JPH04340242A - 顕微鏡 - Google Patents

顕微鏡

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JPH04340242A
JPH04340242A JP9810691A JP9810691A JPH04340242A JP H04340242 A JPH04340242 A JP H04340242A JP 9810691 A JP9810691 A JP 9810691A JP 9810691 A JP9810691 A JP 9810691A JP H04340242 A JPH04340242 A JP H04340242A
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JP
Japan
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liquid
microscope
objective lens
lens
liquid supply
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JP9810691A
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English (en)
Inventor
Yoshiharu Shigyo
執行 義春
Masayoshi Ogino
荻野 正吉
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Hitachi Ltd
Original Assignee
Hitachi Ltd
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、顕微鏡、特に、解像度
を高めるための技術に関し、例えば、半導体装置の製造
工程において、半導体ウエハやホトマスク等の試料を観
察するのに利用して有効なものに関する。
【0002】
【従来の技術】半導体デバイスの高集積化、パターンの
微細化が増々進み、回路パターンの線幅は1μm程度ま
たはそれ以下になっている。このような半導体デバイス
を高歩留りで製造するには、外観不良等の解析結果を定
量的に把握し、的確にプロセスを管理する必要がある。 そして、半導体デバイスがサブミクロン、ハーフミクロ
ンと進むと、ビット欠け等の欠陥も更に微小になり、高
倍率および高解像度での観察が不可欠となる。
【0003】一般的に、半導体ウエハやホトマスク等の
試料を高解像度で観察するのにSEM(走査型電子顕微
鏡)が用いられているが、このSEMは装置が高価なう
え、観察が真空中で行われるため観察に時間がかかる。 そこで、半導体装置の製造工程においては、金属顕微鏡
等の光学顕微鏡が通常使用されている。
【0004】ところで、金属顕微鏡等による試料の観察
において、試料の観察面の汚染を防止しつつ、解像度を
向上させる方法として、試料の観察位置に空気より屈折
率の高い液体を滴下させる方法が一般に知られている。 すなわち、解像度=(NA/λ)×K。ここで、NAは
レンズの開口数、Kは屈折率、λは波長、である。よっ
てNAおよび波長が一定であれば、屈折率で解像度が決
まる。
【0005】この滴下法は、観察位置(レンズの真下)
以外の場所において、試料にスポイトあるいは液体供給
系で液体を滴下させてから観察位置にもってくる方式が
一般的である。これはレンズの倍率切換を行う場合であ
る。レンズの倍率切換がなく、レンズのワークディスタ
ンスが長い場合は、試料の観察位置において液体の滴下
が実施される。
【0006】なお、半導体ウエハやホトマスクの光学検
査装置を述べてある例としては、株式会社工業調査会発
行「電子材料1988年12月号別冊」昭和63年12
月13日発行  P186〜P191、がある。
【0007】
【発明が解決しようとする課題】しかし、液体滴下法を
用いて顕微鏡により高解像度の観察を実施する場合、次
のような問題点がある。
【0008】■  顕微鏡にレボルバ(レンズ切換機構
)が設備されていない場合、レンズ直下における観察位
置(欠陥位置等)の状態で、液体を滴下し、かつ、回収
することができるが、同観察位置を異なる倍率で観察す
ることはできない。
【0009】■  顕微鏡にレボルバ(レンズ切換機構
)が設備されている場合、レンズ倍率を切換えるのにレ
ボルバが回転されるため、レンズ外部からの滴下方式あ
るいは、観察位置以外の所で滴下させて観察位置にもっ
て行く方式が必要になる。
【0010】■  レンズ外部からの滴下方式において
は、レボルバ回転時に回転範囲外に液体供給系が退避し
なければならないため、退避機構等が必要となり、機構
が複雑になる。高NA(Numerical  Ape
atures)レンズになると、ワークディスタンスが
短くなるため、レンズと試料との間隔が狭くなり、液体
を滴下させる供給系のノズル等がその隙間に入らなくな
り、供給が困難となる。
【0011】■  一方、観察位置以外の場所で液体が
滴下される場合と、再度観察位置への移動が必要となる
。 この場合、顕微鏡の試料台が手動操作方式であると、液
体滴下後、再度観察位置を探索するのは半導体デバイス
の微細化等が進めば、困難ないしは時間がかかる作業に
なる。
【0012】本発明の目的は、これらの課題を解決する
ため顕微鏡のレボルバ回転時、あるいは、高NAレンズ
使用時においても容易に観察位置で液体の滴下し、かつ
回収することもできる顕微鏡を提供することにある。
【0013】本発明の前記ならびにその他の目的と新規
な特徴は、本明細書の記述および添付図面から明らかに
なるであろう。
【0014】
【課題を解決するための手段】本発明の前記ならびにそ
の他の目的と新規な特徴は、本明細書の記述および添付
図面から明らかになるであろう。
【0015】鏡筒の先端部に対物レンズ装置が設けられ
ている顕微鏡において、前記対物レンズ装置の外殻外周
に通液路が形成されており、この通液路はその一方がこ
の対物レンズの先方において開口されているとともに、
その他方が給液装置に接続されていることを特徴とする
【0016】
【作用】前記した手段によれば、解像度を高めたい場合
等において給液装置が開かれると、所定の液体が通液路
を通じて対物レンズ装置の先方空間に供給されることに
なる。この液体の供給は対物レンズ装置に設けられた通
液路を介して実行されるため、対物レンズ装置と試料と
の隙間(ワークディスタンス)が狭小である場合であっ
ても確実に実行される。したがって、給液のために対物
レンズ装置の下から試料を移動させる必要はない。
【0017】
【実施例】図1は本発明の一実施例である顕微鏡を示す
拡大部分正面断面図、図2は図1のII−II線に沿う
平面断面図、図3はその顕微鏡が使用されているウエハ
のフェイルビット解析装置を示す模式図である。
【0018】本実施例において、本発明に係る顕微鏡は
半導体ウエハのフェイルビット解析装置に組み込まれて
いる。このフェイルビット解析装置は半導体装置の製造
工程において半導体ウエハのフェイルビットを観察する
ことにより、不良の原因や異物の付着の原因等を解析し
、もって、歩留りや製品の品質および信頼性を向上させ
るものである。
【0019】フェイルビット解析装置10は試料として
の半導体ウエハ(以下、ウエハという。)1を保持する
ための試料台11を備えている。試料台11はウエハ1
を真空吸着により保持し得るように、かつ、θ方向の位
置合わせが実行されるように構成されており、XYテー
ブル12の上に設備されている。XYテーブル12はコ
ントローラ13により制御されるように構成されており
、コントローラ13はその制御によって試料台11、す
なわち、ウエハ1をXY方向に精密に移動させるように
なっている。コントローラ13には中央処理ユニット(
以下、CPUという。)14が接続されており、コント
ローラ13はこのCPU14の指令によりXYテーブル
12を制御するように構成されている。そして、XYテ
ーブル12は防振台15上に設備されており、防振台1
5により外部の振動が伝達されるのを防止されている。
【0020】他方、試料台11の真上には本実施例に係
る金属顕微鏡(以下、単に、顕微鏡という。)20が設
備されており、この顕微鏡20にはレーザ顕微鏡16が
光学的に連設されている。詳細な説明および図示は省略
するが、このレーザ顕微鏡16はレーザ光線を用いてウ
エハ1を顕微鏡20を介して観察するように構成されて
いる。
【0021】本実施例に係る顕微鏡20は鏡筒21を備
えており、鏡筒21の上下両端部には接眼レンズ装置2
3および3個の対物レンズ装置がそれぞれ設備されてい
る。接眼レンズ装置23と対物レンズ装置群との間には
光路切換装置22が介設されており、この光路切換装置
22はレーザ顕微鏡16と接眼レンズ装置23とを切り
換えて使用し得るように構成されている。
【0022】鏡筒21の対物側、すなわち試料台11側
端部に配設される対物レンズ装置は、本実施例において
は3個がレンズ切換機構(以下、レボルバという。)2
4にそれぞれ取り付けられている。レボルバ24は略半
円球形の椀形状に形成されており、鏡筒21の下端に光
軸を中心にして回転自在に、かつ、周方向の所定角度位
置において位置決めされるように支持されている。レボ
ルバ24には第1対物レンズ装置25、第2対物レンズ
装置25Aおよび第3対物レンズ装置25Bが周方向に
おいて等間隔に配されて、それぞれ着脱自在に螺着され
ており、各対物レンズ装置25、25A、25Bはレボ
ルバ24の所定角度における停止位置において、それら
の各光軸が鏡筒21の光軸と合致するようになっている
【0023】3個の対物レンズ装置25、25A、25
Bはその倍率が、例えば100倍、200倍、300倍
というように互いに異なるのみで、その構造は互いに同
様に構成されている。したがって、その構成は第1対物
レンズ装置25を代表にして、原則的に説明する。
【0024】対物レンズ装置25は円筒形状に形成され
ている外殻26を備えており、外殻26はレボルバ24
に着脱自在に螺着されるようになっている。外殻26に
は通常複数枚のレンズ27が内蔵されており、これらレ
ンズ27群により収差を抑制されつつ所定の倍率が得ら
れるように構成されている。外殻26には大きめの相似
形状に形成された容器28が同心的に外挿されており、
容器28により外殻26の外周には通液路29が形成さ
れている。この通液路29の先端開口はレンズ27の先
方を円形環状に取り囲むように形成されている。他方、
通液路29には給液装置30が流体連結されている。
【0025】すなわち、給液装置30は給液源ユニット
32を備えている。給液源ユニット32はタンクやポン
プ等(図示せず)から構成されており、清浄で、かつ、
水や油等のように空気よりも屈折率の大きい液体31を
送給するようになっている。給液源ユニット32には給
液路33が流体的に接続されており、給液路33の途中
には常時閉の開閉弁(止め弁)34が介設されている。 給液路33は鏡筒21の内部に引き込まれており、鏡筒
21の内部における光軸周りにおいて光軸と平行方向下
向きに開口するように配管されている。
【0026】また、給液装置30は第1分配路35、第
2分配路35Aおよび第3分配路35Bを備えており、
各分配路は第1、第2、第3対物レンズ装置25、25
A、25Bにおける各通液路29に下端がそれぞれ流体
的に接続されている。各分配路35、35A、35Bは
その上端部が給液路33の前記開口とそれぞれ正対する
ようにレボルバ24の回転軸周りにおいて上向きに配管
されている。すなわち、各分配路35、35A、35B
の開口はこれらが接続された各対物レンズ装置25、2
5A、25Bの各通液路29がウエハ1にそれぞれ正対
された状態において、給液路33の開口に正対するよう
になっている。そして、給液路33の開口と、各分配路
35、35A、35Bの開口とにはシール部材36がそ
れぞれ配設されており、これらシール部材36により給
液路33と各分配路35、35A、35Bとは、それぞ
れ正対した時にシール状態で流体連結されるようになっ
ている。
【0027】本実施例において、給液路33には真空排
出装置40が流体的に接続されている。すなわち、真空
排出装置40は負圧供給源ユニット41に接続された排
出路42を備えており、排出路42は給液路33に開閉
弁34の下流側位置において流体連結されている。排出
路42には開閉弁(止め弁)43が介設されており、こ
の開閉弁43は常時閉で、所定時に手動により、または
自動的に開かれるように構成されている。
【0028】次に、前記構成に係るフェイルビット解析
装置10並びに顕微鏡20の使用方法および作用を説明
する。
【0029】試料としてのウエハ1は試料台11上に載
置されて位置決めされた後、真空吸着により保持される
。そして、保持されたウエハ1は試料台11に内蔵され
たθ位置合わせ装置によりθ方向の位置合わせが実行さ
れる。
【0030】続いて、CPU14に記憶された当該ウエ
ハ1についての欠陥(フェイルビット)に関する位置座
標情報がコントローラ13に送信される。この情報に基
づいて、コントローラ13によりXYテーブル12が移
動を制御され、ウエハ1の指定された欠陥位置が顕微鏡
20の光軸に正対される。
【0031】その後、作業者は接眼レンズ装置23を覗
き、レボルバ24を操作して第1〜第3対物レンズ装置
25、25A、25Bを切り換え、所望の倍率を選定す
る。また、さらに倍率を上げたい場合のように、レーザ
顕微鏡16を使用したい場合には、作業者は光路切換装
置22を操作してレーザ顕微鏡16の光路側を開く。こ
れらの操作により、作業者は顕微鏡20またはレーザ顕
微鏡16により、前記指定された欠陥について所望の観
察を実行することができる。そして、この観察に基づい
て当該欠陥についての解析が実行されることになる。
【0032】前記顕微鏡20またはレーザ顕微鏡16に
よる観察に際し、対物レンズ27とウエハ1との間に、
観察中の塵埃による観察面の汚染防止や、解像度を高め
るための液体31を供給したい場合、作業者は真空排出
装置40の開閉弁43が閉じられた状態で、給液装置3
0の開閉弁34を開く。
【0033】給液装置30の開閉弁34が開かれると、
液体31は給液源ユニット32から給液路33を通じて
、現在使用されている対物レンズ装置25に接続された
分配路35に送給される。この分配路35に送給された
液体31は給液路33に供給され、給液路33の開口か
ら対物レンズ装置25に正対したウエハ1の視野上に滴
下される。そして、ウエハ1の上に滴下された液体31
は表面張力等の作用により対物レンズ装置25のレンズ
27の視野を被覆した状態になる。そして、所定量の液
体31が滴下されると、開閉弁34は手動操作によって
、または自動的に閉じられる。
【0034】このようにして対物レンズ27の視野が液
体31により被覆されると、対物レンズ27を透過する
光が液体31を透過することになるため、対物レンズ2
7の倍率が液体31の屈折率に依存して、高められるこ
とになる。
【0035】その後、対物レンズ装置25を切り換えた
い場合や、ウエハの1の観察指定位置を変更したい場合
等のように、ウエハ1上の液体31を除去したい場合、
作業者は給液装置30の開閉弁34を閉じるとともに、
真空排出装置40の開閉弁43を開く。真空排出装置4
0の開閉弁43が開かれると、負圧が負圧供給源ユニッ
ト41から排出路42を通じて給液路33に供給され、
さらに、給液路33および分配路35を経て通液路29
に供給されるため、通液路29の開口に接触ないしは接
近している液体31は吸い上げられる。これにより液体
31はウエハ1上から除去されることになる。
【0036】前記実施例によれば次の効果が得られる。 ■  対物レンズ装置25の外殻26外周に通液路29
を形成することにより、解像度を高める等のための液体
31を対物レンズ27の視野内に供給することができる
ため、対物レンズ27と試料1との隙間が狭小である場
合であっても、試料1を移動させずに液体31を供給す
ることができる。
【0037】■  前記■によって、試料1を移動させ
ずに液体31を供給することができるため、試料1をそ
の都度移動させて視野外で液体31を供給する場合に比
べて、顕微鏡による観察の作業性およびフェイルビット
の解析作業性の能率を高めることができる。
【0038】■  複数個の対物レンズ装置25、25
A、25Bがレボルバ24に設備されている場合におい
て、各対物レンズ装置に通液路をそれぞれ設けることに
より、レボルバ24が回動された場合であっても、液体
31を試料1上に適時供給することができる。
【0039】■  真空排出装置40を給液路33に流
体連結することにより、試料1上に滴下した液体31を
通液路29および給液路33を通じて吸い取ることがで
きるため、試料1上から液体31を回収することができ
、液体31による試料1の汚染等を防止することができ
る。
【0040】以上本発明者によってなされた発明を実施
例に基づき具体的に説明したが、本発明は前記実施例に
限定されるものではなく、その要旨を逸脱しない範囲で
種々変更可能であることはいうまでもない。
【0041】例えば、真空排出装置は省略してもよい。 また、真空排出装置は給液路33を介して通液路29に
接続するように構成するに限らず、通液路29に直接的
に接続してもよい。
【0042】給液装置30の具体的構造は、前記実施例
に係る構造を使用するに限らない。例えば、給液路33
と各分配路35、35A、35Bとは常時流体連結され
た環状通路を介して接続するように構成してもよい。
【0043】以上の説明では主として本発明者によって
なされた発明をその背景となった利用分野であるウエハ
のフェイルビット解析技術に適用した場合について説明
したが、それに限定されるものではなく、一般的な金属
顕微鏡やその他の顕微鏡全般に適用することができる。
【0044】
【発明の効果】本願において開示される発明のうち代表
的なものによって得られる効果を簡単に説明すれば、次
の通りである。
【0045】対物レンズ装置の外殻外周に通液路を形成
することにより、解像度を高める等のための液体を対物
レンズの視野内に供給することができるため、対物レン
ズと試料との隙間が狭小である場合等であっても、試料
を移動させずに液体を供給することができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】図1は本発明の一実施例である顕微鏡を示す拡
大部分正面断面図である。
【図2】図2は図1のII−II線に沿う平面断面図で
ある。
【図3】図3はその顕微鏡が使用されているウエハのフ
ェイルビット解析装置を示す模式図である。
【符号の説明】
1…ウエハ(試料)、10…ウエハのフェイルビット解
析装置、11…試料台、12…XYテーブル、13…コ
ントローラ、14…CPU、15…防振台、16…レー
ザ顕微鏡、20…金属顕微鏡(顕微鏡)、21…鏡筒、
22…光路切換装置、23…接眼レンズ装置、24…レ
ボルバ(レンズ切換機構)、25、25A、25B…対
物レンズ装置、26…外殻、27…レンズ、28…容器
、29…通液路、30…給液装置、31…液体、32…
給液源ユニット、33…給液路、34…開閉弁、35、
35A、35B…分配路、36…シールリング、40…
真空排出装置、41…負圧供給源ユニット、42…排出
路、43…開閉弁。

Claims (3)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】  鏡筒の先端部に対物レンズ装置が設け
    られている顕微鏡において、前記対物レンズ装置の外殻
    外周に通液路が形成されており、この通液路はその一方
    がこの対物レンズの先方において開口されているととも
    に、その他方が給液装置に接続されていることを特徴と
    する顕微鏡。
  2. 【請求項2】  前記通液路が真空排出路に接続されて
    いることを特徴とする請求項1記載の顕微鏡。
  3. 【請求項3】  前記鏡筒の先端部にレンズ切換装置が
    設けられているとともに、このレンズ切換装置に前記対
    物レンズ装置が複数組取り付けられており、各対物レン
    ズ装置に通液路が形成され、これら、通液路は分配路を
    介して給液装置に接続されていることを特徴とする請求
    項1記載の顕微鏡。
JP9810691A 1991-04-03 1991-04-03 顕微鏡 Pending JPH04340242A (ja)

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Cited By (11)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2004259966A (ja) * 2003-02-26 2004-09-16 Nikon Corp 露光装置及びデバイス製造方法
JP2004531765A (ja) * 2001-05-11 2004-10-14 エボテック・オーアーイー・アーゲー 化学的及び/または生物学的な試料の検査用装置
JP2005208626A (ja) * 2003-12-24 2005-08-04 Nikon Corp 顕微鏡装置および液浸対物レンズ
JP2005234457A (ja) * 2004-02-23 2005-09-02 Nikon Corp 顕微鏡観察装置
JP2005234458A (ja) * 2004-02-23 2005-09-02 Nikon Corp 顕微鏡観察装置
JP2005345597A (ja) * 2004-06-01 2005-12-15 Nikon Corp 液浸対物レンズおよび顕微鏡観察装置
WO2006005703A1 (de) * 2004-07-09 2006-01-19 Vistec Semiconductor Systems Gmbh Vorrichtung zur inspektion eines mikroskopischen bauteils
JP2006053422A (ja) * 2004-08-13 2006-02-23 Nikon Corp 顕微鏡観察装置
JP2006201605A (ja) * 2005-01-21 2006-08-03 Nikon Corp 顕微鏡観察装置
JP2008134214A (ja) * 2006-11-01 2008-06-12 Lasertec Corp マスク検査装置
DE102015200927A1 (de) * 2015-01-21 2016-07-21 Carl Zeiss Microscopy Gmbh Vorrichtung und Verfahren zur Ausbildung eines Immersionsmittelfilms

Cited By (16)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US7304793B2 (en) * 2001-05-11 2007-12-04 Evotec Oai Ag Apparatus for examination of chemical and/or biological samples
JP2004531765A (ja) * 2001-05-11 2004-10-14 エボテック・オーアーイー・アーゲー 化学的及び/または生物学的な試料の検査用装置
JP4604452B2 (ja) * 2003-02-26 2011-01-05 株式会社ニコン 露光装置、露光方法、及びデバイス製造方法
JP2004259966A (ja) * 2003-02-26 2004-09-16 Nikon Corp 露光装置及びデバイス製造方法
JP2005208626A (ja) * 2003-12-24 2005-08-04 Nikon Corp 顕微鏡装置および液浸対物レンズ
JP2005234458A (ja) * 2004-02-23 2005-09-02 Nikon Corp 顕微鏡観察装置
JP4569123B2 (ja) * 2004-02-23 2010-10-27 株式会社ニコン 顕微鏡観察装置
JP2005234457A (ja) * 2004-02-23 2005-09-02 Nikon Corp 顕微鏡観察装置
JP2005345597A (ja) * 2004-06-01 2005-12-15 Nikon Corp 液浸対物レンズおよび顕微鏡観察装置
WO2006005703A1 (de) * 2004-07-09 2006-01-19 Vistec Semiconductor Systems Gmbh Vorrichtung zur inspektion eines mikroskopischen bauteils
JP2006053422A (ja) * 2004-08-13 2006-02-23 Nikon Corp 顕微鏡観察装置
JP4691927B2 (ja) * 2004-08-13 2011-06-01 株式会社ニコン 顕微鏡観察装置
JP2006201605A (ja) * 2005-01-21 2006-08-03 Nikon Corp 顕微鏡観察装置
JP2008134214A (ja) * 2006-11-01 2008-06-12 Lasertec Corp マスク検査装置
DE102015200927A1 (de) * 2015-01-21 2016-07-21 Carl Zeiss Microscopy Gmbh Vorrichtung und Verfahren zur Ausbildung eines Immersionsmittelfilms
US9939625B2 (en) 2015-01-21 2018-04-10 Carl Zeiss Microscopy Gmbh Device and method for forming an immersion agent film

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