JPH0227646A - 走査電子顕微鏡 - Google Patents
走査電子顕微鏡Info
- Publication number
- JPH0227646A JPH0227646A JP63176691A JP17669188A JPH0227646A JP H0227646 A JPH0227646 A JP H0227646A JP 63176691 A JP63176691 A JP 63176691A JP 17669188 A JP17669188 A JP 17669188A JP H0227646 A JPH0227646 A JP H0227646A
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- JP
- Japan
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- sample
- sample stage
- scanning electron
- chamber
- electron microscope
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Links
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- 230000003287 optical effect Effects 0.000 abstract description 28
- 230000000007 visual effect Effects 0.000 abstract 2
- 235000012431 wafers Nutrition 0.000 description 10
- 238000000034 method Methods 0.000 description 8
- 230000007547 defect Effects 0.000 description 6
- 230000005856 abnormality Effects 0.000 description 3
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 3
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 3
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
[産業上の利用分野]
本発明は、試料の同一視野を光学顕微鏡と走査電子顕微
鏡によって比較観察することのできる走査電子顕微鏡に
関する。
鏡によって比較観察することのできる走査電子顕微鏡に
関する。
[従来技術]
シリコン等の半導体ウェハを基材として微細な回路パタ
ーンを多数形成する製造ラインにおいては、ウェハへの
パターン露光、現像、エツチング等の工程の後に、不良
箇所を見つけるチエツクのための工程が設けられている
。このチエツク工程における主なチエツク法の1つは光
学顕微鏡を用いるもので、光学像の観察からウェハに付
着したゴミや現像液残渣等の有無をチエツクしたり、多
数形成された回路パターンの間隔や表面層の膜厚を光の
干渉を利用した色情報に基づいてチエツクしている。し
かしながら、光学顕微鏡による拡大率は数百倍が限度で
、1μm以下のゴミやパターンの欠陥の観察は不可能な
ので、光学顕微鏡によるマクロなチエツクに加えて走査
電子顕微鏡を用いたチエツクが行なわれるようになった
。
ーンを多数形成する製造ラインにおいては、ウェハへの
パターン露光、現像、エツチング等の工程の後に、不良
箇所を見つけるチエツクのための工程が設けられている
。このチエツク工程における主なチエツク法の1つは光
学顕微鏡を用いるもので、光学像の観察からウェハに付
着したゴミや現像液残渣等の有無をチエツクしたり、多
数形成された回路パターンの間隔や表面層の膜厚を光の
干渉を利用した色情報に基づいてチエツクしている。し
かしながら、光学顕微鏡による拡大率は数百倍が限度で
、1μm以下のゴミやパターンの欠陥の観察は不可能な
ので、光学顕微鏡によるマクロなチエツクに加えて走査
電子顕微鏡を用いたチエツクが行なわれるようになった
。
このような従来のチエツク法の記載例として、特開昭5
7−95056号公報を挙げることができる。この公報
に記載される走査電子顕微鏡においては、第3図に示す
ように、走査電子顕微鏡の鏡筒1が真空に排気される試
料室2の上面に取付けられ、試料室2の内側底部に設け
られたレール3上には、第1試料ステージ4が載置され
ている。
7−95056号公報を挙げることができる。この公報
に記載される走査電子顕微鏡においては、第3図に示す
ように、走査電子顕微鏡の鏡筒1が真空に排気される試
料室2の上面に取付けられ、試料室2の内側底部に設け
られたレール3上には、第1試料ステージ4が載置され
ている。
第1試料ステージ4は、その上面に試料(図示せず)を
保持する試料ホルダー5が所定の位置に装着されるよう
に構成されており、更にステージ4には装着された試料
ホルダー5を鏡筒1の軸2に垂直なXY力方向移動する
ための駆動手段(図示せず)が設けられている。この駆
動手段としては、試料室外の制御電源から供給される電
気信号によって駆動するパルスモータやDCモータ等を
備え、この駆動手段を操作して電子線に照射される試料
位置を任意に動かすことにより、走査電子顕微鏡におけ
る観察像の視野移動が行なわれる。また、試料室2の上
面には走査電子顕微鏡の鏡筒1に近接して光学顕微鏡6
が、その接眼レンズの光軸が前述した2軸と平行になる
ように取付けられている。
保持する試料ホルダー5が所定の位置に装着されるよう
に構成されており、更にステージ4には装着された試料
ホルダー5を鏡筒1の軸2に垂直なXY力方向移動する
ための駆動手段(図示せず)が設けられている。この駆
動手段としては、試料室外の制御電源から供給される電
気信号によって駆動するパルスモータやDCモータ等を
備え、この駆動手段を操作して電子線に照射される試料
位置を任意に動かすことにより、走査電子顕微鏡におけ
る観察像の視野移動が行なわれる。また、試料室2の上
面には走査電子顕微鏡の鏡筒1に近接して光学顕微鏡6
が、その接眼レンズの光軸が前述した2軸と平行になる
ように取付けられている。
走査電子顕微鏡による観察は、第3図中レール3の右測
定位置Aに試料ステージ4を固定した状態で行なわれ、
光学顕微鏡による観察は、図中破線で示すように、レー
ル3の左測定位置Bに試料ステージ4を固定した状態で
行なわれる。回路パターン製造のチエツク工程において
は、初めに光学顕微鏡による観察が行なわれ、制御電源
を操作して視野を変化させながら観察を行ない、不良と
推定される箇所が見出された場合には、駆動手段の状態
をそのままに保ちながら、試料ステージ全体をレール3
に沿って走査電子顕微鏡による観察を行なうための定位
置Aに移動させる。位置Aにおいて、回路パターンの微
細領域を観察してパターンの欠陥の有無等を確認する。
定位置Aに試料ステージ4を固定した状態で行なわれ、
光学顕微鏡による観察は、図中破線で示すように、レー
ル3の左測定位置Bに試料ステージ4を固定した状態で
行なわれる。回路パターン製造のチエツク工程において
は、初めに光学顕微鏡による観察が行なわれ、制御電源
を操作して視野を変化させながら観察を行ない、不良と
推定される箇所が見出された場合には、駆動手段の状態
をそのままに保ちながら、試料ステージ全体をレール3
に沿って走査電子顕微鏡による観察を行なうための定位
置Aに移動させる。位置Aにおいて、回路パターンの微
細領域を観察してパターンの欠陥の有無等を確認する。
このような装置構成により、光学顕微鏡における観察視
野の中心と走査電子顕微鏡による観察視野の中心とを容
易に一致させることができるため、光学顕微鏡と走査電
子顕微鏡による比較観察に要求される視野合せのための
操作が殆んど不要となり、チエツク工程をおける能率を
向上させることが可能となる。
野の中心と走査電子顕微鏡による観察視野の中心とを容
易に一致させることができるため、光学顕微鏡と走査電
子顕微鏡による比較観察に要求される視野合せのための
操作が殆んど不要となり、チエツク工程をおける能率を
向上させることが可能となる。
[発明が解決しようとする課題]
第3図に示す従来装置は、光学顕微鏡と走査電子顕微鏡
による一般的な比較観察を行なう場合には問題ないが、
前述した回路パターンの欠陥をチエツクするための工程
に使用する場合には、幾つかの問題が発生する。例えば
、光学観察によって回路パターンの欠陥が発見されて走
査電子顕微鏡によるチエツクが必要とされるものの割合
は、チエツクされる全体の数に比較して極く僅かであり
、チエツクされるウェハを全て真空に保たれる試料室内
に入れて光学観察するのでは、エアロツク室を介しての
交換等煩しく時間の掛かる操作の大部分が無駄となって
しまう。また、大きな試料ステージを試料室内で移動さ
せるために必要な大きな空間が試料室を排気する装置の
大型化を避けられないものとしている。
による一般的な比較観察を行なう場合には問題ないが、
前述した回路パターンの欠陥をチエツクするための工程
に使用する場合には、幾つかの問題が発生する。例えば
、光学観察によって回路パターンの欠陥が発見されて走
査電子顕微鏡によるチエツクが必要とされるものの割合
は、チエツクされる全体の数に比較して極く僅かであり
、チエツクされるウェハを全て真空に保たれる試料室内
に入れて光学観察するのでは、エアロツク室を介しての
交換等煩しく時間の掛かる操作の大部分が無駄となって
しまう。また、大きな試料ステージを試料室内で移動さ
せるために必要な大きな空間が試料室を排気する装置の
大型化を避けられないものとしている。
本発明は、このような問題を解決して、試料室や排気装
置を大型にすることなく、光学顕微鏡と走査電子顕微鏡
による試料観察の際に問題となる観察視野合せを容易に
行なうことを目的とするものである。
置を大型にすることなく、光学顕微鏡と走査電子顕微鏡
による試料観察の際に問題となる観察視野合せを容易に
行なうことを目的とするものである。
[課題を解決するための手段]
このような目的を達成するため、本発明の走査電子顕微
鏡は、試料室内に設けられ、試料を保持する試料ホルダ
ーを載置して試料照射電子線に対する試料の位置を移動
させる駆動手段を備えた第1試料ステージと、試料室に
エアーロック弁を介して連通した予備排気室内に設けら
れ、予備排気室に取付けられた光学顕微鏡に対する試料
ホルダーの位置を移動させる駆動手段を備えた第2試料
ステージと、前記第1試料ステージへの試料ホルダーの
装着と第2試料ステージへの試料ホルダの装着を切替え
る試料交換機構を備えた装置において、前記第2試料ス
テージの駆動手段の動きに対応して、前記第1試料ステ
ージの駆動手段を自動的に追従させる手段を設けたこと
を特徴としている。
鏡は、試料室内に設けられ、試料を保持する試料ホルダ
ーを載置して試料照射電子線に対する試料の位置を移動
させる駆動手段を備えた第1試料ステージと、試料室に
エアーロック弁を介して連通した予備排気室内に設けら
れ、予備排気室に取付けられた光学顕微鏡に対する試料
ホルダーの位置を移動させる駆動手段を備えた第2試料
ステージと、前記第1試料ステージへの試料ホルダーの
装着と第2試料ステージへの試料ホルダの装着を切替え
る試料交換機構を備えた装置において、前記第2試料ス
テージの駆動手段の動きに対応して、前記第1試料ステ
ージの駆動手段を自動的に追従させる手段を設けたこと
を特徴としている。
[実施例]
以下本発明の実施例を添附図面に基づいて詳述する。
第1図は、本発明の一実施例装置の要部を示す断面図で
あり、第2図は第1図に示す装置における試料交換機構
の斜視図である。尚、第1図中で第3図で用いた数字と
同じ数字の付されたものは同じ構成要素を示している。
あり、第2図は第1図に示す装置における試料交換機構
の斜視図である。尚、第1図中で第3図で用いた数字と
同じ数字の付されたものは同じ構成要素を示している。
第1図の装置において、試料室2には、エアロツク弁1
0を介して予備排気室11が繋がっており、予備排気室
11はロータリーポンプ等の粗引き系により排気可能と
され、その内部には第2試料ステージ12が設置されて
いる。予備排気室11に取付けられた光学顕微鏡6によ
る試料観察は、試料を載置する試料ホルダー5を第2試
料ステージ12の所定の位置に装着して、試料ホルダー
に保持されるウェハ等の試料が光学顕微鏡の光軸に関し
て自由に移動できる状態にして行なわれる。
0を介して予備排気室11が繋がっており、予備排気室
11はロータリーポンプ等の粗引き系により排気可能と
され、その内部には第2試料ステージ12が設置されて
いる。予備排気室11に取付けられた光学顕微鏡6によ
る試料観察は、試料を載置する試料ホルダー5を第2試
料ステージ12の所定の位置に装着して、試料ホルダー
に保持されるウェハ等の試料が光学顕微鏡の光軸に関し
て自由に移動できる状態にして行なわれる。
この第2試料ステージ12における試料ホルダーの移動
は試料室や予備排気室の外部に設けられた制御電源13
からの制御信号が供給されるパルスモータ又はDCモー
タ等から成る駆動手段によって行なわれる。このような
駆動手段(図示せず)は、試料室内部に設けられた第1
試料ステージ14も内蔵しており、第2試料ステージ1
2の駆動手段と同じく制御電源13からの制御信号によ
って制御される。更に、制御電源13からは、各試料ス
テージの駆動手段による移動が連動して行なわれるよう
な制御信号が各ステージへ供給され、第2試料ステージ
の動きに第1試料ステージが自動的に追従するように構
成されている。
は試料室や予備排気室の外部に設けられた制御電源13
からの制御信号が供給されるパルスモータ又はDCモー
タ等から成る駆動手段によって行なわれる。このような
駆動手段(図示せず)は、試料室内部に設けられた第1
試料ステージ14も内蔵しており、第2試料ステージ1
2の駆動手段と同じく制御電源13からの制御信号によ
って制御される。更に、制御電源13からは、各試料ス
テージの駆動手段による移動が連動して行なわれるよう
な制御信号が各ステージへ供給され、第2試料ステージ
の動きに第1試料ステージが自動的に追従するように構
成されている。
第2試料ステージへの試料ホルダーの装着と第1試料ス
テージへの試料ホルダの装着を切替える試料交換機構1
5は、予備排気室11の前!i16に取付けられており
、その構造を第2図に斜視図として例示する。第2図の
試料交換機構は、前蓋16を貫通する2本のガイド棒1
7、ガイド棒17の両端部に取付けられた取手18と把
持機構19からなり、試料ホルダーが第1又は第2のい
ずれの試料ステージのどのような位置に装着されていて
も、試料ホルダーを把持機構19の可動片20によって
確実に把持できるように構成されている。
テージへの試料ホルダの装着を切替える試料交換機構1
5は、予備排気室11の前!i16に取付けられており
、その構造を第2図に斜視図として例示する。第2図の
試料交換機構は、前蓋16を貫通する2本のガイド棒1
7、ガイド棒17の両端部に取付けられた取手18と把
持機構19からなり、試料ホルダーが第1又は第2のい
ずれの試料ステージのどのような位置に装着されていて
も、試料ホルダーを把持機構19の可動片20によって
確実に把持できるように構成されている。
第1図の実施例装置を用いたウェハのチエツクは次のよ
うにして行なわれる。
うにして行なわれる。
初めに、ウェハ21を試料ホルダ5に保持させ、試料ホ
ルダ5を試料交換機構15の可動片2oによって把持さ
せる。次に、前蓋16を予備排気室に嵌合させ、取手1
8を操作して第2試料ステージの所定位置に装着する。
ルダ5を試料交換機構15の可動片2oによって把持さ
せる。次に、前蓋16を予備排気室に嵌合させ、取手1
8を操作して第2試料ステージの所定位置に装着する。
次に、制御電源13の出力を調整して光学顕微鏡による
視野を変化させながら像観察を行なって、ウェハ21の
異常を捜し、異常が見付からない場合には、次のウェハ
と交換して観察を繰り返えす。この状態では、予備排気
室は大気圧に保たれているが、ウェハに異常が認められ
た場合には、予備排気室を排気した後、エアロツク弁1
0を開けて試料交換機構を操作し、試料ホルダー5を第
2試料ステージの装着位置から外して第1試料ステージ
の装着位置へ装着する。
視野を変化させながら像観察を行なって、ウェハ21の
異常を捜し、異常が見付からない場合には、次のウェハ
と交換して観察を繰り返えす。この状態では、予備排気
室は大気圧に保たれているが、ウェハに異常が認められ
た場合には、予備排気室を排気した後、エアロツク弁1
0を開けて試料交換機構を操作し、試料ホルダー5を第
2試料ステージの装着位置から外して第1試料ステージ
の装着位置へ装着する。
このようにして、光学顕微鏡6による観察視野がそのま
ま走査電子顕微鏡の光軸上にセットされて試料の同一視
野を観察することが可能となる。
ま走査電子顕微鏡の光軸上にセットされて試料の同一視
野を観察することが可能となる。
尚、本実施例においては、予備排気室11内の第2試料
ステージ12と試料室2内の第1試料ステージ14とを
1つの制御電源で常時連動させているが、通常は光学顕
微鏡6のみによる観察が多いので、各ステージを常時連
動させておく代わりに、第2試料ステージ12の駆動中
であっても第1試料ステージを駆動させずにおき、光学
顕微鏡による観察だけでは済まずに走査電子顕微鏡によ
る観察が必要になった時にのみ、制御電源13より第1
試料ステージに制御信号を供給して第1試料ステージを
第2試料ステージに追従させるようにしてもよい。
ステージ12と試料室2内の第1試料ステージ14とを
1つの制御電源で常時連動させているが、通常は光学顕
微鏡6のみによる観察が多いので、各ステージを常時連
動させておく代わりに、第2試料ステージ12の駆動中
であっても第1試料ステージを駆動させずにおき、光学
顕微鏡による観察だけでは済まずに走査電子顕微鏡によ
る観察が必要になった時にのみ、制御電源13より第1
試料ステージに制御信号を供給して第1試料ステージを
第2試料ステージに追従させるようにしてもよい。
[発明の効果]
以上詳述したように、本発明による走査電子顕微鏡を用
いることにより、試料室や排気装置を大型にすることな
く、光学顕微鏡と走査電子顕微鏡による比較観察の際に
問題となる観察視野合せが容易で、試料交換に要する時
間を短くすることが可能となるため、半導体素子の製造
工程における回路パターンの欠陥チエツク用として用い
て特に大きな効果を得ることができる。
いることにより、試料室や排気装置を大型にすることな
く、光学顕微鏡と走査電子顕微鏡による比較観察の際に
問題となる観察視野合せが容易で、試料交換に要する時
間を短くすることが可能となるため、半導体素子の製造
工程における回路パターンの欠陥チエツク用として用い
て特に大きな効果を得ることができる。
第1図は、本発明の実施例装置を示す断面図、第2・図
は第1図に示す試料交換機構の斜視図、第3図は従来装
置の要部を示す断面図である。 1:走査電子顕微鏡の鏡筒、2:試料室、3:レール、
4:試料ステージ、5:試料ホルダ、6:光学顕微鏡、
10:エアロツク弁、11:予備排気室、12:第2試
料ステージ、13二制御電源、14:第1試料ステージ
、15:試料交換機構、16:前蓋。
は第1図に示す試料交換機構の斜視図、第3図は従来装
置の要部を示す断面図である。 1:走査電子顕微鏡の鏡筒、2:試料室、3:レール、
4:試料ステージ、5:試料ホルダ、6:光学顕微鏡、
10:エアロツク弁、11:予備排気室、12:第2試
料ステージ、13二制御電源、14:第1試料ステージ
、15:試料交換機構、16:前蓋。
Claims (1)
- 走査電子顕微鏡の試料室内に設けられ、試料を保持する
試料ホルダーを載置して試料照射電子線に対する試料の
位置を移動させる駆動手段を備えた第1試料ステージと
、試料室にエアーロック弁を介して連通した予備排気室
内に設けられ、予備排気室に取付けられた光学顕微鏡に
対する試料ホルダーの位置を移動させる駆動手段を備え
た第2試料ステージと、前記第1試料ステージへの試料
ホルダーの装着と第2試料ステージへの試料ホルダの装
着を切替える試料交換機構を備えた装置において、前記
第2試料ステージの駆動手段の動きに対応して、前記第
1試料ステージの駆動手段を自動的に追従させる手段を
設けたことを特徴とする走査電子顕微鏡。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP63176691A JPH0227646A (ja) | 1988-07-15 | 1988-07-15 | 走査電子顕微鏡 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP63176691A JPH0227646A (ja) | 1988-07-15 | 1988-07-15 | 走査電子顕微鏡 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH0227646A true JPH0227646A (ja) | 1990-01-30 |
Family
ID=16018049
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP63176691A Pending JPH0227646A (ja) | 1988-07-15 | 1988-07-15 | 走査電子顕微鏡 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH0227646A (ja) |
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH09185950A (ja) * | 1996-11-01 | 1997-07-15 | Seiko Instr Inc | 集束イオンビーム加工装置の加工方法 |
CN106910665A (zh) * | 2017-03-01 | 2017-06-30 | 聚束科技(北京)有限公司 | 一种全自动化的扫描电子显微镜及其探测方法 |
WO2022175061A3 (en) * | 2021-02-18 | 2022-10-27 | Carl Zeiss Smt Gmbh | System to inspect, modify or analyze a region of interest of a sample by charged particles, set of systems to inspect, modify or analyze a region of interest of a sample and method to inspect, modify or analyze a region of interest of a sample by charged particles |
-
1988
- 1988-07-15 JP JP63176691A patent/JPH0227646A/ja active Pending
Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH09185950A (ja) * | 1996-11-01 | 1997-07-15 | Seiko Instr Inc | 集束イオンビーム加工装置の加工方法 |
CN106910665A (zh) * | 2017-03-01 | 2017-06-30 | 聚束科技(北京)有限公司 | 一种全自动化的扫描电子显微镜及其探测方法 |
CN106910665B (zh) * | 2017-03-01 | 2019-07-12 | 聚束科技(北京)有限公司 | 一种全自动化的扫描电子显微镜及其探测方法 |
WO2022175061A3 (en) * | 2021-02-18 | 2022-10-27 | Carl Zeiss Smt Gmbh | System to inspect, modify or analyze a region of interest of a sample by charged particles, set of systems to inspect, modify or analyze a region of interest of a sample and method to inspect, modify or analyze a region of interest of a sample by charged particles |
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