JPH0763425A - 給湯装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【構成】 風呂釜Ｃが設けられている浴槽Ｂに対して湯
水を供給する給湯手段Ａの給湯動作を制御する給湯制御
手段Ｈが、浴槽Ｂの水位を検出する水位検出手段Ｓ１の
検出情報に基づいて、検出浴槽水位Ｌの低下速度が基準
速度よりも遅い場合に、浴槽Ｂの排水栓１５が排水状態
であると判別して、排水栓１５が排水状態のときに給湯
路Ｗ７及び循環路Ｗ５を通して湯水の供給を行う洗浄給
湯を行うように構成されている給湯装置。 【効果】 入浴者が浴槽から出ることによって水位が低
下する場合には、排水栓が排水状態であると誤認される
ことがないので、排水栓が閉栓状態まま洗浄給湯が行わ
れ、洗浄された湯アカや湯ドロが浴槽内に溜まったり、
洗浄排水が浴槽から溢れ出す不都合が解消された給湯装
置を提供することができる。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は、浴槽水を循環させる循
環路に介裝されている熱交換器を加熱することによって
前記浴槽水を加熱する風呂釜が設けられている浴槽に対
して湯水を供給する給湯手段と、前記浴槽の水位を検出
する水位検出手段と、前記給湯手段の給湯動作を制御す
る給湯制御手段とが設けられ、前記給湯手段から供給さ
れる湯水を前記浴槽に供給する給湯路が、前記循環路に
接続され、前記給湯制御手段が、前記水位検出手段の検
出情報に基づいて、前記浴槽の排水栓が排水状態のとき
に前記給湯路及び前記循環路を通して湯水の供給を行う
洗浄給湯を行うように構成されている給湯装置に関す
る。

【０００２】

【従来の技術】従来、この種の給湯装置において、給湯
手段の給湯動作を制御する給湯制御手段は、浴槽の水位
が設定水位以下になるに伴って浴槽の排水栓が排水状態
であると判別して、風呂釜や風呂釜の循環路又は給湯路
などに溜まった湯アカや湯ドロを洗浄する洗浄給湯を行
うように構成されていた（例えば、特開平４−１９００
４８号公報参照）。

【０００３】

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上記従
来技術によれば、給湯制御手段が、浴槽の水位が設定水
位以下になるに伴って排水栓の排水状態を判別するよう
に構成されているので、排水栓が閉栓状態まま、単に浴
槽の水位が設定水位よりも低下した場合、例えば、入浴
者が浴槽から出ることによって水位が低下した場合や、
浴槽水の汲み出しによって水位が低下した場合には、排
水栓が排水状態であると誤認されて洗浄給湯が行われ、
洗浄された湯アカや湯ドロが浴槽内に溜まったり、洗浄
排水が浴槽から溢れ出す不都合が発生していた。本発明
の目的は、上記従来欠点を解消する点にある。

【０００４】

【課題を解決するための手段】本発明による給湯装置の
第一の特徴構成は、前記給湯制御手段が、前記水位検出
手段の検出浴槽水位の低下速度が基準速度よりも遅い場
合に、前記排水栓が排水状態であると判別するように構
成されている点にある。

【０００５】本発明による給湯装置の第二の特徴構成
は、第一の特徴構成を実施する際の好適な具体構成を特
定するもので、前記給湯制御手段が、前記検出浴槽水位
が設定水位から低下する低下速度に基づいて前記排水状
態を判別するように構成されている点にある。

【０００６】本発明による給湯装置の第三の特徴構成
は、前記給湯制御手段が、前記水位検出手段の前記検出
浴槽水位が設定水位から設定量低下するまでの低下速度
が基準速度よりも遅く、且つ、引き続き前記検出浴槽水
位の低下が検出されるときに、前記排水状態であると判
別するように構成されている点にある。

【０００７】

【作用】本発明の第一の特徴構成によれば、給湯制御手
段が、水位検出手段の検出浴槽水位の低下速度が基準速
度よりも遅い場合に排水栓が排水状態であると判別する
ように構成されているから、排水栓が閉栓状態まま単に
浴槽の水位が設定水位よりも低下した場合、例えば、入
浴者が浴槽から出ることによって水位が低下する場合に
は、一般に、排水栓から排水するよりも著しく速く水位
が低下するので、排水栓が排水状態であると誤認される
ことがない。

【０００８】第二の特徴構成によれば、給湯制御手段
が、検出浴槽水位が設定水位から低下する低下速度に基
づいて排水状態を判別するように構成されているから、
排水栓が閉栓状態まま単に浴槽の水位が設定水位よりも
低下した場合、例えば、浴槽水の汲み出しによって水位
が低下した場合には、通常の使用状態の浴槽水位の付近
で水位が低下するのみであるので、排水栓が排水状態で
あると誤認されることがなく、また、浴槽の形状などに
起因して、排水栓が排水状態のときの水位の低下速度が
浴槽水位によって一定ではない浴槽の場合にも、排水開
始時の浴槽水位にかかわらず、所定の水位における水位
の低下速度によって排水栓の排水状態を判別することが
できる。

【０００９】第三の特徴構成によれば、給湯制御手段
が、水位検出手段の検出浴槽水位が設定水位から設定量
低下するまでの低下速度が基準速度よりも遅く、且つ、
引き続き検出浴槽水位の低下が検出されるときに、排水
状態であると判別するように構成されているから、排水
開始時の浴槽水位にかかわらず、所定の水位における水
位の低下速度によって排水栓の排水状態を判別すること
ができ、且つ、排水栓が閉栓状態まま単に浴槽の水位が
設定水位よりも低下した場合、例えば、入浴者が浴槽か
ら出ることによって水位が低下した場合にも、水位の低
下速度が基準速度よりも遅いかどうかを判別することに
よって、排水栓が排水状態であると誤認されることがな
く、また、単に浴槽水の汲み出しによって水位が低下し
た場合にも、引き続き浴槽水位の低下が検出されるかど
うかを判別することによって、排水栓が排水状態である
と誤認されることがない。

【００１０】

【発明の効果】本発明の第一の特徴構成によれば、入浴
者が浴槽から出ることによって水位が低下する場合に
は、排水栓が排水状態であると誤認されることがないの
で、排水栓が閉栓状態まま洗浄給湯が行われ、洗浄され
た湯アカや湯ドロが浴槽内に溜まったり、洗浄排水が浴
槽から溢れ出す不都合が解消された給湯装置を提供する
ことができる。

【００１１】第二の特徴構成によれば、浴槽水の汲み出
しによって水位が低下する場合には、排水栓が排水状態
であると誤認されることがなく、また、排水栓が排水状
態のときの水位の低下速度が浴槽水位によって一定では
ない浴槽の場合にも、排水開始時の浴槽水位にかかわら
ず、所定の水位における水位の低下速度によって排水栓
の排水状態を判別することができるから、より一層確実
に、排水栓の排水状態を検出することができる給湯装置
を提供することができる。

【００１２】第三の特徴構成によれば、排水開始時の浴
槽水位にかかわらず、排水栓の排水状態を判別すること
ができ、且つ、排水栓が閉栓状態まま単に浴槽の水位が
設定水位よりも低下した場合にも、排水栓が排水状態で
あると誤認されることがないから、排水栓が閉栓状態ま
ま洗浄給湯が行われ、洗浄された湯アカや湯ドロが浴槽
内に溜まったり、洗浄排水が浴槽から溢れ出す不都合が
解消された給湯装置を提供することができる。

【００１３】

【実施例】以下、本発明の実施例を図面に基づいて説明
する。図１には、風呂釜Ｃが設けられている浴槽Ｂに対
して湯水を供給する給湯装置の一例としての、炭酸給湯
装置が示されている。炭酸給湯装置は、給水路Ｗ１にて
供給される水道水を加熱する給湯部Ａと、給湯部Ａの排
気と給水路Ｗ１からの水とを接触させる気液接触部Ｇと
が各種配管によって接続されて備えられている給湯手段
と、給湯手段の給湯動作を制御する給湯制御手段として
の制御部Ｈとから構成されている。

【００１４】給湯部Ａには、給水路Ｗ１にて水道水が給
水される給湯用熱交換器１と、給湯用熱交換器１を加熱
する給湯バーナ２と、給湯バーナ２の燃焼用空気を送風
する送風ファン３とが備えられている。給湯バーナ２に
接続されている燃料ガス供給管２ａには、給湯バーナ２
への燃料供給量を調節する燃料調節バルブ４と、燃料断
続バルブ５とが備えられている。送風ファン３は、その
回転数が、給湯バーナ２の燃焼状態が最適になるような
送風量になるように、給湯バーナ２の燃料供給量に応じ
て一義的に定められた値に制御されように構成されてい
る。

【００１５】気液接触部Ｇには、給湯部Ａの排気ダクト
１２が接続されて、給湯バーナ２の排気が通過するよう
に構成されると共に、給水路Ｗ１からの水を気液接触部
Ｇに導く給水路Ｗ３と、気液接触部Ｇからの湯又は水を
浴槽Ｂに導く経路とが接続されて、給湯部Ａから浴槽Ｂ
に対する湯水の供給を行う経路を中継するように構成さ
れている。

【００１６】気液接触部Ｇの下流側、すなわち、気液接
触部Ｇからの湯又は水を浴槽Ｂに導く経路の途中には、
前記経路を水封する水溜まり部Ｆと、浴槽Ｂへ供給され
る水又は湯に混入している気泡を分離する気泡分離手段
Ｄとが介裝されている。

【００１７】浴槽Ｂには、浴槽Ｂの水位Ｌを検出する水
位検出手段としての浴槽水位センサＳ１と、浴槽Ｂの浴
槽水を排水する排水栓１５と、浴槽水の追焚を行う風呂
釜Ｃとが備えられ、浴槽水を風呂釜Ｃとの間に渡って循
環させる循環路Ｗ５が接続されている。循環路Ｗ５は、
上部接続口３２と下部接続口３３とによって、浴槽Ｂに
接続されている。循環路Ｗ５には、風呂釜Ｃの追焚用熱
交換器６と、循環ポンプ９とが介裝されている。風呂釜
Ｃは、前記追焚用熱交換器６と、追焚用熱交換器６を加
熱する追焚バーナ７と、追焚バーナ７の燃焼用空気を送
風する送風ファン８とから構成されている。追焚バーナ
７の燃料ガス供給管には、追焚バーナ７への燃料供給量
を調節する燃料調節バルブ１０と、燃料断続バルブ１１
とが備えられている。送風ファン８は、追焚バーナ７の
燃料供給量に従って、送風ファン３と同様に制御される
ように構成されている。

【００１８】本炭酸給湯装置には、まず、給湯用熱交換
器１にて加熱された湯を混合弁１３に導く出湯路Ｗ２
と、混合弁１３により適宜温度調節された湯を一般給湯
栓Ｋ１及びホッパー１４に導く給湯路Ｗ４と、ホッパー
１４から前記気泡分離手段Ｄに渡る配管Ｗ６と、気泡分
離手段Ｄを通過した湯水を浴槽Ｂに対して供給する給湯
路Ｗ７とによって、給湯用熱交換器１にて加熱された湯
と給水路Ｗ１からの水とを混合弁１３にて適宜混合し
て、浴槽Ｂ又は一般給湯栓Ｋ１に対して供給する一般給
湯を行う経路が構成されている。

【００１９】給水路Ｗ１には、水道水を適宜供給する給
水栓Ｋ２と、給水路Ｗ１における給水温度Ｔｉを検出す
るサーミスターＳ２と、給水温度Ｔｉにより通水量Ｑが
自動調節される水温補正バルブ１６とが設けられてい
る。出湯路Ｗ２には、逆止弁１７が設けられている。混
合弁１３は、出湯路Ｗ２からの湯と給水路Ｗ１の分岐配
管Ｗ８からの水とを混合して、給湯路Ｗ４に供給するよ
うに構成されている。

【００２０】給湯路Ｗ４には、一般給湯栓Ｋ１と、断続
バルブ１８とが設けられている。一般給湯栓Ｋ１には、
一般給湯栓Ｋ１への給湯温度Ｔｘを検出するサーミスタ
ーＳ３と、一般給湯栓Ｋ１の開栓及び閉栓を検出する水
量センサＳ４とが備えられている。断続バルブ１８は、
浴槽Ｂに対する一般給湯を断続するとともに、後述する
断続バルブ１９と選択的に開栓されるように構成され、
ホッパー１４に対する湯水の供給を選択的に制御するよ
うに構成されている。

【００２１】ホッパー１４は、下流側からの浴槽水が給
湯用熱交換器１や給水路Ｗ１に向かって逆流することを
防止するために、給湯状態においては給湯経路を構成
し、且つ、非給湯状態においては大気開放されるように
構成されている。気泡分離手段Ｄは、一般給湯を行う経
路においては、配管Ｗ６からの湯を給湯路Ｗ７に単に中
継する機能を果たしている。

【００２２】給湯路Ｗ７は、浴槽Ｂに設けられている循
環路Ｗ５の途中部分に接続されている。給湯路Ｗ７に
は、浴槽Ｂへの給湯温度Ｔｘを検出するサーミスターＳ
５が備えられている。

【００２３】また、本炭酸給湯装置には、気液接触部Ｇ
を通過することによって給湯バーナ２の排気中に含まれ
る二酸化炭素が溶かし込まれ、且つ、高温の排気によっ
て温められた湯が浴槽Ｂに対して適宜供給される炭酸給
湯を行う経路が構成されている。炭酸給湯を行う経路
は、前記気泡分離手段Ｄにおいて合流する２つの経路で
構成されている。第一の経路は、給湯用熱交換器１にて
加熱された湯を前記ホッパー１４に導く出湯路Ｗ２から
の分岐配管Ｗ９と、ホッパー１４から前記気泡分離手段
Ｄに渡る配管Ｗ６とによって構成される、給湯用熱交換
器１にて加熱された湯を気泡分離手段Ｄに導く出湯経路
である。分岐配管Ｗ９には、前述のごとく、断続バルブ
１９が設けられている。

【００２４】第二の経路は、給水路Ｗ１からの水を気液
接触部Ｇに導く給水路Ｗ３と、気液接触部Ｇを通過した
湯水を水溜まり部Ｆに導く配管Ｗ１０と、水溜まり部Ｆ
から前記気泡分離手段Ｄに渡る配管Ｗ１１とによって構
成される、気液接触部Ｇを通過することによって二酸化
炭素が溶かし込まれた湯水を気泡分離手段Ｄに導く炭酸
経路である。そして、出湯経路からの湯と炭酸経路から
の湯水は、気泡分離手段Ｄにて混合されたのち、給湯路
Ｗ７及び循環路Ｗ５を通して浴槽Ｂに供給されるように
構成されている。

【００２５】給水路Ｗ３には、給水路Ｗ３を断続する断
続バルブ２０と、給水路Ｗ３の通水量を一定量に調節す
る定流量弁２１とが設けられている。

【００２６】気液接触部Ｇは、図２に示すように、金属
製のケーシングに、排気口２２が設けられ、且つ、給湯
部Ａの排気ダクト１２が接続されて、給湯バーナ２の排
気ガスが通過するように構成されている。また、気液接
触部Ｇには、給水路Ｗ３から供給される水を気液接触部
Ｇ内に噴射する噴射ノズル２３と、ステンレス線を立体
格子状に編組形成した充填層２４とが備えられている。
従って、気液接触部Ｇは、給湯バーナ２からの高温の排
気がケーシング内に導入され、排気ガスが排気口２２に
向かって通流する際に充填層２４を通り抜けて充填層２
４を高温に加熱し、且つ、噴射ノズル２３から噴射され
る水が排気ガス及び充填層２４と接触することによっ
て、水に対する排気中の二酸化炭素の溶かし込み、及
び、排熱の回収による熱交換が行われるように構成され
ている。

【００２７】水溜まり部Ｆは、図２に示すように、上流
側は、前記配管Ｗ１０によって気液接触部Ｇに接続さ
れ、且つ、下流側には、気泡分離手段Ｄに渡る配管Ｗ１
１が接続されている。配管Ｗ１１の出水口２５は、水溜
まり部Ｆの底部よりも高い位置に設けられており、出水
口２５から出水される際には水溜まり部Ｆ内に封水が溜
まるように構成され、もって、気液接触部Ｇから浴槽Ｂ
に至る経路を水封して、気液接触部Ｇ内の排気ガスが浴
槽Ｂに対して通流することを防止するように構成されて
いる。

【００２８】気泡分離手段Ｄは、図３に示すように、上
流側には、前記配管Ｗ１１及び前記配管Ｗ６が接続さ
れ、下流側には、給湯路Ｗ７が接続され、配管Ｗ６から
の湯と配管Ｗ１１からの湯水とを混合して浴槽Ｂに対し
て供給するように構成されているとともに、気泡分離室
２６と大気開放室２７とが設けられて、配管Ｗ１１から
の湯水に混入している排気ガスの気泡を分離して、大気
中に除去するように構成されている。

【００２９】気液接触部Ｇを通過した水には、噴射ノズ
ル２３から噴射され、排気ガスと接触しながら充填層２
４や底部に向かって勢い良く降り注ぐ際に、多量の排気
ガスの気泡が混入される。そのうち大きな気泡は気液接
触部Ｇや水溜まり部Ｆにおいて自然除去されるものの、
小さな気泡は流れに乗ったまま、配管Ｗ１１から気泡分
離手段Ｄに供給される。

【００３０】気泡分離室２６は、配管Ｗ１１から注ぎ込
む湯水を一時滞留させるチャンバー状に形成され、流速
の変化や乱流渦流などによって小さな気泡が大きな気泡
に成長する作用が生じるように構成されている。大気開
放室２７は、気泡分離室２６において分離された気泡を
集めて排出管２７ａから排出するように構成されてい
る。

【００３１】図１に示すように、送風ファン３，８、燃
料調節バルブ４，１０、燃料断続バルブ５，１１、循環
ポンプ９、混合弁１３、断続バルブ１８，１９，２０、
浴槽水位センサＳ１、サーミスターＳ２，Ｓ３，Ｓ５、
及び、水量センサＳ４は、制御部Ｈに接続されている。
制御部Ｈは、マイクロコンピュータを主要部として構成
され、内蔵されるソフト・ウェアによって、給湯手段の
各種動作を制御できるように構成されている。

【００３２】また、制御部Ｈには、リモコン装置Ｒが接
続されている。リモコン装置Ｒには、運転スイッチ２
８、目標給湯温度Ｔｓの設定及び変更を行う温度調節ツ
マミ２９、浴槽Ｂに対する一般給湯を行う一般湯張りス
イッチ３０、及び、浴槽Ｂに対する炭酸給湯を行う炭酸
湯張りスイッチ３１が備えられている。

【００３３】制御部Ｈは、リモコン装置Ｒの一般湯張り
スイッチ３０が操作されるか、又は、一般給湯栓Ｋ１が
開栓されるに伴って、一般給湯を実行するように構成さ
れている。一般湯張りスイッチ３０が操作されると、送
風ファン３が駆動され、断続バルブ１８が開かれ、燃料
断続バルブ５が開かれ、給湯バーナ２が点火され、燃料
調節バルブ４が調節されて最大能力で燃焼される。そし
て、給湯路Ｗ７に設けられたサーミスターＳ５の検出給
湯温度Ｔｘに基づいて、給湯温度Ｔｘが目標給湯温度Ｔ
ｓになるように、混合弁１３が制御される。また、一般
給湯栓Ｋ１が開栓された場合には、水量センサＳ４にて
開栓が検出され、開栓が検出されるに伴って送風ファン
３が駆動され、燃料断続バルブ５が開かれ、給湯バーナ
２が点火され、燃料調節バルブ４が調節されて最大能力
で燃焼される。そして、一般給湯栓Ｋ１に設けられたサ
ーミスターＳ３の検出給湯温度Ｔｘに基づいて、給湯温
度Ｔｘが目標給湯温度Ｔｓになるように、混合弁１３が
制御される。

【００３４】また、制御部Ｈは、炭酸湯張りスイッチ３
１が操作されるに伴って、炭酸給湯を実行するように構
成されている。炭酸湯張りスイッチ３１されると、送風
ファン３が駆動され、断続バルブ１９及び断続バルブ２
０が開かれ、燃料断続バルブ５が開かれ、給湯バーナ２
が点火される。このとき、給湯用熱交換器１への通水量
Ｑ、すなわち、気泡分離手段Ｄにて混合される湯の湯量
は、水温補正バルブ１６によってある程度一定に調節さ
れている。また、気液接触部Ｇを通過して気泡分離手段
Ｄにて混合される湯水の水量は、定流量弁２１によって
一定に調節されている。そして、給湯路Ｗ７に設けられ
たサーミスターＳ５の検出給湯温度Ｔｘに基づいて、給
湯温度Ｔｘが目標給湯温度Ｔｓになるように、燃料調節
バルブ４が制御される。

【００３５】さらに、制御部Ｈは、浴槽水位センサＳ１
の検出情報に基づいて、浴槽Ｂの排水栓１５が排水状態
のときに給湯路Ｗ７及び循環路Ｗ５を通して湯水の供給
を行う洗浄給湯を行うように構成されている。洗浄給湯
は、一般給湯又は炭酸給湯により浴槽Ｂへの給湯が行わ
れた後、浴槽Ｂの排水栓１５が排水状態であると判別さ
れるに伴って実行される。

【００３６】本実施例において、洗浄給湯は、給水路Ｗ
３の断続バルブ２０を約２０秒間全開にすることによっ
て、約４リットルの水を、気液接触部Ｇ、配管Ｗ１０、
水溜まり部Ｆ、配管Ｗ１１、気泡分離手段Ｄ、給湯路Ｗ
７、及び、循環路Ｗ５を通して浴槽Ｂに供給することに
よって行われる。

【００３７】図４には、浴槽水位センサＳ１の検出浴槽
水位Ｌの時間経過に伴う変化の一例が示されている。縦
軸の浴槽水位Ｌの０（ゼロ）位は、図１に示す、浴槽Ｂ
の循環路Ｗ５の上部接続口３２と下部接続口３３との中
間の高さに対応されている。グラフ線ｇ１は、浴槽水が
排水栓１５によって排水されたときの、検出浴槽水位Ｌ
の時間変化を示している。

【００３８】排水栓１５の排水状態の判別は、図５に示
すフローチャートに従って行われる。制御部Ｈは、ステ
ップ１に示すように、浴槽水位センサＳ１の検出浴槽水
位Ｌを監視しており、浴槽水位Ｌが設定水位としての水
位５センチメートルよりも低くなるに伴って、ステップ
２からステップ１２に示すように、水位の低下に要する
時間Ｔを、設定量としての１センチメートごとの水位低
下時間ｔ１，ｔ２，ｔ３，ｔ４，ｔ５として計測を行
い、ステップ１３に示すように、浴槽水位Ｌの低下速度
Ｖを算出する。低下速度Ｖの算出は、下記の式によって
行う。 Ｖ＝（ｔ１＋ｔ２＋ｔ３＋ｔ４＋ｔ５）／ｔ１ そして、ステップ１４に示すように、低下速度Ｖの値
が、基準速度としての３よりも小さい場合には、排水栓
１５は排水状態ではないと判別する。

【００３９】一方、低下速度Ｖの値が３よりも大きい場
合には、ステップ１５に示すように、ステップ１２にお
いて計測された時間ｔ５経過後に、ステップ１６に示す
ように、検出浴槽水位Ｌを検査し、浴槽水位Ｌが０位よ
りも低い場合には、ステップ１７に示すように、洗浄給
湯を実行する。なお、ステップ１６において浴槽水位Ｌ
が０位よりも高い場合には、排水栓１５は排水状態では
ないと判別する。

【００４０】図４に示すグラフ線ｇ１の場合、Ｖの値は
約５であって基準速度３よりも大きく、且つ、浴槽水位
Ｌが０位よりも低くなってから時間ｔ５経過後において
浴槽水位Ｌは０位よりも低いので、引き続き浴槽水位Ｌ
が低下していることが検出され、従って、排水栓１５が
排水状態であると判別されて、洗浄給湯が行われる。

【００４１】〔別実施例〕上述の実施例では、制御部Ｈ
は、浴槽水位Ｌの低下速度Ｖが基準速度よりも遅く、且
つ、引き続き浴槽水位Ｌの低下が検出されるときに、排
水栓１５が排水状態であると判別するように構成されて
いたが、低下速度Ｖが基準速度よりも遅い場合には、排
水状態であると判別するように構成されても良い。この
場合、図５に示すフローチャートのステップ１５及びス
テップ１６は、省略される。

【００４２】浴槽水位Ｌの低下速度Ｖを算出する方法
は、上述の式による方法に限らず、適宜変更できる。例
えば、ｔ１／ｃ１、ｔ２／ｃ１、ｔ３／ｃ１、ｔ４／ｃ
１、及び、ｔ５／ｃ１の値（ｃ１は、所定の定数値）が
全て設定範囲内の値であるときに、排水栓１５が排水状
態であると判別するように構成されても良い。また、
（ｔ１＋ｔ２＋ｔ３＋ｔ４＋ｔ５）／ｃ２の値（ｃ２
は、所定の定数値）が設定範囲内の値であるときに、排
水栓１５が排水状態であると判別するように構成されて
も良い。

【００４３】尚、特許請求の範囲の項に図面との対照を
便利にするために符号を記すが、該記入により本発明は
添付図面の構成に限定されるものではない。

【図面の簡単な説明】

【図１】炭酸給湯装置の全体構成を示す構成図

【図２】気液接触部及び水溜まり部の構造を示す断面図

【図３】気泡分離手段の構造を示す断面図

【図４】検出浴槽水位の時間経過に伴う変化を示すグラ
フ

【図５】洗浄給湯制御のフローチャート

【符号の説明】

Ａ 給湯手段 Ｂ 浴槽 Ｃ 風呂釜 Ｈ 給湯制御手段 Ｌ 検出浴槽水位 Ｓ１ 水位検出手段 Ｖ 低下速度 Ｗ５ 循環路 Ｗ７ 給湯路 ６ 熱交換器 １５ 排水栓

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 奥田 重信 大阪府大阪市中央区平野町四丁目１番２号 大阪瓦斯株式会社内 (72)発明者 山田 勝彦 大阪府大阪市港区南市岡１丁目１番52号 株式会社ハーマン内

Claims (3)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 浴槽水を循環させる循環路（Ｗ５）に介
   裝されている熱交換器（６）を加熱することによって前
   記浴槽水を加熱する風呂釜（Ｃ）が設けられている浴槽
   （Ｂ）に対して湯水を供給する給湯手段（Ａ）と、前記
   浴槽（Ｂ）の水位を検出する水位検出手段（Ｓ１）と、
   前記給湯手段（Ａ）の給湯動作を制御する給湯制御手段
   （Ｈ）とが設けられ、 前記給湯手段（Ａ）から供給される湯水を前記浴槽
   （Ｂ）に供給する給湯路（Ｗ７）が、前記循環路（Ｗ
   ５）に接続され、 前記給湯制御手段（Ｈ）が、前記水位検出手段（Ｓ１）
   の検出情報に基づいて、前記浴槽（Ｂ）の排水栓（１
   ５）が排水状態のときに前記給湯路（Ｗ７）及び前記循
   環路（Ｗ５）を通して湯水の供給を行う洗浄給湯を行う
   ように構成されている給湯装置であって、 前記給湯制御手段（Ｈ）が、前記水位検出手段（Ｓ１）
   の検出浴槽水位（Ｌ）の低下速度（Ｖ）が基準速度より
   も遅い場合に、前記排水栓（１５）が排水状態であると
   判別するように構成されている給湯装置。
2. 【請求項２】 前記給湯制御手段（Ｈ）が、前記検出浴
   槽水位（Ｌ）が設定水位から低下する低下速度（Ｖ）に
   基づいて前記排水状態を判別するように構成されている
   請求項１記載の給湯装置。
3. 【請求項３】 浴槽水を循環させる循環路（Ｗ５）に介
   裝されている熱交換器（６）を加熱することによって前
   記浴槽水を加熱する風呂釜（Ｃ）が設けられている浴槽
   （Ｂ）に対して湯水を供給する給湯手段（Ａ）と、前記
   浴槽（Ｂ）の水位を検出する水位検出手段（Ｓ１）と、
   前記給湯手段（Ａ）の給湯動作を制御する給湯制御手段
   （Ｈ）とが設けられ、 前記給湯手段（Ａ）から供給される湯水を前記浴槽
   （Ｂ）に供給する給湯路（Ｗ７）が、前記循環路（Ｗ
   ５）に接続され、 前記給湯制御手段（Ｈ）が、前記水位検出手段（Ｓ１）
   の検出情報に基づいて、前記浴槽（Ｂ）の排水栓（１
   ５）が排水状態のときに前記給湯路（Ｗ７）及び前記循
   環路（Ｗ５）を通して湯水の供給を行う洗浄給湯を行う
   ように構成されている給湯装置であって、 前記給湯制御手段（Ｈ）が、前記水位検出手段（Ｓ１）
   の前記検出浴槽水位（Ｌ）が設定水位から設定量低下す
   るまでの低下速度（Ｖ）が基準速度よりも遅く、且つ、
   引き続き前記検出浴槽水位（Ｌ）の低下が検出されると
   きに、前記排水状態であると判別するように構成されて
   いる給湯装置。