JPH0765769A - 加熱冷却試料台 - Google Patents
加熱冷却試料台Info
- Publication number
- JPH0765769A JPH0765769A JP5207444A JP20744493A JPH0765769A JP H0765769 A JPH0765769 A JP H0765769A JP 5207444 A JP5207444 A JP 5207444A JP 20744493 A JP20744493 A JP 20744493A JP H0765769 A JPH0765769 A JP H0765769A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- sample
- cassette
- cooling
- tank
- liquid nitrogen
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Abstract
(57)【要約】
【構成】試料１を搭載した試料カセット２の下部に設け
た冷却タンク５内に冷却材を真空外部から供給できる構
造とした。このタンク５と供給口８は金属製のフレキシ
ブルチューブ６で結び、試料１とタンク５が同様の動き
ができる構成とした。 【効果】被測定系に対し、試料を任意の位置で冷却でき
るようになった。また、試料の交換が試料室を大気開放
することなく可能になった。冷却過程の試料の物性を観
察することができ、更に、短時間で多くの試料の計測が
可能となった。
た冷却タンク５内に冷却材を真空外部から供給できる構
造とした。このタンク５と供給口８は金属製のフレキシ
ブルチューブ６で結び、試料１とタンク５が同様の動き
ができる構成とした。 【効果】被測定系に対し、試料を任意の位置で冷却でき
るようになった。また、試料の交換が試料室を大気開放
することなく可能になった。冷却過程の試料の物性を観
察することができ、更に、短時間で多くの試料の計測が
可能となった。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、真空の環境で試料の温
度の変化による物性を測定するための計測装置に係り、
特に、試料の高温度からの低温度への急速冷却の機能を
持ち、測定系に対し、任意の試料位置で試料の冷却が可
能な加熱冷却試料台に関する。
度の変化による物性を測定するための計測装置に係り、
特に、試料の高温度からの低温度への急速冷却の機能を
持ち、測定系に対し、任意の試料位置で試料の冷却が可
能な加熱冷却試料台に関する。
【０００２】
【従来の技術】超高真空の環境で、試料の物性値を温度
を変えて測定する測定装置では、測定時に、まず、１,
０００℃ の高温度に試料を短時間に保つフラッシング
を行う。このフラッシングとは、試料表面に取り付いて
いる汚れを高温度に保つことで、取り去るクリーニング
作業である。続いて所望の温度に試料を保ち、測定を始
める。この時、真空内には多数の分子が飛び回ってお
り、これが試料表面に吸着する。圧力が１×１０-10Tor
r の環境では約９時間、１×１０-8Torrの環境では約５
分で、真空内を飛び回っている分子に試料表面が全て覆
われ、正確な計測が不可能となる。
を変えて測定する測定装置では、測定時に、まず、１,
０００℃ の高温度に試料を短時間に保つフラッシング
を行う。このフラッシングとは、試料表面に取り付いて
いる汚れを高温度に保つことで、取り去るクリーニング
作業である。続いて所望の温度に試料を保ち、測定を始
める。この時、真空内には多数の分子が飛び回ってお
り、これが試料表面に吸着する。圧力が１×１０-10Tor
r の環境では約９時間、１×１０-8Torrの環境では約５
分で、真空内を飛び回っている分子に試料表面が全て覆
われ、正確な計測が不可能となる。
【０００３】低温度で、その物性を正確に計測するため
には、分子に覆われるまでの時間を長くするために、圧
力の低い超高真空の環境を作ること、フラッシングが終
った後、試料表面が汚れない間のできるだけ短時間に所
望の低温度に到達することが必要技術となる。更に、測
定装置に対して計測を行う試料の任意位置で加熱冷却す
ることが不可欠となる。
には、分子に覆われるまでの時間を長くするために、圧
力の低い超高真空の環境を作ること、フラッシングが終
った後、試料表面が汚れない間のできるだけ短時間に所
望の低温度に到達することが必要技術となる。更に、測
定装置に対して計測を行う試料の任意位置で加熱冷却す
ることが不可欠となる。
【０００４】この試料台に関しては、例えば、レビュー
オブ サイエンティフィック インストラメント第５
６巻９号“ウルトラハイバキューム クライオスタット
アンド サンプル マニピュレータ フォー オペレ
ーション ビトウィーン ５アンド ８００Ｋ(Rev.Sc
i.Instrum．５６(９)，September １９８５“Ultrahigh
-vacuum cryostat and sample manipulator for operat
ion between ５ and８００Ｋ”）にこの構造が示されて
いる。この試料台は、１０-10Torr 以下の超高真空の環
境で、試料を５〜８００Ｋの温度範囲で、さらにこの８
００Ｋから５Ｋ迄を約９０分で達成可能とするものであ
る。
オブ サイエンティフィック インストラメント第５
６巻９号“ウルトラハイバキューム クライオスタット
アンド サンプル マニピュレータ フォー オペレ
ーション ビトウィーン ５アンド ８００Ｋ(Rev.Sc
i.Instrum．５６(９)，September １９８５“Ultrahigh
-vacuum cryostat and sample manipulator for operat
ion between ５ and８００Ｋ”）にこの構造が示されて
いる。この試料台は、１０-10Torr 以下の超高真空の環
境で、試料を５〜８００Ｋの温度範囲で、さらにこの８
００Ｋから５Ｋ迄を約９０分で達成可能とするものであ
る。
【０００５】この試料台は、固定した液体Ｈｅタンクの
下部に試料を取り付ける試料ホルダを配置し、この試料
ホルダの上下移動を用いて、冷却面と試料ホルダとの接
触を図っている。この試料ホルダの移動自由度は上下方
向とその移動軸回りの回転の２軸である。また、試料交
換に際しては、試料ホルダが取り付いている室を大気開
放する。大気開放時に、試料台の先端に取り付いた試料
を取り外し、交換を行う。すなわち、試料交換時には、
大気開放から超高真空への再度の真空立ち上げ作業を行
わなければならない。
下部に試料を取り付ける試料ホルダを配置し、この試料
ホルダの上下移動を用いて、冷却面と試料ホルダとの接
触を図っている。この試料ホルダの移動自由度は上下方
向とその移動軸回りの回転の２軸である。また、試料交
換に際しては、試料ホルダが取り付いている室を大気開
放する。大気開放時に、試料台の先端に取り付いた試料
を取り外し、交換を行う。すなわち、試料交換時には、
大気開放から超高真空への再度の真空立ち上げ作業を行
わなければならない。
【０００６】
【発明が解決しようとする課題】上記の試料台では、液
体Ｈｅタンクが固定されているため、高温度の試料を冷
却するにはその位置まで、試料を移動させなければなら
ない。すなわち、試料の特定の位置を冷却中に計測しよ
うとする場合、冷却タンク位置に試料位置が制限される
ため、試料計測位置が制約される。また、試料交換時に
は超高真空となっている試料室を大気に開放する必要が
あるため、試料を交換して再び真空を立ち上げるには多
大の時間を必要とする。１０-10Torr 以下の圧力を大気
開放後、再び得るには一週間の時間が必要となる。すな
わち、試料交換に際しては、長時間を必要とする稼動効
率の悪い装置となる問題があった。
体Ｈｅタンクが固定されているため、高温度の試料を冷
却するにはその位置まで、試料を移動させなければなら
ない。すなわち、試料の特定の位置を冷却中に計測しよ
うとする場合、冷却タンク位置に試料位置が制限される
ため、試料計測位置が制約される。また、試料交換時に
は超高真空となっている試料室を大気に開放する必要が
あるため、試料を交換して再び真空を立ち上げるには多
大の時間を必要とする。１０-10Torr 以下の圧力を大気
開放後、再び得るには一週間の時間が必要となる。すな
わち、試料交換に際しては、長時間を必要とする稼動効
率の悪い装置となる問題があった。
【０００７】本発明の目的は、試料を固定した試料カセ
ットの交換を試料室を大気開放することなく可能とする
ことにある。
ットの交換を試料室を大気開放することなく可能とする
ことにある。
【０００８】
【課題を解決するための手段】上記の目的は、試料を取
り付けた試料カセット下部の試料駆動台上に冷却機構を
配置し、更に冷却タンクを試料と独立して上下移動が可
能な構造とし、この冷却タンクに、冷媒を金属製のフレ
キシブルチューブを介して供給し、試料室の隣りにゲー
トバルブを介した搬送機構を持った搬送室を配置するこ
とで達成される。
り付けた試料カセット下部の試料駆動台上に冷却機構を
配置し、更に冷却タンクを試料と独立して上下移動が可
能な構造とし、この冷却タンクに、冷媒を金属製のフレ
キシブルチューブを介して供給し、試料室の隣りにゲー
トバルブを介した搬送機構を持った搬送室を配置するこ
とで達成される。
【０００９】
【作用】試料を冷却するには、試料加熱用のヒータを切
り、あらかじめ冷却しておいた冷却ブロックを上方向に
移動させ、試料カセットとの接触で行う。また、試料の
交換については、試料交換室を真空状態に保ったままゲ
ートバルブを開けて搬送機構で、試料ホルダ上から試料
カセットを取外し搬送室に移動させ、この室を大気開放
して試料カセットと共に試料を取り出す。
り、あらかじめ冷却しておいた冷却ブロックを上方向に
移動させ、試料カセットとの接触で行う。また、試料の
交換については、試料交換室を真空状態に保ったままゲ
ートバルブを開けて搬送機構で、試料ホルダ上から試料
カセットを取外し搬送室に移動させ、この室を大気開放
して試料カセットと共に試料を取り出す。
【００１０】
【実施例】本発明を一実施例によって説明する。図１は
本発明による試料の加熱冷却機構を有し、五軸方向に試
料の移動が可能な加熱冷却試料台の一実施例である。
本発明による試料の加熱冷却機構を有し、五軸方向に試
料の移動が可能な加熱冷却試料台の一実施例である。
【００１１】試料１は、試料カセット２上に固定されて
おり、この試料カセット２が、試料カセットホルダ３に
着脱可能な構造で固定されている。試料カセット２の下
部には加熱のためのヒータ４と冷却のための液体窒素タ
ンク５が配置されている。液体窒素タンク５には金属製
のフレキシブルチューブ６が固定されている。このフレ
キシブルチューブ６は、ＩＣＦフランジ７を通して外部
の液体窒素投入口８から冷媒である液体窒素が供給でき
る構造となっている。ヒータ４には電力供給用の配線９
が固定されている。この配線９はＩＣＦフランジ７に取
り付く電流導入端子１０に結合しており、ここからヒー
タ４に電力が供給される構造となっている。
おり、この試料カセット２が、試料カセットホルダ３に
着脱可能な構造で固定されている。試料カセット２の下
部には加熱のためのヒータ４と冷却のための液体窒素タ
ンク５が配置されている。液体窒素タンク５には金属製
のフレキシブルチューブ６が固定されている。このフレ
キシブルチューブ６は、ＩＣＦフランジ７を通して外部
の液体窒素投入口８から冷媒である液体窒素が供給でき
る構造となっている。ヒータ４には電力供給用の配線９
が固定されている。この配線９はＩＣＦフランジ７に取
り付く電流導入端子１０に結合しており、ここからヒー
タ４に電力が供給される構造となっている。
【００１２】試料カセット２の下部には、Ｚ軸１１回り
に試料１を回転させるための試料Ｚ軸回転機構１２が配
置されている。この機構は試料Ｚ軸回転軸受１６で支え
られたはすば歯車１３をウォーム１４で回転駆動する構
造となっている。試料カセット２の右下側面には、試料
１を上下に移動させる試料Ｚ方向駆動機構１５が取り付
いている。また、試料１をＸ軸１７の回転方向に駆動す
るための試料Ｘ軸回転駆動機構１８が、Ｘ軸１７，Ｙ軸
１９の各方向に試料１を直線駆動する試料Ｘ，Ｙ駆動機
構２０の上に配置されている。これらの試料移動機構
は、ＩＣＦフランジ７に取り付いた運動導入器２１で、
駆動される構造となっている。
に試料１を回転させるための試料Ｚ軸回転機構１２が配
置されている。この機構は試料Ｚ軸回転軸受１６で支え
られたはすば歯車１３をウォーム１４で回転駆動する構
造となっている。試料カセット２の右下側面には、試料
１を上下に移動させる試料Ｚ方向駆動機構１５が取り付
いている。また、試料１をＸ軸１７の回転方向に駆動す
るための試料Ｘ軸回転駆動機構１８が、Ｘ軸１７，Ｙ軸
１９の各方向に試料１を直線駆動する試料Ｘ，Ｙ駆動機
構２０の上に配置されている。これらの試料移動機構
は、ＩＣＦフランジ７に取り付いた運動導入器２１で、
駆動される構造となっている。
【００１３】高温状態の試料１を冷却するには、まず、
ヒータ４の入力パワーを切り、前もって冷却している液
体窒素冷却タンク５を液体窒素タンクＺ方向駆動機構２
２でＺ軸１１方向に移動させて、高温状態の試料カセッ
ト接触面２３に冷却されている液体窒素タンク接触面２
４を接触させる。この時、試料カセット２の熱を両接触
面を介して液体窒素タンク５に導き、試料カセット２を
冷却する。液体窒素タンク５に入った熱は液体窒素の潜
熱として外部に運ばれる。液体窒素を内部に溜めて常に
冷却状態にある液体窒素タンクは５には、外部からフレ
キシブルチューブ６で液体窒素が供給されているため、
試料カセット２の移動に対し、同様に移動することが可
能となっている。すなわち、試料１を位置決めした任意
の位置で試料１の加熱，冷却が可能となる。
ヒータ４の入力パワーを切り、前もって冷却している液
体窒素冷却タンク５を液体窒素タンクＺ方向駆動機構２
２でＺ軸１１方向に移動させて、高温状態の試料カセッ
ト接触面２３に冷却されている液体窒素タンク接触面２
４を接触させる。この時、試料カセット２の熱を両接触
面を介して液体窒素タンク５に導き、試料カセット２を
冷却する。液体窒素タンク５に入った熱は液体窒素の潜
熱として外部に運ばれる。液体窒素を内部に溜めて常に
冷却状態にある液体窒素タンクは５には、外部からフレ
キシブルチューブ６で液体窒素が供給されているため、
試料カセット２の移動に対し、同様に移動することが可
能となっている。すなわち、試料１を位置決めした任意
の位置で試料１の加熱，冷却が可能となる。
【００１４】この試料台を用いて試料１の加熱冷却を行
った結果を図２に示す。この図は、１,０００℃ に保持
した試料１を急速冷却で冷却したときの時間と共に変化
する試料１の温度を示したものである。冷却開始後、約
１５分で−１４０℃に試料温度が下がっている。その途
中経過は、５分で−２０℃、１０分で−１２０℃と冷却
開始直後に温度が急激に下がり、その後、徐々に下がっ
ている様子が判る。この場合、冷却材として液体窒素を
用いている。より低温の冷却材を用いれば、更に試料１
の温度を下げることが可能となる。
った結果を図２に示す。この図は、１,０００℃ に保持
した試料１を急速冷却で冷却したときの時間と共に変化
する試料１の温度を示したものである。冷却開始後、約
１５分で−１４０℃に試料温度が下がっている。その途
中経過は、５分で−２０℃、１０分で−１２０℃と冷却
開始直後に温度が急激に下がり、その後、徐々に下がっ
ている様子が判る。この場合、冷却材として液体窒素を
用いている。より低温の冷却材を用いれば、更に試料１
の温度を下げることが可能となる。
【００１５】図３に試料カセット２上の試料１を搭載し
た加熱冷却試料台２５を取り付けた測定装置を示す。こ
の測定装置はＳＥＭ観察を行う為の物で、試料室２６の
上部にＳＥＭ鏡筒２７が取り付いている。このＳＥＭ観
察を行う試料室２６のとなりには、試料カセット交換室
２７が配置されている。この試料カセット交換室２７に
は試料カセット搬送機構２８が取り付けられている。試
料室２６，試料カセット交換室２７にはそれぞれポンプ
２９，３０が配置されており、独立に真空排気できる構
造となっている。また、両室の間にはゲートバルブ３１
が取り付いており、真空遮断を行うことができる構造と
なっている。
た加熱冷却試料台２５を取り付けた測定装置を示す。こ
の測定装置はＳＥＭ観察を行う為の物で、試料室２６の
上部にＳＥＭ鏡筒２７が取り付いている。このＳＥＭ観
察を行う試料室２６のとなりには、試料カセット交換室
２７が配置されている。この試料カセット交換室２７に
は試料カセット搬送機構２８が取り付けられている。試
料室２６，試料カセット交換室２７にはそれぞれポンプ
２９，３０が配置されており、独立に真空排気できる構
造となっている。また、両室の間にはゲートバルブ３１
が取り付いており、真空遮断を行うことができる構造と
なっている。
【００１６】この装置による試料交換を説明する。試料
カセット２が加熱冷却試料台２５の上にある。試料カセ
ット交換室２７の真空排気を行い、試料室２６と比べて
一，二桁高い圧力にする。試料カセット室２７を大気か
ら１０-8Torr程度の圧力を得るには、約半日位の排気時
間が必要となる。続いて、ゲートバルブ３１を開く。こ
の時、試料室２６の圧力は一桁位高くなる。マグネット
方式の試料カセット搬送機構２８を用い、試料カセット
２を搬送する。マグネット３２をＸ軸１７方向に動かす
と、搬送ロッド３３が同方向に動く。搬送ロッド３３を
試料カセット２の位置まで移動させ、加熱冷却試料台２
５の移動を利用して、加熱冷却試料台２５から搬送ロッ
ド３３に試料カセット２を受け渡す。搬送ロッド３３を
試料カセット交換室２７に移動させてゲートバルブ３１
を閉じる。試料室２６の圧力は、数時間で当初の超高真
空状態に戻る。続いて、試料カセット交換室２７を大気
に開放して搬送ロッド３３の先端から試料カセット２を
取り外すわけである。試料カセット２の試料室２６への
搬入の際は、この操作と逆を行う。
カセット２が加熱冷却試料台２５の上にある。試料カセ
ット交換室２７の真空排気を行い、試料室２６と比べて
一，二桁高い圧力にする。試料カセット室２７を大気か
ら１０-8Torr程度の圧力を得るには、約半日位の排気時
間が必要となる。続いて、ゲートバルブ３１を開く。こ
の時、試料室２６の圧力は一桁位高くなる。マグネット
方式の試料カセット搬送機構２８を用い、試料カセット
２を搬送する。マグネット３２をＸ軸１７方向に動かす
と、搬送ロッド３３が同方向に動く。搬送ロッド３３を
試料カセット２の位置まで移動させ、加熱冷却試料台２
５の移動を利用して、加熱冷却試料台２５から搬送ロッ
ド３３に試料カセット２を受け渡す。搬送ロッド３３を
試料カセット交換室２７に移動させてゲートバルブ３１
を閉じる。試料室２６の圧力は、数時間で当初の超高真
空状態に戻る。続いて、試料カセット交換室２７を大気
に開放して搬送ロッド３３の先端から試料カセット２を
取り外すわけである。試料カセット２の試料室２６への
搬入の際は、この操作と逆を行う。
【００１７】
【発明の効果】本発明によれば、測定系に対し、試料の
任意位置で冷却できるようになった。また、試料の交換
が試料室の真空を大気圧力とすることなくできるように
なった。その結果、冷却過程の試料の任意位置の物性を
計測することができ、更に、短時間で多くの試料の計測
が可能となった。
任意位置で冷却できるようになった。また、試料の交換
が試料室の真空を大気圧力とすることなくできるように
なった。その結果、冷却過程の試料の任意位置の物性を
計測することができ、更に、短時間で多くの試料の計測
が可能となった。
【図１】本発明による実施例を示す加熱冷却試料台の説
明図。
明図。
【図２】本発明による加熱冷却試料台で計測した試料の
急速冷却の測定結果の説明図。
急速冷却の測定結果の説明図。
【図３】加熱試料台を測定装置に組み込んだときの説明
図。
図。
１…試料、２…試料カセット、３…試料カセットホル
ダ、４…ヒータ、５…液体窒素タンク、６…フレキシブ
ルチューブ、７…ＩＣＦフランジ、８…液体窒素投入
口、９…配線、１０…電流導入端子、１１…Ｚ方向、１
２…試料Ｚ軸回転駆動機構、１３…はすば歯車、１４…
ウォーム、１５…試料Ｚ方向駆動機構、１６…試料Ｚ軸
回転軸受、１７…Ｘ方向、１８…試料Ｘ軸回転駆動機
構、１９…Ｙ方向、２０…試料Ｘ・Ｙ方向駆動機構、２
１…運動導入機構、２２…液体窒素タンクＺ方向駆動機
構、２３…試料カセット接触面、２４…液体窒素タンク
接触面。
ダ、４…ヒータ、５…液体窒素タンク、６…フレキシブ
ルチューブ、７…ＩＣＦフランジ、８…液体窒素投入
口、９…配線、１０…電流導入端子、１１…Ｚ方向、１
２…試料Ｚ軸回転駆動機構、１３…はすば歯車、１４…
ウォーム、１５…試料Ｚ方向駆動機構、１６…試料Ｚ軸
回転軸受、１７…Ｘ方向、１８…試料Ｘ軸回転駆動機
構、１９…Ｙ方向、２０…試料Ｘ・Ｙ方向駆動機構、２
１…運動導入機構、２２…液体窒素タンクＺ方向駆動機
構、２３…試料カセット接触面、２４…液体窒素タンク
接触面。
Claims (4)
- 【請求項１】真空の環境で、試料の加熱，冷却及び、多
軸方向の移動機能を有する試料台において、その冷却ブ
ロックを前記試料を乗せた試料カセットに押し当てて前
記試料の冷却を行う冷却機能を持ち、前記冷却ブロック
を多軸に動く試料移動台上に搭載することを特徴とする
加熱冷却試料台。 - 【請求項２】請求項１の前記冷却ブロックに冷媒を金属
製のフレキシブルチューブで供給する加熱冷却試料台。 - 【請求項３】請求項１または２の前記冷媒として、液体
窒素、又は液体ヘリウムを用いる加熱冷却試料台。 - 【請求項４】請求項１，２または３において、前記試料
カセットを真空の環境で交換することが可能な加熱冷却
試料台。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP5207444A JPH0765769A (ja) | 1993-08-23 | 1993-08-23 | 加熱冷却試料台 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP5207444A JPH0765769A (ja) | 1993-08-23 | 1993-08-23 | 加熱冷却試料台 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0765769A true JPH0765769A (ja) | 1995-03-10 |
Family
ID=16539875
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP5207444A Pending JPH0765769A (ja) | 1993-08-23 | 1993-08-23 | 加熱冷却試料台 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0765769A (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR100890001B1 (ko) * | 2007-07-24 | 2009-03-25 | 서울산업대학교 산학협력단 | 소형 전자주사현미경의 스테이지유닛 |
| JP2021051896A (ja) * | 2019-09-25 | 2021-04-01 | 株式会社日立ハイテクサイエンス | 試料ホルダ及び荷電粒子ビーム装置 |
| WO2021118355A1 (en) * | 2019-12-12 | 2021-06-17 | Delmic Ip B.V. | Method and manipulation device for handling samples |
-
1993
- 1993-08-23 JP JP5207444A patent/JPH0765769A/ja active Pending
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR100890001B1 (ko) * | 2007-07-24 | 2009-03-25 | 서울산업대학교 산학협력단 | 소형 전자주사현미경의 스테이지유닛 |
| JP2021051896A (ja) * | 2019-09-25 | 2021-04-01 | 株式会社日立ハイテクサイエンス | 試料ホルダ及び荷電粒子ビーム装置 |
| WO2021118355A1 (en) * | 2019-12-12 | 2021-06-17 | Delmic Ip B.V. | Method and manipulation device for handling samples |
| NL2024445B1 (en) * | 2019-12-12 | 2021-09-01 | Delmic Ip B V | Method and manipulation device for handling samples |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| US4992660A (en) | Scanning tunneling microscope | |
| JP2676334B2 (ja) | ロボットアーム | |
| US4911597A (en) | Semiconductor processing system with robotic autoloader and load lock | |
| JP3568958B2 (ja) | プラズマジェットでウェーハを処理する装置 | |
| TW200406862A (en) | Probe apparatus for temperature control of the examined body and probe examining method | |
| JP5745757B2 (ja) | 二重装着光学系を備えた荷電粒子光学系 | |
| JP2001284416A (ja) | 低温試験装置 | |
| JPS5953661B2 (ja) | 質量分析計のための自動試料交換装置 | |
| US6475291B1 (en) | Method and apparatus for decomposition of silicon oxide layers for impurity analysis of silicon wafers | |
| JP7114426B2 (ja) | 荷電粒子線装置 | |
| JP4187323B2 (ja) | 真空成膜処理装置および方法 | |
| JPH0765769A (ja) | 加熱冷却試料台 | |
| JP2005150259A (ja) | 基板処理装置及びその制御方法 | |
| JP4534273B2 (ja) | 試料作成装置 | |
| US3679900A (en) | Specimen holder transfer mechanism for an electron microscope | |
| JPH0545990Y2 (ja) | ||
| JP4098690B2 (ja) | 走査形プローブ顕微鏡 | |
| JP2001235416A (ja) | 走査型プローブ顕微鏡および試料・プローブ交換方法 | |
| JP2895673B2 (ja) | 電子顕微鏡等の試料装置 | |
| JP2003265163A (ja) | 試料入りアンプルの乾燥封止装置 | |
| JP4181447B2 (ja) | 透過電子顕微鏡における試料交換装置 | |
| JPS63291347A (ja) | 電子顕微鏡等における試料装置 | |
| JPH0581175B2 (ja) | ||
| JPH01251616A (ja) | アッシャー | |
| JPH0227646A (ja) | 走査電子顕微鏡 |