JPH0777346A - 半田付け装置における排煙装置 - Google Patents
半田付け装置における排煙装置Info
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- JPH0777346A JPH0777346A JP5223484A JP22348493A JPH0777346A JP H0777346 A JPH0777346 A JP H0777346A JP 5223484 A JP5223484 A JP 5223484A JP 22348493 A JP22348493 A JP 22348493A JP H0777346 A JPH0777346 A JP H0777346A
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Abstract
集能力が高く、メンテナンス性に優れた排煙装置を実現
する。 【構成】 雰囲気を冷却する冷却部8と、浮遊粒子を捕
獲するフィルタ部9と、雰囲気を前記冷却部8とフィル
タ部9とを介して循環させるファン11とを備えて成
り、雰囲気が循環する順に冷却部8とフィルタ部9とを
配置し、かつ冷却部8とフィルタ部9とを隣接して配置
する構成を特徴としている。
Description
配線基板の半田付けを低酸素濃度雰囲気中で行うフロー
型の半田付け装置やリフロー型半田付け装置等におい
て、雰囲気中のフラックスヒューム(FLUX FUME) や半田
蒸気等の異物を捕集する排煙装置に関するものである。
トンネル路に供給・導入し、低酸素濃度雰囲気中で半田
付けを行う装置が注目を浴びている。すなわち、このよ
うな半田付け装置においては、固形分の少ないフラック
スを使用して半田付けを行っても良好な半田付け性を得
ることが可能となるからであり、それに伴って配線基板
の無洗浄化が可能となるからである。
は、半田付けプロセスの大気に対する封止性が高いため
に、チャンバ内やトンネル路にフラックスヒュームや蒸
発する半田等の異物が雰囲気中に滞留する問題がある。
そこで、これらを捕集するための装置が提案されてい
る。
技術は、フィルタによってこれらを除去する技術であ
り、リフロー炉の外部に設けた導路にフィルタを設置す
る構成である。
技術は、冷却フィンに揮発成分からなる不純物を凝縮し
て除去する技術であり、リフロー炉の外部に設けた循環
通路に冷却フィンで構成した不純物除去手段を配置する
構成である。
る技術は、リフロー装置の加熱室から排出された雰囲気
を、液体チッソガスボンベから供給されるチッソガスで
冷却し、雰囲気中の溶剤ガスを液化させることによって
除去する技術であり、雰囲気循環路に冷却用のコンデン
サや混合器を配設する構成である。
の技術には、次のような問題がある。
技術では、リフロー内の雰囲気を冷却しないでフィルタ
を通しているために、雰囲気中のフラックスヒュームは
気体状態にあり、フィルタを通しただけではフラックス
ヒュームの十分な捕集を行うことができない。
技術では、ジグザグ通路を形成する冷却フィンの表面に
フラックスヒューム等の溶剤成分を冷却・凝縮して捕集
する構成であるので、やはり十分な捕集を行うことがで
きない。また、自然冷却であるので、循環通路に循環す
る雰囲気流量を増大させた場合に雰囲気冷却温度が上昇
し、十分な冷却・凝集を行うことができない。すなわ
ち、フラックスヒューム等の十分な捕集を行うことがで
きない。
る技術では、リフロー装置に供給するチッソガスの流量
によって雰囲気の冷却状態が変化する短所がある。すな
わち、チッソガスの供給流量を少なくすると循環する雰
囲気の十分な冷却を行うことができなくなる。すなわ
ち、雰囲気中の溶剤ガスを液化させることができなくな
り、溶剤ガスの除去もできなくなる。
ってチッソガスの供給流量を可変する技術は、一般的に
行われている技術である。なお、チッソガスの供給流量
を、十分な冷却に必要とされる流量以下にならないよう
にあらかじめ大きい値にしておくことも可能であるが、
それではチッソガス消費量が増大し、半田付けに伴うラ
ンニングコストが高くなる。
は、雰囲気中のフラックスヒューム等を効率良くフィル
タに導く技術に関しては何ら開示されていない。
以上のような問題を解消し、フラックスヒューム等の捕
集能力が高く、かつメンテナンス性に優れた排煙装置を
実現することによって、半田付け環境のクリーン度を高
めて雰囲気信頼性の高い半田付けプロセスを実現するこ
とにある。
する冷却部と浮遊物を捕獲するフィルタ部とを隣接して
設けるように構成したところに特徴がある。また、雰囲
気を循環させるための吸い込み口筺と吐出口筺の配置構
成を最適化したところに特徴がある。
雰囲気を冷却する冷却部と、浮遊粒子を捕獲するフィル
タ部と、半田付け雰囲気を冷却部とフィルタ部とを介し
て循環させるためのファンとからなり、雰囲気が循環す
る順に冷却部とフィルタ部が配置され、かつ冷却部とフ
ィルタ部とを隣接配置したものである。
冷却部は放熱用のフィンで雰囲気通路を形成し、該通路
を中心から周縁に向って次第に拡大する構成としたもの
である。
ための強制冷却手段を備えたものである。
気の冷却温度は、フラックスヒュームの液化温度以下に
なるよう構成したものである。
け装置において、半田付け雰囲気を冷却部とフィルタ部
とに循環させるための吸い込み口筺と吐出口筺とを、半
田槽の溶融半田と配線基板とが接触する位置の上方で、
かつ循環雰囲気が略水平方向へ流れるように配置したも
のである。
装置で配線基板の搬送手段がキャリアレス型の搬送コン
ベアの場合において、半田付け雰囲気を冷却部とフィル
タ部とに循環させるための吸い込み口筺が、半田槽の溶
融半田と配線基板とが接触する位置の上方で、かつ配線
基板を侠持する爪に沿ってその吸い込み口を配線基板側
へ向けて配置し、他方、吐出口筺を前記吸い込み口筺の
近傍でその上方に配置したものである。
冷却部とフィルタ部を配置して構成しているので、冷却
して霧滴化したフラックスヒュームや固形化した半田
は、フィルタ部で捕獲することができる。
て構成しているので、霧滴化したフラックスヒュームや
固形化した半田が循環路を形成するダクト等に付着する
こともない。すなわち、フィルタ部で効率よく捕獲する
ことができる。
雰囲気通路を形成した冷却部では、雰囲気は通路を通過
しながら冷却される。そしてこの場合、雰囲気通路が出
口に近づくほど、放熱部の端縁部へ近づくことになる。
その結果、冷却部の中心部では該冷却部の温度が高く端
縁部では温度が低くなり、冷却部の端縁部はその表面積
が拡大するので冷却手段としては理想的な温度勾配を呈
する。
手段を備えることによって、温度以下に雰囲気温度を冷
却・低下させることが容易となる。
ックスヒュームの液化温度以下になると、雰囲気中のフ
ラックスヒュームが霧滴化する。したがって、フラック
スヒュームを効率よく捕獲することができるようにな
る。
板との接触によって生ずるフラックスヒュームは、対流
によってその上方へ流動する。また同様に、半田蒸気も
上方へ流動する。したがって、吸い込み口筺と吐出口筺
とを半田槽の溶融半田と配線基板とが接触する位置の上
方で、かつ循環雰囲気が略水平方向へ流れるように配置
することで、それらを効率よく吸い込むことができる。
また、フラックスヒューム等の流動状態に逆らわないで
吸い込むので、チャンバやトンネル路内の雰囲気の流動
状態を乱すことも少ない。
と配線基板とが接触する位置の上方で、かつ配線基板を
侠持する爪に沿ってその吸い込み口を配線基板側へ向け
て吸い込み口筺を配置することで、フラックスヒューム
はその発生後直ちに吸い込み口筺に吸い込むことができ
る。したがって、配線基板を侠持する爪にフラックスヒ
ューム等が霧滴化して付着することもなく、効率よく吸
い込むことができる。また、吸い込み口筺の近傍でその
上方に吐出口筺を配置しているので、吐出した雰囲気は
下降して直ちに吸い込み口筺に吸引される。すなわち、
チャンバやトンネル路内の雰囲気の流動状態を乱すこと
が少ない。
説明する。図1は、本発明の排煙装置をフロー型半田付
け装置に設けた実施例を示す図である。
を行うために、配線基板1の配線基板搬送用コンベア
(以下、単に搬送コンベアという)2に沿ってトンネル
路3を設け、このトンネル路3内にチッソガス(NZ )
を供給・導入する構成である。また、トンネル路3中に
は搬送コンベア2に沿ってプリヒータ4と半田槽5を設
け、配線基板1のプリヒートと半田付けを行う構成であ
る。ちなみに、同図では、溶融半田6を噴出して配線基
板1と接触させて半田付けを行う例を示している。
1で吸引して循環させる構成であり、吸い込み口筺7か
ら吸い込んだ雰囲気は冷却部8とフィルタ部9とからな
る捕集装置10を経て、ファン11で吸引・吐出し、最
終的には吐出口筺12からトンネル路3内に還流する構
成である。なお、捕集装置10の冷却部8とフィルタ部
9とは隣接して設けている。以下、図2〜図4により捕
集装置10の詳細について説明する。
で、(a)は立方体形状の捕集装置10を雰囲気が通過
する方向に対して側面から見た図で、部分的に切除して
内部を示してある。(b)は、捕集装置10から取り外
した冷却部8を示した図で、図示方向は(a)と同一で
あり、強制冷却用のファンを設備した例を示した図であ
る。
図で、(a)は冷却路の形状を説明する斜視図、(b)
は冷却路の蓋を説明する斜視図である。
で、(a)は冷却部8と蓋18とを取り外し、部分的に
切除して内部の様子を示した斜視図、(b)は主フィル
タ15の斜視図である。
成を動作とともに説明する。吸い込み口13から入った
雰囲気は冷却部8を通して冷却された後、透過間隙の相
対的に大きい荒取りフィルタ14と透過間隙の小さい主
フィルタ15とからなるフィルタ部9を通って吸い出し
口16から出る構成である。なお、蓋17の中央位置に
は吸い込み口13を設け、該蓋17を冷却部8の冷却/
放熱用の部材と兼用した構成としてある。また、他方の
蓋18は、荒取りフィルタ14と主フィルタ15の交換
用の蓋である。なお、蓋17,18は固定具19で筺体
20(図4(a)参照)に気密に取り付ける構成として
ある。
冷却部8について詳述する。すなわち、吸い込み口13
を冷却/放熱用の部材と兼用した蓋17の中央位置に設
け、その周囲に冷却フィンを兼ねた冷却路形成板21で
中心から周縁に向って次第に拡大するよう、この実施例
では中心から放射状、かつ蛇行する形状の雰囲気通路を
形成するように構成している。ちなみに、図中の破線で
示した矢印が、雰囲気の流路を示している。
21には孔22を設け、該孔22から雰囲気を放出す
る。なお、冷却路形成板21には図3(b)に示す冷却
路用の蓋23を被せ、雰囲気が通過する冷却路を吸い込
み口13から孔22までに渡って封止してある。蓋17
および冷却路形成板21は素材として熱抵抗の低い、例
えばアルミニュウムを用いている。
度が高い場合や、循環させる雰囲気流量が多く、冷却路
形成板21の孔22から放出する雰囲気の温度が目標と
する温度(例えば、摂氏70度)以下に低下しない場合
は、ファン26a,26bを蓋17に設け、強制空冷と
することで目標とする温度以下になるよう冷却する構成
とする。もちろん、水冷や油冷等の液冷手段や低温のガ
ス体による冷却手段を用いても良い。
て詳述する。すなわち、フィルタ部9は、荒取りフィル
タ14と主フィルタ15の2段階構成のフィルタであ
り、荒取りフィルタ14で相対的に大きい浮遊粒子を捕
獲し、小さい浮遊粒子を主フィルタ15で捕獲する構成
としてある。なお、ここで言う浮遊粒子とは、霧滴化し
たフラックスヒュームや固形化した半田蒸気、その他の
純粋雰囲気以外の異物のことを指す。
綿状に成形して(図示しない)枠体に収めて荒取りフィ
ルタ14を構成する。また、波状に成形して表面積の拡
大を図った濾紙24を枠体25に収めて主フィルタを構
成する。なお、図4中の白抜き矢印記号は、雰囲気の流
れる方向を示している。
型の半田付け装置の雰囲気循環路に設けて排煙装置とす
る場合には、フロー型の半田付け装置に比べて雰囲気温
度が高いので、冷却熱量を考慮して放熱部を設計する必
要がある。
aの第1の構成例を説明する図で、(a)は斜視図、
(b)は(a)をAーA´断面から見た図である。な
お、図中白抜き矢印記号は雰囲気の流れる方向を示し、
破線の矢印記号はフラックスヒューム等の流れる方向を
示している。
aと吸い込み口筐7aとを、配線基板搬送用コンベア2
の上方に設けた構成で、半田槽5は該口筐12a,7a
および該搬送コンベア2の下方にあり、溶融半田6が噴
出する半田27となって挟持爪28に挟持された配線基
板1と接触する構成である。
は、その開口部が対峙する向きで略水平方向でトンネル
路3の上壁に設けた構成である。
筐12bの第2の構成例を説明する図で、(a)は斜視
図、(b)は(a)をBーB´断面から見た図、であ
る。なお、図中の白抜き矢印記号は雰囲気の流れる方向
を示し、破線の矢印記号はフラックスヒューム等の流れ
る方向を示している。
用コンベア2のそれぞれに、挟持爪28に沿ってその吸
い込み開口部を配線基板1側へ向けてノズル形状の吸い
込み口筐7b,7cを設け、他方の放射状形状の吐出口
筐12bを、前記吸い込み口筐7b,7cの近傍でその
上方に設けた構成である。
3の上壁に設け、また、両吸い込み口筐7b,7cは配
線基板搬送用コンベア2に取り付け、両吸い込み口筐7
b,7c相互を伸縮可能なパイプ29で合流接続して配
管する構成である。このように構成することで、配線基
板1の幅が変わって配線基板搬送用コンベア2の間隔が
変化しても、吸い込み口筐7b,7cの基板を挟持する
爪28に対する相対位置を一定に保つことができる。
および搬送コンベア2の下方にあり、溶融半田6が噴出
する半田27となって基板を挟持する爪28に挟持され
た配線基板1と接触する構成である。なお、30,31
は開口を示す。
うに、トンネル路3内の雰囲気は、吸い込み口筐7→捕
集装置10の冷却部8→捕集装置10のフィルタ部9→
ファン11→吐出口筐12の順で循環する。その際に、
フラックスヒュームや蒸発した半田等の異物は捕集装置
10で除去され、トンネル路3内の雰囲気をクリーン状
態に保つことができる。
と主フィルタ15を配設する構造であるので、冷却され
て霧滴化したフラックスヒュームや固形化した半田を直
ちにフィルタで捕獲することができる。したがって、雰
囲気を循環させるための配管部分等にフラックスヒュー
ム等が露滴化して付着したりして、捕集装置10以外の
部分に不要な汚れを発生することがない。また、半田付
けの際に剥離浮遊化した半田粒子等も前記両フィルタ1
4,15に捕獲することができる。
溶融半田6と接触した際に発生するフラックスヒュー
ム、すなわち気体化したフラックスは、その温度が摂氏
70度以下になると液化して露滴化することを実験で確
かめた。したがって、両フィルタ14,15で確実にフ
ラックスヒュームを捕獲することができる。この実験結
果は、固形分5%の無洗浄タイプのフラックスを使用し
て求めた。
端縁部へ向かって気体化したフラックスを蛇行させなが
ら流し、その間に冷却路形成板21および蓋17により
熱を奪って冷却する。したがって、蓋17の中心部は温
度が高く、端縁部は温度が低くなる温度勾配分布を示
す。すなわち、放熱表面積が拡大するとともに雰囲気温
度も低下する。そのため、冷却効率も良い。
液化温度、例えば摂氏70度以下に冷却できない場合
は、ファン26a,26b等により強制冷却を行い、当
該温度以下に冷却することができる。
タ15は枠体25に形成してカートリッジ状としている
ので、交換作業を容易に行うことができる。
却されながら進行するので、冷却路形成板21等の表面
にも、若干ではあるがフラックスヒュームや半田蒸気等
の異物が液状あるいは固形状となって付着する。しか
し、それらの殆どはフィルタ部9で捕獲される。また、
固定具19のスナップ操作で、冷却部8を筐体20に取
り付けたり外したりできるので、冷却路形成板21等に
付着した異物等の清掃作業も容易に行うことができる。
すなわち、メンテナンス性にも優れている。
すように、噴出半田27と配線基板1とが接触して発生
し上昇するフラックスヒューム(破線矢印)は、トンネ
ル路3の上方を吐出口筐12aから吸い込み口筐7aへ
向かって流れる雰囲気の流れに誘われ、該吸い込み口筐
7aに吸い込むことができる。したがって、効率良くフ
ラックスヒュームや半田蒸気等を吸い込むことができる
と共に、トンネル路3内の雰囲気の流動状態を乱し難
い。
低酸素濃度を実現するトンネル路3やチャンバにあって
は、雰囲気の流動状態を乱すことが酸素濃度の制御性を
乱すことになり易いので、この点は重要である。
(b)に示すように、噴出半田27と配線基板1とが接
触して発生し上昇するフラックスヒューム(破線矢印)
は、配線基板1の基板を挟持する爪28に接触すること
なく直ちに吸い込み口筐7b,7cに吸い込むことがで
きる。そのため、フラックスヒューム等が爪28に露滴
化して付着することがない。したがって、爪28の清掃
作業が極めて容易になると共に、トンネル路3内の雰囲
気もクリーンに保つことができる。
b,7cの近傍上方に位置しているので、吐出した雰囲
気は下降して吸い込み口筐7b,7cに達し、フラック
スヒュームを該吸い込み口筐7b,7cに誘い込む。そ
のため、第1の構成例と同様に、トンネル路3内の雰囲
気の流動状態を乱し難い。
構成においては、図6の構成例と図5の構成例とを組み
合わせた構成としても良い。すなわち、図6の吸い込み
口筐7b,7cの上方に、図5に示す吸い込み口筐7a
と吐出口筐12aとを配設する構成である。なお、この
場合、図6に示す吐出口筐12bは配設せず、吐出口筐
12aに兼用させる。
7b,7cに吸い込まれなかったフラックスヒューム等
は、その上方の吸い込み口筐7aに吸い込まれる。すな
わち、前記第1の構成例と第2の構成例の特徴を併せ持
つことができる。
筐7b,7cの吸い込み口は配線基板1側にのみ設けた
構成となっているが、図6(a)の破線で示すように、
吸い込み口筐7b,7cの側面に吸い込み用の開口(3
0)(31)を併せて設けても良い。この場合、トンネ
ル路3の上方へ上昇して滞留したフラックスヒューム等
は開口(30)(31)から吸い込まれる。すなわち、
このような構成においても、前記第1の構成例と第2の
構成例の特徴を併せ持つことができる。
て、雰囲気通路、すなわち冷却路が渦巻き状になるよう
に構成しても同様の作用が得られる。
置における排煙装置に係る第1の発明においては、雰囲
気が循環する順に冷却部とフィルタ部を配置して構成し
ているので、冷却して霧滴化したフラックスヒュームや
固形化した半田は、フィルタ部で捕獲することができ
る。
て構成しているので、霧滴化したフラックスヒュームや
固形化した半田が循環路を形成するダクト等に付着する
こともない。すなわち、フィルタで効率よく捕獲するこ
とができる。
雰囲気通路を形成した冷却部では、雰囲気は通路を通過
しながら冷却される。そしてこの場合、雰囲気通路が出
口に近づくほど、放熱部の端縁部へ近づくことになる。
その結果、冷却部の中心部では該冷却部の温度が高く端
縁部では温度が低くなり、冷却部の端縁部はその表面積
が拡大するので冷却手段としては理想的な温度勾配を呈
する。
手段を備えることによって、前記温度以下に雰囲気温度
を冷却・低下させることが容易となる。
ックスヒュームの液化温度以下になると、雰囲気中の付
ラックスヒュームが霧滴化する。したがって、フラック
スヒュームを効率よく捕獲することができるようにな
る。
板との接触によって生ずるフラックスヒュームは、対流
によってその上方へ流動する。また同様に、半田蒸気も
上方へ流動する。したがって、吸い込み口筺と吐出口筺
とを半田槽の溶融半田と配線基板とが接触する位置の上
方で、かつ循環雰囲気が略水平方向へ流れるように配置
することで、それらを効率よく吸い込むことができる。
また、フラックスヒューム等の流動状態に逆らわないで
吸い込むので、チャンバやトンネル路内の雰囲気の流動
状態を乱すことも少ない。
と配線基板とが接触する位置の上方で、かつ配線基板を
侠持する爪に沿ってその吸い込み口を配線基板側へ向け
て吸い込み口筺を配置することで、フラックスヒューム
をその発生後直ちに吸い込み口筺に吸い込むことができ
る。したがって、配線基板を挟持する爪にフラックスヒ
ューム等が霧滴化して付着することもなく、効率よく吸
い込むことができる。また、吸い込み口筺の近傍でその
上方に吐出口筺を配置しているので、吐出した雰囲気は
下降して直ちに吸い込み口筺に吸引される。すなわち、
チャンバやトンネル路内の雰囲気の流動状態を乱すこと
が少ない。
ューム等を効率良く吸い込み、効率良く捕集することが
できる。また、不必要な箇所へのフラックスヒューム等
の付着も少なく、フィルタの交換作業も容易に行うこと
ができる。
高く雰囲気信頼性の高い半田付けプロセスを実現するこ
とができる。また、メンテナンス性に優れた半田付け作
業環境を実現することができる。
けた例を説明する図である。
の捕集装置を雰囲気が通過する方向に対して側面から見
た図で、部分的に切除して内部を示した図、(b)は捕
集装置から冷却部を取り外して示した図である。
の形状を説明する斜視図、(b)は冷却路の蓋を説明す
る斜視図である。
却部と蓋とを取り外し、部分的に切除して内部の様子を
示した斜視図、(b)は主フィルタの斜視図である。
する図で、(a)は斜視図、(b)は(a)をAーA´
断面から見た図である。
する図で、(a)は斜視図、(b)は(a)をBーB´
断面から見た図である。
Claims (6)
- 【請求項1】 半田付けの際に発生するフラックスヒュ
ームや半田蒸気等の異物を除去する排煙装置であって、 雰囲気を冷却する冷却部と、浮遊粒子を捕獲するフィル
タ部と、前記雰囲気を前記冷却部と前記フィルタ部とを
介して循環させるためのファンとからなり、前記雰囲気
が循環する順に前記冷却部と前記フィルタ部が配置さ
れ、かつ前記冷却部と前記フィルタ部とが隣接して配置
されていることを特徴とする半田付け装置における排煙
装置。 - 【請求項2】 冷却部は、放熱用のフィンで雰囲気通路
を形成し、該雰囲気通路を中心から周縁に向って次第に
拡大する構成としたことを特徴とする請求項1記載の半
田付け装置における排煙装置。 - 【請求項3】 冷却部が強制冷却手段を備えたことを特
徴とする請求項2記載の半田付け装置における排煙装
置。 - 【請求項4】 排煙装置において、冷却部における雰囲
気冷却温度は、フラックスヒュームの液化温度以下にす
る構成としたことを特徴とする請求項1乃至請求項3の
いずれかに記載の半田付け装置における排煙装置。 - 【請求項5】 フロー型の半田付け装置において、半田
付け雰囲気を冷却部とフィルタ部とに循環させるための
吸い込み口筺と吐出口筺とが、半田槽の溶融半田と配線
基板とが接触する位置の上方で、かつ循環雰囲気が水平
方向へ流れるように配置されていることを特徴とする請
求項1乃至4のいずれかに記載の半田付け装置における
排煙装置。 - 【請求項6】 フロー型の半田付け装置において、半田
付け雰囲気を冷却部とフィルタ部とに循環させるための
吸い込み口筺が、半田槽の溶融半田と配線基板とが接触
する位置の上方で、かつ配線基板を侠持する爪に沿って
その吸い込み口を配線基板側へ向けて配置され、吐出口
筺が前記吸い込み口筺の近傍でその上方に配置されてい
ることを特徴とする請求項1乃至4のいずれかに記載の
半田付け装置における排煙装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP5223484A JP2883263B2 (ja) | 1993-09-08 | 1993-09-08 | 半田付け装置における排煙装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP5223484A JP2883263B2 (ja) | 1993-09-08 | 1993-09-08 | 半田付け装置における排煙装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH0777346A true JPH0777346A (ja) | 1995-03-20 |
JP2883263B2 JP2883263B2 (ja) | 1999-04-19 |
Family
ID=16798862
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP5223484A Expired - Fee Related JP2883263B2 (ja) | 1993-09-08 | 1993-09-08 | 半田付け装置における排煙装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2883263B2 (ja) |
Cited By (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2005000513A1 (ja) * | 2003-06-27 | 2005-01-06 | Kabushiki Kaisha Tamura Seisakusho | リフロー装置 |
WO2005068123A1 (ja) * | 2004-01-16 | 2005-07-28 | Senju Metal Industry Co., Ltd. | リフロー炉 |
US7914595B2 (en) | 2005-02-07 | 2011-03-29 | Senju Metal Industry Co., Ltd. | Fume removal method for a reflow furnace and a reflow furnace |
JP2011222785A (ja) * | 2010-04-09 | 2011-11-04 | Senju Metal Ind Co Ltd | 噴流はんだ付け装置 |
JP2016049540A (ja) * | 2014-08-29 | 2016-04-11 | 富士通テン株式会社 | 塗布装置、及び、塗布システム |
KR20160107337A (ko) * | 2014-01-23 | 2016-09-13 | 일리노이즈 툴 워크스 인코포레이티드 | 플럭스 관리 시스템 및 웨이브 납땜 기계를 위한 오염 물질 제거 방법 |
WO2019217535A1 (en) * | 2018-05-09 | 2019-11-14 | Illinois Tool Works Inc. | Exhaust gas filter for reflow oven |
Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH0315253U (ja) * | 1989-06-27 | 1991-02-15 | ||
JPH0413474A (ja) * | 1990-04-27 | 1992-01-17 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 雰囲気炉 |
-
1993
- 1993-09-08 JP JP5223484A patent/JP2883263B2/ja not_active Expired - Fee Related
Patent Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH0315253U (ja) * | 1989-06-27 | 1991-02-15 | ||
JPH0413474A (ja) * | 1990-04-27 | 1992-01-17 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 雰囲気炉 |
Cited By (12)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2005000513A1 (ja) * | 2003-06-27 | 2005-01-06 | Kabushiki Kaisha Tamura Seisakusho | リフロー装置 |
WO2005068123A1 (ja) * | 2004-01-16 | 2005-07-28 | Senju Metal Industry Co., Ltd. | リフロー炉 |
US7914595B2 (en) | 2005-02-07 | 2011-03-29 | Senju Metal Industry Co., Ltd. | Fume removal method for a reflow furnace and a reflow furnace |
JP2011222785A (ja) * | 2010-04-09 | 2011-11-04 | Senju Metal Ind Co Ltd | 噴流はんだ付け装置 |
KR20160107337A (ko) * | 2014-01-23 | 2016-09-13 | 일리노이즈 툴 워크스 인코포레이티드 | 플럭스 관리 시스템 및 웨이브 납땜 기계를 위한 오염 물질 제거 방법 |
JP2017505543A (ja) * | 2014-01-23 | 2017-02-16 | イリノイ トゥール ワークス インコーポレイティド | ウェーブはんだ機用のフラックス管理システム及び汚染物質を除去する方法 |
JP2016049540A (ja) * | 2014-08-29 | 2016-04-11 | 富士通テン株式会社 | 塗布装置、及び、塗布システム |
WO2019217535A1 (en) * | 2018-05-09 | 2019-11-14 | Illinois Tool Works Inc. | Exhaust gas filter for reflow oven |
CN110465156A (zh) * | 2018-05-09 | 2019-11-19 | 伊利诺斯工具制品有限公司 | 用于回流焊炉的废气过滤装置 |
JP2021522998A (ja) * | 2018-05-09 | 2021-09-02 | イリノイ トゥール ワークス インコーポレイティド | リフロー炉の排ガスフィルター |
CN110465156B (zh) * | 2018-05-09 | 2023-02-21 | 伊利诺斯工具制品有限公司 | 用于回流焊炉的废气过滤装置 |
US12005526B2 (en) | 2018-05-09 | 2024-06-11 | Illinois Tool Works Inc. | Exhaust gas filter for reflow oven |
Also Published As
Publication number | Publication date |
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