JPH0763713A

JPH0763713A - 螢光ｘ線検査装置

Info

Publication number: JPH0763713A
Application number: JP6175004A
Authority: JP
Inventors: Robin J Anderson; ジョンアンダーソンロビン; Trevor A Nunn; アントニーナントレヴァー
Original assignee: OTSUKUSUFUOODE ANALYTICAL INST; OTSUKUSUFUOODE ANALYTICAL INSTR Ltd; Oxford Analytical Instruments Ltd
Current assignee: OTSUKUSUFUOODE ANALYTICAL INST; OTSUKUSUFUOODE ANALYTICAL INSTR Ltd; Oxford Analytical Instruments Ltd
Priority date: 1993-08-20
Filing date: 1994-07-27
Publication date: 1995-03-10
Also published as: EP0639766A1; FI943815A0; FI943815A; GB9317371D0; US5528647A

Abstract

(57)【要約】【目的】Ｘ線の発生源としてＸ線管を用いることがで
きる螢光Ｘ線検査装置を提供する。【構成】試料位置に向かって指向されるエネルギーの
範囲を有するＸ線を発生するＸ線管と、Ｘ線管及び試料
位置の間に取り付けられ、試料位置に到達するＸ線のエ
ネルギー帯域を二つの異なる方法で制御できるべく少な
くとも二つの位置の間で移動可能な第１のフィルタアセ
ンブリと、試料位置からのＸ線を監視するＸ線監視装置
と、試料位置及び監視装置の間に取り付けられ、監視装
置に到達するＸ線のエネルギー帯域を二つの異なる方法
で制御できるべく少なくとも二つの位置の間で移動可能
な第２のフィルタアセンブリとを備える。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は、螢光Ｘ線検査装置に関
し、より特定的には、例えば、試料内の指定された成分
の含有量を決定するのに用いられる螢光Ｘ線検査装置に
関する。

【０００２】

【従来の技術】オックスフォード・インストルメント社
の分析システム部門は、「ＬＡＢ−Ｘ」として知られて
いる螢光Ｘ線検査装置を永年の間製造してきた。この装
置では、試料は、試料を検査位置へ移動する回転台上に
設置される。Ｆｅ（鉄）５５のようなＸ線の発生源は、
試料位置に隣接して配置され、試料内の成分に螢光を発
光させかつ成分の特性であるエネルギーを有するＸ線を
発生させるＸ線を生成する。これらのＸ線は、各エネル
ギーでＸ線の強さを決定すべく比例計数管（proportion
al counter：プロポーショナル・カウンタ）等を用いて
監視され、試料中の成分の濃度を決定する。放射性同位
元素源は、環境的に受け入れられることが少なくなり、
かつ国によって変わる厳しい条件の対象である。放射性
同位元素源は、制御不可能でありかつ時間と共に崩壊す
る。その結果、適当なターゲットの電子による励起に応
答してＸ線を発生し、かつ随意にオンまたはオフに切り
替えうる制御されたエネルギー及び強さの発生源として
用いることができる等価なＸ線管で放射性同位元素源を
置き換えることの必要性が存在する。

【０００３】

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上述し
た置換を行うことによる問題点の一つは、Ｘ線管が放射
性同位元素と比較してＸ線のより広いエネルギー帯域幅
を発生することである。本発明の目的は、上記従来の技
術における問題点に鑑み、Ｘ線の発生源としてＸ線管を
用いることができる螢光Ｘ線検査装置を提供することで
ある。また、本発明の目的は、上記螢光Ｘ線検査装置を
適宜構成するフィルタアセンブリを提供することであ
る。

【０００４】

【課題を解決するための手段】上述した本発明の目的
は、試料位置に向かって指向されるエネルギーの範囲を
有するＸ線を発生するＸ線管と、Ｘ線管及び試料位置の
間に取り付けられ、試料位置に到達するＸ線のエネルギ
ー帯域を二つの異なる方法で制御できるべく少なくとも
二つの位置の間で移動可能な第１のフィルタアセンブリ
と、試料位置からのＸ線を監視するＸ線監視装置と、試
料位置及び監視装置の間に取り付けられ、監視装置に到
達するＸ線のエネルギー帯域を二つの異なる方法で制御
できるべく少なくとも二つの位置の間で移動可能な第２
のフィルタアセンブリとを備える螢光Ｘ線検査装置によ
って達成される。本発明の螢光Ｘ線検査装置における第
１のフィルタアセンブリは、少なくとも二つの開口部を
有するスライド部材を備え、開口部の少なくとも一つが
フィルタを含むように構成されてもよい。本発明の螢光
Ｘ線検査装置は、第１のフィルタアセンブリ及び第２の
フィルタアセンブリの一つまたは両方の位置を制御する
制御手段を更に備えてもよい。本発明の螢光Ｘ線検査装
置における制御手段は、ステッパモータを備えてもよ
い。

【０００５】本発明の螢光Ｘ線検査装置は、第１のフィ
ルタアセンブリ及び第２のフィルタアセンブリの位置を
決定する感知手段を更に備えてもよい。本発明の螢光Ｘ
線検査装置は、Ｘ線管の動作を制御する制御システム
と、入力装置と、試料の各種類に対するＸ線管、第１及
び第２の制御手段について適当な制御条件を規定するデ
ータを格納するパラメータ格納装置とを更に備え、入力
装置を介して試料の種類を入力することに応答して、制
御システムは、対応付けられたパラメータの群をアクセ
スしてＸ線管、第１及び第２の制御手段を制御するよう
に構成してもよい。上述した本発明の目的は、管状のＸ
線監視装置と共に使用するフィルタアセンブリであっ
て、監視装置について取り付けるための管状支持体を備
え、支持体は、少なくとも二つのＸ線フィルタ位置を規
定し、かつフィルタ位置の選択された一つを監視装置の
Ｘ線受光窓にアライメントさせるべく使用中の監視装置
について回転可能であるフィルタアセンブリによっても
達成される。本発明のフィルタアセンブリにおける管状
支持体は、監視装置について配置されたハウジングに取
り付けられるように構成されてもよい。

【０００６】本発明のフィルタアセンブリは、ハウジン
グに取り付けられ、かつ使用中のＸ線監視装置について
間隔をおいた一組のベアリングを更に備え、管状支持体
は、ベアリング内で回転自在に取り付けられて、監視装
置は、フィルタアセンブリを分解することなしに管状支
持体内で位置に及び位置からスライドされうるように構
成されてもよい。

【０００７】

【作用】本発明の一つの観点によれば、螢光Ｘ線検査装
置は、試料位置に向かって指向されたエネルギーの範囲
を有するＸ線を発生するＸ線管と、Ｘ線管及び試料位置
の間に取り付けられ、試料位置に到達するＸ線のエネル
ギー帯域を二つの異なる方法で制御できるべく少なくと
も二つの位置の間で移動可能な第１のフィルタアセンブ
リと、試料位置からのＸ線を監視するＸ線監視装置と、
試料位置及び監視装置の間に取り付けられ、監視装置に
到達するＸ線のエネルギー帯域を二つの異なる方法で制
御できるべく少なくとも二つの位置の間で移動可能な第
２のフィルタアセンブリとを備える。Ｘ線管を用いるこ
との別の問題点は、従来の放射性同位元素の大きさとの
比較におけるその管の大きさである。中間媒体による後
方散乱及び吸収の問題を減少すべく、そして重要なこと
に、より小さな低電力Ｘ線管の使用を更に許容する励起
及び検出効率の両方を向上すべく、試料にできるだけ接
近して管と監視装置を配置することは、重要である。そ
れゆえに、第２のフィルタアセンブリは、異なるフィル
タを位置に到らせるべく回転可能なディクス（円板）を
備え得うるけれども、好ましくは、そして本発明の第２
の観点によれば、管状Ｘ線監視装置と共に用いるための
フィルタアセンブリは、監視装置について取り付けるた
めの管状支持体を備え、この支持体は、少なくとも二つ
のＸ線フィルタ位置を規定し、かつフィルタ位置の選択
されたものを監視装置のＸ線受光窓とアライメントに到
らせるべく使用中に監視装置について回転可能である。

【０００８】監視装置について取り付けられた管状支持
体の形式でフィルタアセンブリを供給することにより、
空間要求における大いなる縮小が達成され、非常に小型
化された製品を結果としてもたらす。更に、この小型化
設計は、低電力、低熱放散、高い安定性、及び高感度を
提供する。一般に、フィルタ位置の一つは、フィルタリ
ングなしでＸ線が通過する開口部を備えている。本発明
の第２の観点によるフィルタアセンブリが放射性同位元
素源を用いる従来の螢光Ｘ線検査装置に用いられうるこ
とは、評価されるべきだ。しかしながら、本発明の第２
の観点は、本発明の第１の観点による装置において第２
のフィルタアセンブリとしての使用に対して特に適す
る。フィルタアセンブリは、例えば監視装置に直接取り
付けられることを含んでいるＸ線監視装置について種々
の方法で取り付けられうる。しかしながら、好ましく
は、管状支持体は、監視装置について配置されたハウジ
ングに取り付けられる。例えば、アセンブリは、使用中
のＸ線監視装置について取り付けられかつそれから仕切
られたベアリング、例えばローラーベアリング、の組合
せを更に備え、管状支持体がベアリング内に回転自在に
取り付けられて、監視装置は、フィルタアセンブリを分
解することなしに管状支持体内の位置にまたは位置から
スライドしうる。これは、フィルタアセンブリを分解す
る必要なしで監視装置の置換を許容する特に都合のよい
取付け構成である。

【０００９】第１及び第２のフィルタアセンブリのそれ
ぞれは、手動で操作可能であるが、しかし好ましくは、
装置は、第１及び／または第２のフィルタアセンブリを
それぞれ制御する第１及び／または第２の制御手段を備
える。典型的には、制御手段は、駆動ベルトを介してフ
ィルタアセンブリに都合よく結合されるステッパモータ
を備えうる。代替的に、ギア構成（gear arrangements
）が用いられうる。結果として得られた装置は、種々
の異なる成分に対して試料を検査することができること
において非常にフレキシブル（柔軟性）である。これ
は、第１及び第２のフィルタアセンブリを適当に制御す
ることにより、かつＸ線管を制御することによって達成
される。しかしながら、この柔軟性は、装置の動作にお
ける複雑性を結果として生じうる。従って、好ましく
は、装置は、Ｘ線管及び第１及び第２の制御手段の動作
を制御する制御システム、入力装置、そして試料の各型
に対してＸ線管及び第１及び第２の制御手段への適当な
制御条件を規定するデータを記憶するパラメータ記憶装
置を更に備え、入力装置を介して試料の型を入力するこ
とに応答して、制御システムは、パラメータの対応付け
られた群をアクセスしてＸ線管及び第１及び第２の制御
手段をそれぞれ制御する。

【００１０】制御システムは、マイクロプロセッサを含
みうるかまたはハードウェア構成部分によって規定され
うる。

【００１１】

【実施例】以下、添付した図面を参照して、本発明の螢
光Ｘ線検査装置の実施例を詳細に説明する。図１に示す
装置は、オックスフォード・インストルメント社の「Ｌ
ＡＢ−Ｘ」に密接に基づくものであり、この早期の製品
とは異なる装置の部分だけが詳細に記載される。装置
は、ロジウム・ターゲット（Rhodium target）を含むＸ
線管１を含む。適当な管は、Ｘ−ｒａｙＴｅｃｈｎｏ
ｌｏｇｉｅｓＩｎｃ．によって製造された管のＴＦ範
囲からのＴＦ１００１である。Ｘ線は、管１のベリウム
窓２から放射され、以下に詳細に説明するようにそれか
らスライドフィルタアセンブリ３を通り抜ける。次に、
Ｘ線は開口部４を通り抜けて従来形式の試料ホルダー３
３内に包含された試料５に衝突する。次に、試料５によ
って放射された螢光Ｘ線は、以下に詳細に説明するよう
に管状フィルタアセンブリ６を通り抜け、そして気体で
充填された比例計数管８の窓７を通る。比例計数管８
は、従来の方法で合成計数を計算しかつ表示する処理手
段（図示省略）に接続される。図２は、スライドフィル
タアセンブリ３の取付けをより詳細に示す。図に示すよ
うに、アセンブリ３は、三つの円形開口部９〜１１を有
し、開口部１０、１１は、異なる形式の対応するフィル
タを包含する。スライドフィルタアセンブリ３は、図２
に実線で示す位置間で中間位置を介して完全に左方向の
位置まで左にスライド可能である。これら三つの位置の
それぞれにおいて、開口部９〜１１の一つは、管１の窓
２上に配置される。スライドアセンブリ３の移動（動
き）は、駆動ベルト１４にプーリー１３を介して結合さ
れたステッパモータ１２によって制御される。駆動ベル
トの他端は、アイドラープーリー１５の廻りに巻き込ま
れる。ベルト１４は、スライドアセンブリ３に図２及び
図３に図示するように１６で装着される。

【００１２】図２及び図３に示すように、時計方向への
ステッパモータの回転は、スライドアセンブリ３を右側
へスライドし、同時に反時計方向における回転は、スラ
イドアセンブリ３を左側へスライドする。スライドアセ
ンブリの基準位置を制御するために、反射するマーク
（例えば金属）１７が（光吸収）ベルト１４上に設けら
れ、光センサ１８（図２にのみ示す）が基準位置に配置
されるので、それ（光センサ）１８は、図２に示す位置
でのマーク１７の存在を検出できる。図３に示すよう
に、スライドアセンブリ３は、管窓２のいずれかの側に
配置された対応する壁２０におけるスロット（溝）１９
に支持される。スライドアセンブリ３の取付けは、他の
構成部分を調整または取り除くことなしに管１を取り除
くことを許容する。それゆえに、これら構成部分の臨界
アラインメント（critical alignment）は、乱されな
い。フィルタアセンブリ６は、それぞれが一般的に矩形
の形状を有し、比例計数管の窓の領域に一致し、アセン
ブリの軸方向に伸長している六つの円周上で仕切られた
（circumferentially spaced）開口部２１（図１参照）
を有している円筒状部材を備えている。開口部２１の五
つは、異なる形式のフィルタを備え、アセンブリは、比
例計数管８の軸について同軸に配置される。アセンブリ
６は、軸上で仕切られたローラベアリングの二つの組合
せを介して支持され、その内の一つの組合せ２２が図１
に示されている。ローラベアリング２２は、装置の支持
壁（図示省略）に取付けられるので、フィルタアセンブ
リ６は、比例計数管８から放射状に仕切られる。これ
は、フィルタアセンブリ６を比例計数管８について回転
させることできるが、しかし同時に、比例計数管８は、
フィルタアセンブリを分解することなしにフィルタアセ
ンブリ６から軸方向にスライドアウト（slid axially o
ut from ）されうる。

【００１３】フィルタアセンブリ６の位置は、フィルタ
アセンブリ６にベルト２４を介して結合されたステッパ
モータ２３によって制御される。アセンブリ６は、光セ
ンサ２５を介して検出されうる反射する、例えば金属
の、マーカー（図示省略）を携える。装置を動作するた
めに、スライドフィルタアセンブリ３から適当なフィル
タと、スライドフィルタアセンブリ６から適当なフィル
タと、そしてＸ線管１に印加される電圧及び電流とを選
択することが必要である。これは、ＨＴ発生源２６（図
４参照）と低電圧電源２７の動作を必要とする。典型的
に、ＨＴ発生源２６は、一つのｋＶステップで４ｋＶか
ら２５ｋＶまで調整可能であり、低電圧電源２７は、１
０μＡから１００μＡの範囲で放出電流を達成すべく制
御される。これらの源は、最適計数率を得るべく調整さ
れることが必要である。図４に示すように、装置の制御
は、二つの源２６、２７だけでなくステッパモータ１
２、２３をも制御するマイクロプロセッサ２８を介して
達成される。マイクロプロセッサ２８は、キーパッド２
９、センサ１８、２５、及びパラメータ記憶装置３０に
も接続される。

【００１４】最初に、記憶装置３０は、装置の異なる応
用に対応するパラメータの組合せで負荷される。それゆ
えに、各応用に対して、記憶装置３０は、ＨＴ発生源２
６と低電圧電源２７に印加される値と、フィルタアセン
ブリ３、６の位置に関する情報とを記憶する。また、合
成データを分析するための、例えば構成データ、選択的
データ処理条件等の他のパラメータも記憶される。動作
において、使用者は、適当な検査位置に試料５を配置
し、そして例えば、同一形式のような、特定の応用をキ
ーパッド２９上に入力する。マイクロプロセッサ２８
は、記憶装置３０のパラメータの適当な組合せをアクセ
スすることによってこの入力に応答する。次に、マイク
ロプロセッサは、対応する光センサ１８、２５が各フィ
ルタアセンブリがその基準位置であることを示すマーク
を検出するまで、各ステッパモータ１２、２３を動かす
（actuate ）。次に、記憶装置３０からの情報により、
ステッパモータ１２、２３の一つまたは両方は、代替の
フィルタをその位置に到らせるためにフィルタ３、６を
移動すべく活性化されうる。一度これが終了したなら
ば、マイクロプロセッサ２８は、源２６、２７を適当に
制御することによってＸ線３１の発生を開始すル。その
後、比例計数管８１は、入射するＸ線３２を監視し、従
来の方法で結果を表示する。

【００１５】図５は、シリカマトリックスにおけるＦｅ
（鉄）の決定に対して第２のフィルタと共同して第１の
フィルタを用いることによって達成されうる分析性能に
おける改善を示す。図５における波高分布は、１５ｋＶ
で動作するロジウムターゲットとアルゴンガスが充填さ
れた検出器を用いて０．６％のＦｅ（鉄）を包含してい
る試料からのものである。５μＡ（７５ｍＷ管電力）の
放出電流で取得した、フィルタされないスペクトルは、
試料から後方散乱したＸ線による高いバックグラウンド
上に重畳された６．４ｋｅＶでの鉄のＫαピークを示
す。２．７ｋｅＶでのピークは、Ｘ線管からのロジウム
のＬαである。フィルタされたスペクトルは、１５μＡ
の放出電流で、厚さ０．１ｍｍのアルミニウムの第１の
フィルタと、厚さ０．０１２ｍｍのマンガンの第２のフ
ィルタとを用いて得られた。鉄ピーク下のバックグラウ
ンドは、全鉄の信号にあまり影響を与えないで、非常に
減少された。第１のフィルタは、鉄ピークの低エネルギ
ー側上に現れる管から散乱した不要なＸ線を縮小し、第
２のフィルタは、鉄ピークの高エネルギー側のＸ線を吸
収する。従って、検出器に入力するＸ線の総数は、減少
されて高放出電流を用いることができる。

【００１６】これらのフィルタの組合せ効果は、３の因
数（factor：係数）でシリカマトリックスにおける鉄に
対する検出限界を低くすることである。上述した実施例
では、ロジウムターゲット管が記述された。鉛、銅、ク
ロム、及びチタンを含む他のターゲット管を用いること
をできる。それゆえに、本発明で、フィルタアセンブリ
６において適当なフィルタを用いることにより、分解不
能であるような信号が、対抗する信号を吸収することに
よって、分解されうる。ある応用において、試料は、興
味ある全ての成分の存在を決定すべく異なる方法で検査
されなければならない。これがＸ線管を変えることを含
まない場合、条件の変更は、フィルタアセンブリ３、６
を適当に移動することによって用いられるフィルタを単
に変えることにより、非常に簡単である。監視されうる
成分の大きな範囲の例は、全てが固定した条件で分析さ
せうる紙上のシリコン、油中のイオウ、セメント中のイ
オウ及びカルシウム、そして異なる条件下で三つの連続
的な測定を必要とするセメント中のアルミニウム、シリ
コン、カルシウム、鉄を含む。

【００１７】特に、検出器窓（detector window ）上の
フィルタの紹介は、ターゲット物質としてのロジウムの
可能性を増大し、かつ高濃度のシリコンの存在において
アルミニウムを測定できる。これは、セメント中のＡｌ
₂Ｏ₃、ＳｉＯ₂、ＣａＯ、及びＦｅ₂Ｏ₃の好結果な
決定に寄与する。上述したように、我々は、放射性同位
元素を用いて得られるものよりもよい結果を生成する、
Ｘ線管を用いることができる新たな螢光Ｘ線検査装置を
開発した。これは、Ｘ線管と試料位置の間及び試料位置
と監視装置の間にフィルタの範囲を供給することによっ
て達成される。この方法で、検査される試料により種々
の異なるフィルタの組合せが用いられうる。フィルタア
センブリは、エネルギースペクトルを特定の応用の必要
性に合うように調整すべく設計される。例えば、第１の
フィルタアセンブリは、Ｘ線管によって生成されたＸ線
エネルギーの広い範囲を限定または減少すべく設計しう
るし、同時に第２のフィルタアセンブリは、一つ以上の
エネルギー帯域を減衰すべく設計しうるので、残りのエ
ネルギー帯域が明瞭に検出されうる。本発明の一つの重
要な応用は、例えば炭化水素物や酸化物（hydrocarbon
or oxide materials）の低い原子番号マトリックスにお
ける鉄の微量（trace quantities）（＜１００ｐｐｍ）
を測定することである。本発明は、厚み０．１ｍｍを有
するアルミニウムの第１のフィルタと厚み０．０１２ｍ
ｍを有するマンガンの第２のフィルタを用いることによ
って、そのような測定に対して役立つべく用いることが
できる。これらフィルタの一つまたは両方を選択する能
力は、そのような決定に対する使用可能な感度をかなり
高める。

【００１８】典型的に、第１及び第２のフィルタアセン
ブリのそれぞれの位置の少なくとも一つは、あらゆるフ
ィルタの欠如に対応して、Ｘ線がその位置をフィルタさ
れないで通過する。好ましい実施例では、第１のフィル
タアセンブリは、開口位置と二つのフィルタを備え、同
時に第２のフィルタアセンブリは、開口位置と五つの異
なるフィルタを備える。

【００１９】

【発明の効果】本発明の螢光Ｘ線検査装置は、試料位置
に向かって指向されるエネルギーの範囲を有するＸ線を
発生するＸ線管と、Ｘ線管及び試料位置の間に取り付け
られ、試料位置に到達するＸ線のエネルギー帯域を二つ
の異なる方法で制御できるべく少なくとも二つの位置の
間で移動可能な第１のフィルタアセンブリと、試料位置
からのＸ線を監視するＸ線監視装置と、試料位置及び監
視装置の間に取り付けられ、監視装置に到達するＸ線の
エネルギー帯域を二つの異なる方法で制御できるべく少
なくとも二つの位置の間で移動可能な第２のフィルタア
センブリとを備えるので、Ｘ線管を用いることができ、
かつ放射性同位元素を用いて得られるものよりも試料成
分の優れた分析結果を得ることができる。また、本発明
のフィルタアセンブリは、管状のＸ線監視装置と共に使
用するフィルタアセンブリであって、監視装置について
取り付けるための管状支持体を備え、支持体は、少なく
とも二つのＸ線フィルタ位置を規定し、かつフィルタ位
置の選択された一つを監視装置のＸ線受光窓にアライメ
ントさせるべく使用中の監視装置について回転可能なの
で、Ｘ線エネルギースペクトルを特定の応用の必要性に
合うように調整することができ、Ｘ線管を用いることが
でき、かつ放射性同位元素を用いて得られるものよりも
試料成分の優れた分析結果を得ることができる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の螢光Ｘ線検査装置の一実施例における
分析ヘッドの断面図である。

【図２】管開口部が取り除かれた状態で図１の方向Ｘで
取られた図１に示すフィルタスライドアセンブリの図で
ある。

【図３】図２に示す構成要素（成分）の側面図である。

【図４】装置の処理構成部分を示すブロック回路図であ
る。

【図５】フィルタの使用あり及び使用なしのＸ線管から
得られたスペクトラのグラフである。

【符号の説明】

１Ｘ線管２ベリウム窓３スライドフィルタアセンブリ４開口部５試料６管状フィルタアセンブリ７窓８比例計数管９〜１１円形開口部１２，２３ステッパモータ１３プーリー１４駆動ベルト１５アイドラープーリー１７マーク１８光センサ１９スロット２０壁２１開口部２２ローラベアリングの組合せ２４ベルト２５光センサ３３試料ホルダー

フロントページの続き (72)発明者トレヴァーアントニーナンイギリスオックソンオーエックス８６ユーエヌウィットニーハイコッジースヒースファームコッテージ（番地なし)

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】試料位置に向かって指向されるエネルギ
ーの範囲を有するＸ線を発生するＸ線管と、前記Ｘ線管
及び前記試料位置の間に取り付けられ、該試料位置に到
達するＸ線のエネルギー帯域を二つの異なる方法で制御
できるべく少なくとも二つの位置の間で移動可能な第１
のフィルタアセンブリと、前記試料位置からのＸ線を監
視するＸ線監視装置と、前記試料位置及び前記監視装置
の間に取り付けられ、該監視装置に到達するＸ線のエネ
ルギー帯域を二つの異なる方法で制御できるべく少なく
とも二つの位置の間で移動可能な第２のフィルタアセン
ブリとを備えることを特徴とする螢光Ｘ線検査装置。
【請求項２】前記第１のフィルタアセンブリは、少な
くとも二つの開口部を有するスライド部材を備え、該開
口部の少なくとも一つがフィルタを含むことを特徴とす
る請求項１に記載の螢光Ｘ線検査装置。
【請求項３】前記第１のフィルタアセンブリ及び前記
第２のフィルタアセンブリの一つまたは両方の位置を制
御する制御手段を更に備えることを特徴とする請求項１
または請求項２に記載の螢光Ｘ線検査装置。
【請求項４】前記制御手段は、ステッパモータを備え
ることを特徴とする請求項３に記載の螢光Ｘ線検査装
置。
【請求項５】前記第１のフィルタアセンブリ及び前記
第２のフィルタアセンブリの位置を決定する感知手段を
更に備えることを特徴とする請求項１から請求項４のい
ずれか一項に記載の螢光Ｘ線検査装置。
【請求項６】前記Ｘ線管の動作を制御する制御システ
ムと、入力装置と、試料の各種類に対する前記Ｘ線管、
前記第１及び第２の制御手段について適当な制御条件を
規定するデータを格納するパラメータ格納装置とを更に
備え、前記入力装置を介して試料の種類を入力すること
に応答して、前記制御システムは、対応付けられた前記
パラメータの群をアクセスし、そして前記Ｘ線管、前記
第１及び第２の制御手段を制御することを特徴とする請
求項１から５のいずれか一項に記載の螢光Ｘ線検査装
置。
【請求項７】管状のＸ線監視装置と共に使用するフィ
ルタアセンブリであって、前記監視装置について取り付
けるための管状支持体を備え、前記支持体は、少なくと
も二つのＸ線フィルタ位置を規定し、かつフィルタ位置
の選択された一つを前記監視装置のＸ線受光窓にアライ
メントさせるべく使用中の前記監視装置について回転可
能であることを特徴とするフィルタアセンブリ。
【請求項８】前記管状支持体は、前記監視装置につい
て配置されたハウジングに取り付けられることを特徴と
する請求項７に記載のアセンブリ。
【請求項９】前記ハウジングに取り付けられ、かつ使
用中の前記Ｘ線監視装置について間隔をおいた一組のベ
アリングを更に備え、前記管状支持体は、前記ベアリン
グ内で回転自在に取り付けられて、前記監視装置は、前
記フィルタアセンブリを分解することなしに前記管状支
持体内で位置に及び位置からスライドされうることを特
徴とする請求項８に記載のアセンブリ。
【請求項１０】前記第２のフィルタアセンブリは、請
求項７から請求項９のいずれかの記載により構成される
ことを特徴とする請求項１から請求項６にいずれか一項
に記載の装置。