃｏｓ（θ−
α）／ｃｏｓαでその比が求められており、本実施例に
おいてはトラック形成角θ＝３５°として行なった。こ
のような関係において、入射角α＝０，５，１０，１
５，３０°の５種類によって成膜したヘッドＡ，Ｂ，
Ｃ，Ｄ，Ｅにより測定を行なった。なお、膜厚ｔ_Gは５
μｍとしている。また、α＝０としたヘッドＡは先の実
施例で説明したヘッドに相当する。測定は、前述したよ
うにＨｃ＝１６００Ｏｅの蒸着媒体としての磁気テープ
を用い、媒体の移動速度Ｖを１０ｍ／ｓとし、２１ＭＨ
ｚの記録電流を用いて行なった。この結果を図９に示
す。なお、このグラフは、ヘッドＡを基準にしているた
め、横軸が図５に比べ−１．５ｄＢシストしている。し
たがって図９の記録電流０ｄＢは図５の１．５ｄＢに相
当する。この図９によれば、入射角αを０以上としてい
るヘッドＢ，Ｃ，Ｄ，Ｅは入射角α＝０のヘッドＡに比
べ出力も高く、最大出力が得られる最適記録電流が減少
し改善がみられた。

【００４１】また、図１０は、膜厚比ｔ_S／ｔ_Gと２１Ｍ
Ｈｚ記録電流の最適値との関係を示したグラフである。
この結果によれば、膜厚比ｔ_S／ｔ_Gがほぼ０．９以上に
おいて、前述したＴＳＳタイプと同程度（１．５ｄＢ）
の最適値を得ることができる。これは、以下のような現
象によるためと考えられる。ヘッドコアの磁束の流れ
は、図１１の矢印Ａ，Ｂ，Ｃのように、フェライトコア
４０よりトラック形成溝部の磁性膜４２ａ，磁気ギャッ
プＧ，反対側のトラック形成溝部の磁性膜４２ｂ，フェ
ライトコア４４へと経路を作ることが必要であり、トラ
ック形成溝部の磁性膜４２ａ，４２ｂが薄かったり、磁
気特性が低いと、トラック形成溝部の磁性膜４２ａ，４
２ｂへ磁束が流れにくくなり破線で示す矢印のようにコ
ア先端部の磁性膜４２ｃに磁束が集中することで磁気飽
和により、最適記録電流の増加，出力低下を引き起こす
と考えられる。

【００４２】また、図１０において、膜厚比ｔ_S／ｔ_G＞
１．０５の領域では、最適記録電流値が低下し始めてい
る。これは、成膜方向の入射角αが大きくなることで、
ギャップ形成面に形成される磁性膜の透磁率が下がり、
磁気特性が低下したためと考えられる。

【００４３】なお、上記説明においては、ＴＳＳタイプ
のヘッドと同程度の最適値が得られる膜厚比ｔ_S／ｔ_Gの
範囲ということで、０．９≦ｔ_S／ｔ_G≦１．０５の範囲
を明示したが、０．８７≦ｔ_S／ｔ_G≦１．１５の範囲に
おいても記録電流の最適値は、ヘッドＡに比べ１ｄＢ以
上向上されており、実用上適用し得るものである。

【００４４】なお、本実施例においては、ｔ_G＝５μｍ
として行なった結果を説明したが、ｔ_Gを５〜１０μｍ
の間で変化させて行なったところ、出力が若干減少した
ものの最適記録電流値は同等の結果が得られた。また、
ｔ_Gを３μｍより小さくした場合は、記憶能力が低下し
ており、１５μｍより大きくした場合はうず電流の損失
が大きすぎて実用上適用できない。

【００４５】なお上記実施例では、磁気ギャップ形成面
およびトラック溝部における磁性膜膜厚比を成膜時の入
射角を変えることで達成していたが、図２に示す製造方
法の（ｄ）における高飽和磁束密度金属磁性膜の成膜工
程で入射角を磁気ギャップ形成面に垂直なままで、磁気
ギャップ形成面上での厚さを所定の厚さより厚くつけて
おき、次の工程で図１２の通りコア２の磁気ギャップ形
成面２ｅに平行にラップを行うことで、トラック規制面
２ｃでの膜厚ｔ_Sとの膜厚比を制御し、同様な効果を得
ることができる。この場合、成膜方向は、コアのギャッ
プ形成面２ｅに対して垂直なので、先述した方法により
発生した膜厚比が所定値以上になった場合にギャップ形
成面における磁性膜の透磁率が減少することがない。し
たがって、膜厚比が所定値以上になっても最適記録電流
値が減少することはない。本実施例の場合も、３≦ｔ_G
≦１５〔μｍ〕の場合に適用可能であり、特に、５≦ｔ
_G≦１０において良好に機能する。

【００４６】また、上記２つの実施例ともにトラック形
成溝の角度θが３０〜７０°の範囲において適用できる
ことは実験にて確認している。

【００４７】

【発明の効果】以上の説明から明らかなように、本発明
の磁気ヘッドによれば、金属磁性膜が被着された傾斜部
の前記ギャップ形成部とのなす角度を略３０度から７０
度として形成することにより、他方の傾斜部の前記ギャ
ップ形成部とのなす角度を略９０度として形成所定の記
録能力を確保しつつ、記録時のサイドイレース、再生時
の隣接トラックに対するクロストークを改善する磁気ヘ
ッドを得ることができる。

【００４８】また、傾斜部に被着された金属磁性膜の厚
さをｔ_Sとし、ギャップ形成部に被着された金属磁性膜
の厚さをｔ_Gとしたとき、ｔ_S／ｔ_Gは０．８７以上とし
て形成することにより、コアへの磁束集中が緩和され磁
気飽和が緩和されるために記憶能力が改善し、良好な特
性が得られた。

【００４９】また、本発明の磁気ヘッドの製造方法によ
れば、上記効果を達成する磁気ヘッドを得ることができ
る。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の一実施例にの磁気ヘッドを示す図であ
り、（ａ）は磁気ヘッドを摺動面側から示した図、
（ｂ）は磁気ヘッド全体を示す斜視図である。

【図２】図１で示した磁気ヘッドの製造工程を示した図
である。

【図３】図２で示した製造工程途中での要部を拡大して
示す図である。

【図４】比較例の摺動面を示す図である。

【図５】実施例と比較例とを記録電流と出力との関係に
おいて示したグラフである。

【図６】さらに改良した実施例を説明するためのヘッド
の摺動面を示した図である。

【図７】膜厚比と成膜方向（入射角）との関係を説明す
るための図である。

【図８】膜厚比と成膜方向（入射角）との関係を示した
グラフである。

【図９】改良した実施例による磁気ヘッドの記録電流と
出力との関係を示したグラフである。

【図１０】膜厚比と最適記録電流値との関係を示したグ
ラフである。

【図１１】ヘッドコアにおける磁束の流れを説明する図
である。

【図１２】改良した実施例による磁気ヘッドの他の製造
方法を説明するための図である。

【図１３】従来の磁気ヘッドの一例を摺動面側から示し
た図である。

【図１４】図４に示した磁気ヘッドの要部を示す図であ
る。

【図１５】記録パターンを示す図である。

【図１６】従来の磁気ヘッドの他の例を摺動面側から示
した図である。

【符号の説明】

１磁気ヘッド２コア６高飽和磁束密度金属膜ｇギャップ

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】一対のコアを付き合わせてなる磁気ヘッ
ドの摺動面上において、コアの磁気ギャップ形成部とこ
の磁気ギャップ形成部の双方の端部にそれぞれ連続する
傾斜部の内一方とに連続して高飽和磁束密度金属性膜を
被着してなる磁気ヘッドであって、前記金属磁性膜が被着された傾斜部の前記ギャップ形成
部とのなす角度を略３０度から７０度として形成し、他
方の傾斜部の前記ギャップ形成部とのなす角度を略９０
度として形成していることを特徴とする磁気ヘッド。
【請求項２】請求項１において、前記傾斜部に被着さ
れた金属磁性膜の厚さをｔ_Sとし、前記ギャップ形成部
に被着された金属磁性膜の厚さをｔ_Gとしたとき、ｔ_S／
ｔ_Gは０．８７以上であることを特徴とする磁気ヘッ
ド。
【請求項３】請求項２において、前記金属磁性膜の厚
さｔ_Gは３〜１５μｍであることを特徴とする磁気ヘッ
ド。
【請求項４】請求項２あるいは３において、ｔ_S／ｔ_G
は１．１５以下であることを特徴とする磁気ヘッド。
【請求項５】一対のコアを付き合わせてなる磁気ヘッ
ドの摺動面上において、コアの磁気ギャップ形成部とこ
の磁気ギャップ形成部の端部に連続する傾斜部とに連続
して高飽和磁束密度金属磁性膜を被着してなる磁気ヘッ
ドであって、前記傾斜部に被着された金属磁性膜の厚さをｔ_Sとし、
前記ギャップ形成部に被着された金属磁性膜の厚さをｔ
_Gとしたとき、ｔ_S／ｔ_Gは０．８７以上であることを特
徴とする磁気ヘッド。
【請求項６】請求項５において、前記金属磁性膜の厚
さｔ_Gは３〜１５μｍであることを特徴とする磁気ヘッ
ド。
【請求項７】請求項５あるいは６において、ｔ_S／ｔ_G
は１．１５以下であることを特徴とする磁気ヘッド。
【請求項８】請求項７において、ｔ_S／ｔ_Gは０．９以
上１．０５以下であることを特徴とする磁気ヘッド。
【請求項９】コアブロックの一つの面に対し所定の角
度を有する傾斜部を形成すべく、前記コアブロックの一
つの面に溝を形成する工程と、少なくとも前記コアブロックの一つの面および傾斜部に
高飽和磁束密度金属磁性膜を被着する工程と、前記傾斜部に被着された高飽和磁束密度金属磁性膜の上
面を延長する線分と、前記コアブロックの一つの面に被
着された高飽和磁束密度金属磁性膜の上面を延長する線
分との交点を基準とし、所定のトラック幅を得るべく、
前記コアブロックの一つの面に被着された高飽和磁束密
度金属磁性膜の上面に対し垂直方向に溝を形成する工程
と、を有することを特徴とする磁気ヘッドの製造方法。