JPH0769954A - 多官能ビニルエーテル化合物 - Google Patents
多官能ビニルエーテル化合物Info
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- JPH0769954A JPH0769954A JP21426593A JP21426593A JPH0769954A JP H0769954 A JPH0769954 A JP H0769954A JP 21426593 A JP21426593 A JP 21426593A JP 21426593 A JP21426593 A JP 21426593A JP H0769954 A JPH0769954 A JP H0769954A
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Abstract
(57)【要約】 （修正有）
【目的】速硬化性を有し、酸素による重合阻害を回避し
良好な表面硬化特性を有する多官能ビニルエーテル化合
物を提供する。 【構成】 〔Ｒ1 はハロゲン原子、アルキル基、アリール基、アラ
ルキル基、アルコキシ基、アリーロキシ基、或いは、シ
クロアルキル基を示し、Ｒ2 は水素原子または炭素数１
０以下のアルキル基或いはシクロアルキル基を示し、Ｒ
3 は炭素数１０以下のアルキル基またはハロゲン原子を
示す。Ｑは、それぞれ独立に、−ＯＨまたは、一般式
（ＩＩ）−ＯＲＯＣＨ＝ＣＨ2 （式中、Ｒは、１ないし
１２の炭素原子を含むアルキレン基を示す。）で表され
る基を示し、（−ＯＨ）／（−ＯＲＯＣＨ＝ＣＨ2 ）＝
０／１００〜９０／１０（モル比）である。ｎ、ｍはそ
れぞれ０〜４、０〜９の整数を示す。〕で表される多官
能ビニルエーテル化合物。
良好な表面硬化特性を有する多官能ビニルエーテル化合
物を提供する。 【構成】 〔Ｒ1 はハロゲン原子、アルキル基、アリール基、アラ
ルキル基、アルコキシ基、アリーロキシ基、或いは、シ
クロアルキル基を示し、Ｒ2 は水素原子または炭素数１
０以下のアルキル基或いはシクロアルキル基を示し、Ｒ
3 は炭素数１０以下のアルキル基またはハロゲン原子を
示す。Ｑは、それぞれ独立に、−ＯＨまたは、一般式
（ＩＩ）−ＯＲＯＣＨ＝ＣＨ2 （式中、Ｒは、１ないし
１２の炭素原子を含むアルキレン基を示す。）で表され
る基を示し、（−ＯＨ）／（−ＯＲＯＣＨ＝ＣＨ2 ）＝
０／１００〜９０／１０（モル比）である。ｎ、ｍはそ
れぞれ０〜４、０〜９の整数を示す。〕で表される多官
能ビニルエーテル化合物。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、新規な多官能ビニルエ
ーテル化合物に関するものである。本化合物は、ルイス
酸、プロトン酸等の光カチオン重合開始剤の添加により
光硬化が可能であり、産業上の利用分野としては、例え
ばネガティブ型フォトレジスト、塗料、インキ等の感光
性樹脂としての利用があげられる。
ーテル化合物に関するものである。本化合物は、ルイス
酸、プロトン酸等の光カチオン重合開始剤の添加により
光硬化が可能であり、産業上の利用分野としては、例え
ばネガティブ型フォトレジスト、塗料、インキ等の感光
性樹脂としての利用があげられる。
【０００２】
【従来の技術】光硬化性樹脂として、実用化されている
化合物としては、エポキシアクリレート、ウレタンアク
リレート等に代表されるアクリレート樹脂が公知であ
る。
化合物としては、エポキシアクリレート、ウレタンアク
リレート等に代表されるアクリレート樹脂が公知であ
る。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】しかし、これら従来の
アクリレート樹脂は、硬化時に酸素による重合阻害が避
けられず、硬化膜表面の硬化性が著しく悪いこと、ま
た、酸素による重合阻害の見られないエポキシ基の光カ
チオン重合を硬化反応に利用した感光性樹脂について
は、硬化速度が非常に遅いという別の問題点を有してお
り、いずれも感光性樹脂としての要求特性は十分に満足
されていない。本発明の目的は、従来のアクリレート樹
脂に見られる上記の欠点を改良した、すなわち、速硬化
性を有し、酸素による重合阻害を回避し良好な表面硬化
特性を有し、さらに、分子中のフェノール性水酸基とビ
ニルオキシアルキル基のバランスを調整することによ
り、希アルカリ水への溶解性をも付与し得る（後者は特
にネガティブ型フォトレジストに使用する場合必要であ
る）多官能ビニルエーテル化合物を提供することであ
る。
アクリレート樹脂は、硬化時に酸素による重合阻害が避
けられず、硬化膜表面の硬化性が著しく悪いこと、ま
た、酸素による重合阻害の見られないエポキシ基の光カ
チオン重合を硬化反応に利用した感光性樹脂について
は、硬化速度が非常に遅いという別の問題点を有してお
り、いずれも感光性樹脂としての要求特性は十分に満足
されていない。本発明の目的は、従来のアクリレート樹
脂に見られる上記の欠点を改良した、すなわち、速硬化
性を有し、酸素による重合阻害を回避し良好な表面硬化
特性を有し、さらに、分子中のフェノール性水酸基とビ
ニルオキシアルキル基のバランスを調整することによ
り、希アルカリ水への溶解性をも付与し得る（後者は特
にネガティブ型フォトレジストに使用する場合必要であ
る）多官能ビニルエーテル化合物を提供することであ
る。
【０００４】
【課題を解決するための手段】本発明者らは、上記課題
を解決するために鋭意検討した結果、特定の構造を有す
る化合物が、上記目的を満足することを見いだし、本発
明を完成させるに至った。すなわち、本発明は次のとお
りである。一般式（Ｉ）
を解決するために鋭意検討した結果、特定の構造を有す
る化合物が、上記目的を満足することを見いだし、本発
明を完成させるに至った。すなわち、本発明は次のとお
りである。一般式（Ｉ）
【０００５】
【化２】 〔Ｒ1 はハロゲン原子、アルキル基、アリール基、アラ
ルキル基、アルコキシ基、アリーロキシ基、或いは、シ
クロアルキル基を示し、かつＲ1 は同一環内でまたは異
なる環内で複数存在する場合は、互いに同一であっても
異なっていてもよい。Ｒ2 は水素原子または炭素数１０
以下のアルキル基或いはシクロアルキル基を示し、かつ
２つのＲ2 は同一であっても異なっていてもよい。Ｒ3
は炭素数１０以下のアルキル基またはハロゲン原子を示
し、かつＲ3 は、同一環内でまたは異なる環内で複数存
在する場合は互いに同一であっても異なっていてもよ
い。Ｑは、それぞれ独立に、−ＯＨまたは、一般式（Ｉ
Ｉ）−ＯＲＯＣＨ＝ＣＨ2 （式中、Ｒは、１ないし１２
の炭素原子を含むアルキレン基を示す。）で表される基
を示し、（−ＯＨ）／（−ＯＲＯＣＨ＝ＣＨ2 ）＝０／
１００〜９０／１０（モル比）である。ｎ、ｍはそれぞ
れ０〜４、０〜９の整数を示す。〕で表される多官能ビ
ニルエーテル化合物。
ルキル基、アルコキシ基、アリーロキシ基、或いは、シ
クロアルキル基を示し、かつＲ1 は同一環内でまたは異
なる環内で複数存在する場合は、互いに同一であっても
異なっていてもよい。Ｒ2 は水素原子または炭素数１０
以下のアルキル基或いはシクロアルキル基を示し、かつ
２つのＲ2 は同一であっても異なっていてもよい。Ｒ3
は炭素数１０以下のアルキル基またはハロゲン原子を示
し、かつＲ3 は、同一環内でまたは異なる環内で複数存
在する場合は互いに同一であっても異なっていてもよ
い。Ｑは、それぞれ独立に、−ＯＨまたは、一般式（Ｉ
Ｉ）−ＯＲＯＣＨ＝ＣＨ2 （式中、Ｒは、１ないし１２
の炭素原子を含むアルキレン基を示す。）で表される基
を示し、（−ＯＨ）／（−ＯＲＯＣＨ＝ＣＨ2 ）＝０／
１００〜９０／１０（モル比）である。ｎ、ｍはそれぞ
れ０〜４、０〜９の整数を示す。〕で表される多官能ビ
ニルエーテル化合物。
【０００６】以下に本発明を詳細に説明する。一般式
（Ｉ）において、置換基Ｒ1 としては、フッ素、塩素及
び臭素等のハロゲン原子；メチル基、エチル基、プロピ
ル基、ブチル基、アミル基、ヘキシル基、ヘプチル基、
ノニル基及びデシル基等の炭素数１０以下の直鎖または
分岐鎖のアルキル基；フェニル基、トリル基及びナフチ
ル基等の炭素数１５以下のアリール基；ベンジル基、フ
ェネチル基及びベンズヒドリル基等のアラルキル基；メ
トキシ基、エトキシ基及びプロポキシ基等のアルコキシ
基；フェノキシ基、ナフトキシ基及びアンスロキシ基等
のアリーロキシ基；シクロペンチル基、シクロヘキシル
基等の炭素数１０以下のシクロアルキル基等が例示され
る。置換基Ｒ2 の炭素数１０以下のアルキル基またはシ
クロアルキル基としては、前記Ｒ1 と同じものが例示さ
れる。置換基Ｒ3 の炭素数１０以下のアルキル基及びハ
ロゲン原子としては、前記Ｒ1 と同じものが例示され
る。
（Ｉ）において、置換基Ｒ1 としては、フッ素、塩素及
び臭素等のハロゲン原子；メチル基、エチル基、プロピ
ル基、ブチル基、アミル基、ヘキシル基、ヘプチル基、
ノニル基及びデシル基等の炭素数１０以下の直鎖または
分岐鎖のアルキル基；フェニル基、トリル基及びナフチ
ル基等の炭素数１５以下のアリール基；ベンジル基、フ
ェネチル基及びベンズヒドリル基等のアラルキル基；メ
トキシ基、エトキシ基及びプロポキシ基等のアルコキシ
基；フェノキシ基、ナフトキシ基及びアンスロキシ基等
のアリーロキシ基；シクロペンチル基、シクロヘキシル
基等の炭素数１０以下のシクロアルキル基等が例示され
る。置換基Ｒ2 の炭素数１０以下のアルキル基またはシ
クロアルキル基としては、前記Ｒ1 と同じものが例示さ
れる。置換基Ｒ3 の炭素数１０以下のアルキル基及びハ
ロゲン原子としては、前記Ｒ1 と同じものが例示され
る。
【０００７】Ｑは、それぞれ独立に、水酸基または上記
の式で表されるビニルオキシアルコキシル基であり、同
式中のアルキレン基Ｒとしては、メチレン、ジメチレ
ン、トリメチレン、テトラメチレン、ヘキサメチレン、
ヘプタメチレン、オクタメチレン、ノナメチレン、デカ
メチレン、ドデカメチレンまたはこれらの分岐を有する
異性体等が例示される。水酸基／ビニルオキシアルコキ
シル基の比は、分子全体の平均値として０／１００〜９
０／１０（モル比）の範囲で任意に設定できる。一般式
（Ｉ）で表される化合物の一般的な合成方法としては、
一般式（ＩＩＩ）
の式で表されるビニルオキシアルコキシル基であり、同
式中のアルキレン基Ｒとしては、メチレン、ジメチレ
ン、トリメチレン、テトラメチレン、ヘキサメチレン、
ヘプタメチレン、オクタメチレン、ノナメチレン、デカ
メチレン、ドデカメチレンまたはこれらの分岐を有する
異性体等が例示される。水酸基／ビニルオキシアルコキ
シル基の比は、分子全体の平均値として０／１００〜９
０／１０（モル比）の範囲で任意に設定できる。一般式
（Ｉ）で表される化合物の一般的な合成方法としては、
一般式（ＩＩＩ）
【０００８】
【化３】 （式中、Ｒ1 、Ｒ2 、Ｒ3 、ｎ及びｍの定義は、一般式
（Ｉ）のそれと同じである。）で表される多価フェノー
ル化合物（Ｓ）と、一般式：ＸＲＯＣＨ＝ＣＨ2（式
中、Ｘはハロゲン原子、Ｒは１ないし１２の炭素原子を
含むアルキレン基を示す。）で表されるハロアルキルビ
ニルエーテル（Ｔ）を接触させて得ることができる。
（Ｉ）のそれと同じである。）で表される多価フェノー
ル化合物（Ｓ）と、一般式：ＸＲＯＣＨ＝ＣＨ2（式
中、Ｘはハロゲン原子、Ｒは１ないし１２の炭素原子を
含むアルキレン基を示す。）で表されるハロアルキルビ
ニルエーテル（Ｔ）を接触させて得ることができる。
【０００９】一般式（ＩＩＩ）で表される多価フェノー
ル化合物（Ｓ）は、フェノール類と、２，２−ビス（４
−オキソシクロヘキシル）プロパンに代表されるビスシ
クロヘキサノン類との酸触媒による脱水縮合反応により
得ることができる。
ル化合物（Ｓ）は、フェノール類と、２，２−ビス（４
−オキソシクロヘキシル）プロパンに代表されるビスシ
クロヘキサノン類との酸触媒による脱水縮合反応により
得ることができる。
【００１０】フェノール類の例としては、フェノールま
たは、クレゾール、エチルフェノール、ｎ−プロピルフ
ェノール、イソプロピルフェノール、ｎ−ブチルフェノ
ール、イソブチルフェノール、ｔ−ブチルフェノール、
オクチルフェノール、ノニルフェノール、キシレノー
ル、メチルブチルフェノール、ジ−ｔ−ブチルフェノー
ル、ジ−ｔ−アミルフェノール等を代表とするアルキル
フェノールの各種ｏ−、ｍ−、ｐ−異性体、または、メ
トキシフェノール、エトキシフェノール、プロピロキシ
フェノール等を代表とするアルコキシフェノールの各種
ｏ−、ｍ−、ｐ−異性体、または、シクロぺンチルフェ
ノール、シクロヘキシルフェノール、シクロヘキシルク
レゾール等を代表とするシクロアルキルフェノール、ま
たは、クロロフェノール、ジクロロフェノール、ブロモ
フェノール、ジブロモフェノールに代表されるハロゲン
置換フェノール、あるいはアリールフェノール、アラル
キルフェノール等の置換フェノールが挙げられる。これ
らのフェノール類は、単独のみならず二種類以上の混合
使用も可能である。
たは、クレゾール、エチルフェノール、ｎ−プロピルフ
ェノール、イソプロピルフェノール、ｎ−ブチルフェノ
ール、イソブチルフェノール、ｔ−ブチルフェノール、
オクチルフェノール、ノニルフェノール、キシレノー
ル、メチルブチルフェノール、ジ−ｔ−ブチルフェノー
ル、ジ−ｔ−アミルフェノール等を代表とするアルキル
フェノールの各種ｏ−、ｍ−、ｐ−異性体、または、メ
トキシフェノール、エトキシフェノール、プロピロキシ
フェノール等を代表とするアルコキシフェノールの各種
ｏ−、ｍ−、ｐ−異性体、または、シクロぺンチルフェ
ノール、シクロヘキシルフェノール、シクロヘキシルク
レゾール等を代表とするシクロアルキルフェノール、ま
たは、クロロフェノール、ジクロロフェノール、ブロモ
フェノール、ジブロモフェノールに代表されるハロゲン
置換フェノール、あるいはアリールフェノール、アラル
キルフェノール等の置換フェノールが挙げられる。これ
らのフェノール類は、単独のみならず二種類以上の混合
使用も可能である。
【００１１】また多価フェノール化合物（Ｓ）のもう一
方の原料であるビスシクロヘキサノン類の例としては、
２，２−ビス（４−オキソシクロヘキシル）プロパン、
または、２，２−ビス（３，５−ジメチル−４−オキソ
シクロヘキシル）プロパン、２，２−ビス（３，５−ジ
ブロモ−４−オキソシクロヘキシル）プロパン、ビス
（４−オキソシクロヘキシル）メタン、ビス（３，５−
ジメチル−４−オキソシクロヘキシル）メタン、１，１
−ビス（４−オキソシクロヘキシル）エタン、１，１−
ビス（４−オキソシクロヘキシル）シクロヘキサンが挙
げられる。
方の原料であるビスシクロヘキサノン類の例としては、
２，２−ビス（４−オキソシクロヘキシル）プロパン、
または、２，２−ビス（３，５−ジメチル−４−オキソ
シクロヘキシル）プロパン、２，２−ビス（３，５−ジ
ブロモ−４−オキソシクロヘキシル）プロパン、ビス
（４−オキソシクロヘキシル）メタン、ビス（３，５−
ジメチル−４−オキソシクロヘキシル）メタン、１，１
−ビス（４−オキソシクロヘキシル）エタン、１，１−
ビス（４−オキソシクロヘキシル）シクロヘキサンが挙
げられる。
【００１２】多価フェノール化合物（Ｓ）とハロアルキ
ルビニルエーテル（Ｔ）との縮合反応に際しては、適当
な縮合促進剤、例えば，水酸化ナトリウム、水酸化カリ
ウム、水素化ナトリウム等のアルカリ金属化合物；金属
ナトリウム；ナトリウムメチラート等のアルカリ金属ア
ルコラート；トリエチルベンジルアンモニウムクロライ
ド、テトラエチルアンモニウムクロライド、トリブチル
ベンジルアンモニウムクロライド等の四級アンモニウム
塩；炭酸ナトリウム、炭酸カリウム等の金属塩等を添加
して反応を促進させることができる。
ルビニルエーテル（Ｔ）との縮合反応に際しては、適当
な縮合促進剤、例えば，水酸化ナトリウム、水酸化カリ
ウム、水素化ナトリウム等のアルカリ金属化合物；金属
ナトリウム；ナトリウムメチラート等のアルカリ金属ア
ルコラート；トリエチルベンジルアンモニウムクロライ
ド、テトラエチルアンモニウムクロライド、トリブチル
ベンジルアンモニウムクロライド等の四級アンモニウム
塩；炭酸ナトリウム、炭酸カリウム等の金属塩等を添加
して反応を促進させることができる。
【００１３】これらの縮合促進剤を使用する場合、塩基
の仕込比としては、化合物（Ｓ）のＯＨ基１．０モル当
量に対し、縮合促進剤を０．１〜１０．０モルの範囲、
好ましくは０．３〜２．０モルの範囲にすることで高い
反応促進効果が得られる。
の仕込比としては、化合物（Ｓ）のＯＨ基１．０モル当
量に対し、縮合促進剤を０．１〜１０．０モルの範囲、
好ましくは０．３〜２．０モルの範囲にすることで高い
反応促進効果が得られる。
【００１４】反応は、不活性溶媒、例えばエチルセロソ
ルブ、ジメチルスルホキシド、エチレングリコールモノ
メチルエーテル、ジメチルアセトアミドの様な溶媒中で
行なうことができる。また、反応温度に制限はないが、
室温から１００℃の範囲が好ましい。
ルブ、ジメチルスルホキシド、エチレングリコールモノ
メチルエーテル、ジメチルアセトアミドの様な溶媒中で
行なうことができる。また、反応温度に制限はないが、
室温から１００℃の範囲が好ましい。
【００１５】前記反応終了後の目的物の単離精製法は、
公知の方法を採用できる。例えば、反応液を室温まで冷
却後、トルエン或いはメチルイソブチルケトンで有機層
を抽出し数回水洗することで、未反応化合物（Ｓ）、無
機塩を除き、有機層を無水硫酸ナトリウム等の乾燥剤で
乾燥した後、減圧濃縮することにより目的物を取得する
方法等があげられるが、この方法に限定されるものでは
ない。本発明により得られた多官能ビニルエーテル化合
物は、感光性樹脂として種々の用途がある。
公知の方法を採用できる。例えば、反応液を室温まで冷
却後、トルエン或いはメチルイソブチルケトンで有機層
を抽出し数回水洗することで、未反応化合物（Ｓ）、無
機塩を除き、有機層を無水硫酸ナトリウム等の乾燥剤で
乾燥した後、減圧濃縮することにより目的物を取得する
方法等があげられるが、この方法に限定されるものでは
ない。本発明により得られた多官能ビニルエーテル化合
物は、感光性樹脂として種々の用途がある。
【００１６】
【発明の効果】本発明の多官能ビニルエーテル化合物
は、それを感光性樹脂組成物として使用する場合、従来
のアクリレート樹脂を使用した感光性樹脂と同等の速硬
化性や硬化物物性を維持しつつ、酸素による重合阻害の
全く無い良好な表面硬化性を付与することができる。更
に、化合物中のフェノール性水酸基とビニルオキシアル
キル基のバランスの最適化により、それをネガティブ型
フォトレジストとして使用する場合に必要な性質である
希アルカリ水への溶解性（現象特性）を付与できるとい
った非常に優れた感光性樹脂特性を発現できる。
は、それを感光性樹脂組成物として使用する場合、従来
のアクリレート樹脂を使用した感光性樹脂と同等の速硬
化性や硬化物物性を維持しつつ、酸素による重合阻害の
全く無い良好な表面硬化性を付与することができる。更
に、化合物中のフェノール性水酸基とビニルオキシアル
キル基のバランスの最適化により、それをネガティブ型
フォトレジストとして使用する場合に必要な性質である
希アルカリ水への溶解性（現象特性）を付与できるとい
った非常に優れた感光性樹脂特性を発現できる。
【００１７】
【実施例】以下に本発明を実施例によって更に詳細に説
明するが、本発明はこれら実施例に限定されるものでは
ない。
明するが、本発明はこれら実施例に限定されるものでは
ない。
【００１８】参考例１ ２，２−ビス（４−オキソシクロヘキシル）プロパン
（新日本化学株式会社製）４９．１ｇ、オルソクレゾー
ル４３２．０ｇ、メルカプトプロピオン酸３．９８ｇと
濃塩酸２０５．５ｇを、還流冷却器、温度計、撹拌器、
及び窒素導入装置を付した反応器に仕込み、６０℃で
１．５時間反応させた。中和及び水洗の後にトルエンを
加え沈澱を濾取し、２，２−ビス［４，４−ビス（３−
メチル−４−ヒドロキシフェニル）シクロヘキシル］プ
ロパン１９５．５ｇを得た。
（新日本化学株式会社製）４９．１ｇ、オルソクレゾー
ル４３２．０ｇ、メルカプトプロピオン酸３．９８ｇと
濃塩酸２０５．５ｇを、還流冷却器、温度計、撹拌器、
及び窒素導入装置を付した反応器に仕込み、６０℃で
１．５時間反応させた。中和及び水洗の後にトルエンを
加え沈澱を濾取し、２，２−ビス［４，４−ビス（３−
メチル−４−ヒドロキシフェニル）シクロヘキシル］プ
ロパン１９５．５ｇを得た。
【００１９】実施例１ 参考例１で得た、２，２−ビス［４，４−ビス（３−メ
チル−４−ヒドロキシフェニル）シクロヘキシル］プロ
パン（ＯＨ当量：１５８）７９．１ｇ、ジメチルスルホ
キシド１７０ｇを還流冷却器、温度計、撹拌器、及び窒
素導入装置を付した反応器に仕込み溶解せしめた後、粉
末状水酸化ナトリウム２５．０ｇを加え、６０℃で３０
分撹拌する。次に２−クロルエチルビニルエーテル８
０．０ｇを反応器内温度を６０℃に保持したまま３０分
で滴下し、更に、７０℃で７．５時間保温することによ
り反応を完結させた。
チル−４−ヒドロキシフェニル）シクロヘキシル］プロ
パン（ＯＨ当量：１５８）７９．１ｇ、ジメチルスルホ
キシド１７０ｇを還流冷却器、温度計、撹拌器、及び窒
素導入装置を付した反応器に仕込み溶解せしめた後、粉
末状水酸化ナトリウム２５．０ｇを加え、６０℃で３０
分撹拌する。次に２−クロルエチルビニルエーテル８
０．０ｇを反応器内温度を６０℃に保持したまま３０分
で滴下し、更に、７０℃で７．５時間保温することによ
り反応を完結させた。
【００２０】８５％リン酸水溶液１０．４ｇで過剰の水
酸化ナトリウムを中和した後、メチルイソブチルケトン
２３０ｇ、水４００ｇを加え、有機層への目的物の抽出
及び無機塩の水層への溶解を行なった。この後、水４０
０ｇによる水洗を５回繰り返し、無水硫酸ナトリウムに
より有機層を乾燥、濾過、更に、メチルイソブチルケト
ンを減圧留去することにより目的物を８１．７ｇを得
た。
酸化ナトリウムを中和した後、メチルイソブチルケトン
２３０ｇ、水４００ｇを加え、有機層への目的物の抽出
及び無機塩の水層への溶解を行なった。この後、水４０
０ｇによる水洗を５回繰り返し、無水硫酸ナトリウムに
より有機層を乾燥、濾過、更に、メチルイソブチルケト
ンを減圧留去することにより目的物を８１．７ｇを得
た。
【００２１】その赤外吸収スペクトルから、１６１０ｃ
ｍ-1と９７５ｃｍ-1にビニル基による吸収、１２００ｃ
ｍ-1にエーテル結合に基づく吸収が認められた。また、
３４００ｃｍ-1付近の水酸基による吸収が完全に消失
し、フェノール性水酸基の水素原子が完全にビニルオキ
シエチル基に置換されたことを確認した。得られた化合
物は、次式で表される多官能ビニルエーテル化合物〔以
下、化合物（１）という〕である。
ｍ-1と９７５ｃｍ-1にビニル基による吸収、１２００ｃ
ｍ-1にエーテル結合に基づく吸収が認められた。また、
３４００ｃｍ-1付近の水酸基による吸収が完全に消失
し、フェノール性水酸基の水素原子が完全にビニルオキ
シエチル基に置換されたことを確認した。得られた化合
物は、次式で表される多官能ビニルエーテル化合物〔以
下、化合物（１）という〕である。
【００２２】
【化４】 （式中、Ｑは全て−ＯＣＨ2 ＣＨ2 ＯＣＨ＝ＣＨ2 であ
る。）
る。）
【００２３】実施例２ 参考例１で得た、２，２−ビス［４，４−ビス（３−メ
チル−４−ヒドロキシフェニル）シクロヘキシル］プロ
パン（ＯＨ当量：１５８）７９．１ｇ、ジメチルスルホ
キシド１７０ｇを還流冷却器、温度計、撹拌器、及び窒
素導入装置を付した反応器に仕込み溶解せしめた後、粉
末状水酸化ナトリウム１０．４ｇを加え、６０℃で３０
分撹拌する。次に２−クロルエチルビニルエーテル３
２．０ｇを反応器内温度を６０℃に保持したまま３０分
で滴下し、更に、７０℃で８時間保温することにより反
応を完結させた。
チル−４−ヒドロキシフェニル）シクロヘキシル］プロ
パン（ＯＨ当量：１５８）７９．１ｇ、ジメチルスルホ
キシド１７０ｇを還流冷却器、温度計、撹拌器、及び窒
素導入装置を付した反応器に仕込み溶解せしめた後、粉
末状水酸化ナトリウム１０．４ｇを加え、６０℃で３０
分撹拌する。次に２−クロルエチルビニルエーテル３
２．０ｇを反応器内温度を６０℃に保持したまま３０分
で滴下し、更に、７０℃で８時間保温することにより反
応を完結させた。
【００２４】８５％リン酸水溶液３．５ｇで過剰の水酸
化ナトリウムを中和した後、メチルイソブチルケトン２
５０ｇ、水４５０ｇを加え、有機層への目的物の抽出及
び無機塩の水層への溶解を行なった。この後、水４５０
ｇによる水洗を５回繰り返し、無水硫酸ナトリウムによ
り有機層を乾燥、濾過、更に、メチルイソブチルケトン
を減圧留去することにより目的物６６．４ｇを得た。
化ナトリウムを中和した後、メチルイソブチルケトン２
５０ｇ、水４５０ｇを加え、有機層への目的物の抽出及
び無機塩の水層への溶解を行なった。この後、水４５０
ｇによる水洗を５回繰り返し、無水硫酸ナトリウムによ
り有機層を乾燥、濾過、更に、メチルイソブチルケトン
を減圧留去することにより目的物６６．４ｇを得た。
【００２５】その赤外吸収スペクトルから、１６１０ｃ
ｍ-1と９７５ｃｍ-1にビニル基による吸収、１２００ｃ
ｍ-1にエーテル結合に基づく吸収が認められた。また、
中和滴定法により残存フェノール性水酸基を定量し、ビ
ニルオキシエチル基置換率を算出した結果、置換率は５
０％であった。得られた化合物は、次式で表される多官
能ビニルエーテル化合物〔以下、化合物（２）という〕
である。
ｍ-1と９７５ｃｍ-1にビニル基による吸収、１２００ｃ
ｍ-1にエーテル結合に基づく吸収が認められた。また、
中和滴定法により残存フェノール性水酸基を定量し、ビ
ニルオキシエチル基置換率を算出した結果、置換率は５
０％であった。得られた化合物は、次式で表される多官
能ビニルエーテル化合物〔以下、化合物（２）という〕
である。
【００２６】
【化５】 （式中、Ｑは−ＯＨまたは−ＯＣＨ2 ＣＨ2 ＯＣＨ＝Ｃ
Ｈ2 であり、両者の比は５０／５０である。）
Ｈ2 であり、両者の比は５０／５０である。）
【００２７】参考例２ 実施例１によって得た、化合物（１）を下記のような配
合により、感光性樹脂組成物とした。
合により、感光性樹脂組成物とした。
【００２８】
【表１】 本感光性樹脂組成物を、ガラス基盤上に１．２μｍ厚で
スピンコートし、６０℃、３０分プリベーク後、ＫＡＳ
ＰＥＲ ２００１Ｃ露光機（ＫＡＳＰＥＲ社製）を用い
大気中でパターニング露光を実施した結果、光量４０ｍ
Ｊ／ｃｍ2 でタック（ベタつき）の無い硬化フィルムを
得た。これは酸素による重合阻害が無いことを示してい
る。更に、ブチルセロソルブにて現象したところ、解像
度１０μｍの良好なパターンを得た。「解像度」は数本
の線が線幅に等しい間隔で並んでいる図形（ｌｉｎｅ
＆ｓｐａｃｅ）を用い測定する。線幅を少しずつ変えた
ｌｉｎｅ ＆ ｓｐａｃｅの組をマスクとし、そのパタ
ーンを基板上に焼き付け、その解像限界を示したもので
ある。
スピンコートし、６０℃、３０分プリベーク後、ＫＡＳ
ＰＥＲ ２００１Ｃ露光機（ＫＡＳＰＥＲ社製）を用い
大気中でパターニング露光を実施した結果、光量４０ｍ
Ｊ／ｃｍ2 でタック（ベタつき）の無い硬化フィルムを
得た。これは酸素による重合阻害が無いことを示してい
る。更に、ブチルセロソルブにて現象したところ、解像
度１０μｍの良好なパターンを得た。「解像度」は数本
の線が線幅に等しい間隔で並んでいる図形（ｌｉｎｅ
＆ｓｐａｃｅ）を用い測定する。線幅を少しずつ変えた
ｌｉｎｅ ＆ ｓｐａｃｅの組をマスクとし、そのパタ
ーンを基板上に焼き付け、その解像限界を示したもので
ある。
【００２９】参考例３ 実施例２によって得た、化合物（２）を下記のような配
合により、感光性樹脂組成物とした。
合により、感光性樹脂組成物とした。
【００３０】
【表２】 本感光性樹脂組成物を、ガラス基盤上に１．２μｍ厚で
スピンコートし、６０℃、５分プリべーク後、ＫＡＳＰ
ＥＲ ２００１Ｃ露光機（ＫＡＳＰＥＲ社製）を用い大
気中でパターニング露光を実施した結果、光量８０ｍＪ
／ｃｍ2 でタックの無い硬化フィルムを得た。更に、３
％水酸化ナトリウム水溶液にて現象したところ、解像度
１０μｍの良好なパターンを得た。
スピンコートし、６０℃、５分プリべーク後、ＫＡＳＰ
ＥＲ ２００１Ｃ露光機（ＫＡＳＰＥＲ社製）を用い大
気中でパターニング露光を実施した結果、光量８０ｍＪ
／ｃｍ2 でタックの無い硬化フィルムを得た。更に、３
％水酸化ナトリウム水溶液にて現象したところ、解像度
１０μｍの良好なパターンを得た。
Claims (1)
- 【請求項１】一般式（Ｉ） 【化１】 〔Ｒ1 はハロゲン原子、アルキル基、アリール基、アラ
ルキル基、アルコキシ基、アリーロキシ基、或いは、シ
クロアルキル基を示し、かつＲ1 は同一環内でまたは異
なる環内で複数存在する場合は、互いに同一であっても
異なっていてもよい。Ｒ2 は水素原子または炭素数１０
以下のアルキル基或いはシクロアルキル基を示し、かつ
２つのＲ2 は同一であっても異なっていてもよい。Ｒ3
は炭素数１０以下のアルキル基またはハロゲン原子を示
し、かつＲ3 は、同一環内でまたは異なる環内で複数存
在する場合は互いに同一であっても異なっていてもよ
い。Ｑは、それぞれ独立に、−ＯＨまたは、一般式（Ｉ
Ｉ）−ＯＲＯＣＨ＝ＣＨ2 （式中、Ｒは、１ないし１２
の炭素原子を含むアルキレン基を示す。）で表される基
を示し、（−ＯＨ）／（−ＯＲＯＣＨ＝ＣＨ2 ）＝０／
１００〜９０／１０（モル比）である。ｎ、ｍはそれぞ
れ０〜４、０〜９の整数を示す。〕で表される多官能ビ
ニルエーテル化合物。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP21426593A JPH0769954A (ja) | 1993-08-30 | 1993-08-30 | 多官能ビニルエーテル化合物 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP21426593A JPH0769954A (ja) | 1993-08-30 | 1993-08-30 | 多官能ビニルエーテル化合物 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0769954A true JPH0769954A (ja) | 1995-03-14 |
Family
ID=16652886
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP21426593A Pending JPH0769954A (ja) | 1993-08-30 | 1993-08-30 | 多官能ビニルエーテル化合物 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0769954A (ja) |
Cited By (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP1528088A1 (en) * | 2003-10-28 | 2005-05-04 | Toshiba Tec Kabushiki Kaisha | Inkjet ink |
| WO2011074597A1 (ja) * | 2009-12-15 | 2011-06-23 | 本州化学工業株式会社 | 新規な多核ポリ（フェノール）類 |
| WO2011090008A1 (ja) * | 2010-01-19 | 2011-07-28 | Jsr株式会社 | 新規化合物および該化合物の合成方法、ならびに該化合物を含有する酸化防止剤、離型剤、樹脂組成物および樹脂成型体 |
| JP2011148713A (ja) * | 2010-01-19 | 2011-08-04 | Jsr Corp | 新規化合物および該化合物の合成方法、ならびに該化合物を含有する酸化防止剤、樹脂組成物および樹脂成型体 |
| WO2017043353A1 (ja) * | 2015-09-11 | 2017-03-16 | 株式会社Adeka | 新規化合物、潜在性添加剤及び該添加剤を含有する組成物 |
| JP2017119670A (ja) * | 2015-12-24 | 2017-07-06 | 信越化学工業株式会社 | 有機膜形成用化合物、有機膜形成用組成物、有機膜形成方法、及びパターン形成方法 |
-
1993
- 1993-08-30 JP JP21426593A patent/JPH0769954A/ja active Pending
Cited By (13)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP1528088A1 (en) * | 2003-10-28 | 2005-05-04 | Toshiba Tec Kabushiki Kaisha | Inkjet ink |
| US8921613B2 (en) | 2009-12-15 | 2014-12-30 | Honshu Chemical Industry Co., Ltd. | Polynuclear poly(phenol) family |
| WO2011074597A1 (ja) * | 2009-12-15 | 2011-06-23 | 本州化学工業株式会社 | 新規な多核ポリ（フェノール）類 |
| JP5762977B2 (ja) * | 2009-12-15 | 2015-08-12 | 本州化学工業株式会社 | 新規な多核ポリ（フェノール）類 |
| JPWO2011074597A1 (ja) * | 2009-12-15 | 2013-04-25 | 本州化学工業株式会社 | 新規な多核ポリ（フェノール）類 |
| JP2011148713A (ja) * | 2010-01-19 | 2011-08-04 | Jsr Corp | 新規化合物および該化合物の合成方法、ならびに該化合物を含有する酸化防止剤、樹脂組成物および樹脂成型体 |
| WO2011090008A1 (ja) * | 2010-01-19 | 2011-07-28 | Jsr株式会社 | 新規化合物および該化合物の合成方法、ならびに該化合物を含有する酸化防止剤、離型剤、樹脂組成物および樹脂成型体 |
| WO2017043353A1 (ja) * | 2015-09-11 | 2017-03-16 | 株式会社Adeka | 新規化合物、潜在性添加剤及び該添加剤を含有する組成物 |
| CN107614477A (zh) * | 2015-09-11 | 2018-01-19 | 株式会社艾迪科 | 新型化合物、潜伏性添加剂和含有该添加剂的组合物 |
| JPWO2017043353A1 (ja) * | 2015-09-11 | 2018-07-05 | 株式会社Adeka | 新規化合物、潜在性添加剤及び該添加剤を含有する組成物 |
| TWI723043B (zh) * | 2015-09-11 | 2021-04-01 | 日商艾迪科股份有限公司 | 新穎化合物、潛在性添加劑及含該添加劑之組合物 |
| CN107614477B (zh) * | 2015-09-11 | 2021-08-24 | 株式会社艾迪科 | 化合物、潜伏性添加剂和含有该添加剂的组合物 |
| JP2017119670A (ja) * | 2015-12-24 | 2017-07-06 | 信越化学工業株式会社 | 有機膜形成用化合物、有機膜形成用組成物、有機膜形成方法、及びパターン形成方法 |
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