JPH076057B2 - マスキング用ホルダー - Google Patents
マスキング用ホルダーInfo
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- JPH076057B2 JPH076057B2 JP63139826A JP13982688A JPH076057B2 JP H076057 B2 JPH076057 B2 JP H076057B2 JP 63139826 A JP63139826 A JP 63139826A JP 13982688 A JP13982688 A JP 13982688A JP H076057 B2 JPH076057 B2 JP H076057B2
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- Japan
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- mask
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- samples
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- masking
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- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
- C23C14/22—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
- C23C14/50—Substrate holders
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
- C23C14/04—Coating on selected surface areas, e.g. using masks
- C23C14/042—Coating on selected surface areas, e.g. using masks using masks
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- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Mechanical Engineering (AREA)
- Metallurgy (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Physical Vapour Deposition (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は、スパッタリングやイオンプレーティング、真
空蒸着等の成膜技術において、試料を固定してマスキン
グするためのマスキング用ホルダーに関する。
空蒸着等の成膜技術において、試料を固定してマスキン
グするためのマスキング用ホルダーに関する。
小型試料の特定部分に電極部や抵抗膜等の金属薄膜を形
成する場合には、非着膜部分をマスクで覆ってマスキン
グし、非着膜部分に着膜しないようにする必要がある。
この場合、スパッタリングやイオンプレーティング等の
回り込み着膜性の大きな薄膜形成技術では、これらの試
料とマスクの密着性が悪い場合には、回り込み着膜によ
ってマスクと試料との間の隙間に蒸着粒子が入り込み、
不要な部分にまで膜が形成されて膜精度が悪くなる。
成する場合には、非着膜部分をマスクで覆ってマスキン
グし、非着膜部分に着膜しないようにする必要がある。
この場合、スパッタリングやイオンプレーティング等の
回り込み着膜性の大きな薄膜形成技術では、これらの試
料とマスクの密着性が悪い場合には、回り込み着膜によ
ってマスクと試料との間の隙間に蒸着粒子が入り込み、
不要な部分にまで膜が形成されて膜精度が悪くなる。
このような蒸着粒子の回り込みを防止するためには、試
料を押圧してマスクに密着させる必要がある。例えば特
公昭48-2114号公報には、被蒸着物の裏側にリン青銅か
らなるクッション板を配置し、金属棒とボルトによりク
ッション板の中央部を支え、クッション板の弾性によっ
て被蒸着物とマスクを密着させるマスキング装置が開示
されている。
料を押圧してマスクに密着させる必要がある。例えば特
公昭48-2114号公報には、被蒸着物の裏側にリン青銅か
らなるクッション板を配置し、金属棒とボルトによりク
ッション板の中央部を支え、クッション板の弾性によっ
て被蒸着物とマスクを密着させるマスキング装置が開示
されている。
しかしながら、このようなマスキング装置にあっては、
そのクッション板は一枚の金属板であるから、外力によ
って全体として反るように屈曲するに過ぎず、各部が柔
軟に変形することができない。このため、複数個の小型
試料を同時にマスキングする場合、複数個の試料全部に
マスクを密着させることが難しかった。特に、試料の厚
みにバラツキがあると、隣接する試料に妨げられてクッ
ション板の弾性力が試料とマスクとの間に加わらない場
合があり、個々の試料をマスクに密着させることが困難
であった。
そのクッション板は一枚の金属板であるから、外力によ
って全体として反るように屈曲するに過ぎず、各部が柔
軟に変形することができない。このため、複数個の小型
試料を同時にマスキングする場合、複数個の試料全部に
マスクを密着させることが難しかった。特に、試料の厚
みにバラツキがあると、隣接する試料に妨げられてクッ
ション板の弾性力が試料とマスクとの間に加わらない場
合があり、個々の試料をマスクに密着させることが困難
であった。
複数個の試料をマスクに密着させるためには、例えば各
試料毎にスプリングを設け、各スプリングで試料を押圧
してマスクに密着させる構造とすることができる。しか
し、スプリングによって試料とマスクを密着させる構造
では、多数個の小形チップ試料を同時にセットされる一
般的なマスキング用ホルダーの場合、１個の試料毎にス
プリングが必要で構造が複雑になり過ぎる。また、各ス
プリングを圧縮しながら試料をマスキング用ホルダー内
に納め、マスクで押さえねばならず、試料のセットも困
難であった。加えて、スプリングの場合には、焼きなま
しによる弾性の劣化という問題があった。
試料毎にスプリングを設け、各スプリングで試料を押圧
してマスクに密着させる構造とすることができる。しか
し、スプリングによって試料とマスクを密着させる構造
では、多数個の小形チップ試料を同時にセットされる一
般的なマスキング用ホルダーの場合、１個の試料毎にス
プリングが必要で構造が複雑になり過ぎる。また、各ス
プリングを圧縮しながら試料をマスキング用ホルダー内
に納め、マスクで押さえねばならず、試料のセットも困
難であった。加えて、スプリングの場合には、焼きなま
しによる弾性の劣化という問題があった。
また、ゴム材の弾性を利用して複数個の試料をマスクに
密着させる方法も試みたが、ゴム材質では真空中におい
て200℃で加熱が可能なものは存在しておらず、スパッ
タリング等の環境温度に耐え得なかった。しかも、一般
に有機物であるゴム材は、高温ではガスの放出があり、
ゴム材から放出されたガスのために試料と成膜された膜
との間の固着力が低下するという問題があった。
密着させる方法も試みたが、ゴム材質では真空中におい
て200℃で加熱が可能なものは存在しておらず、スパッ
タリング等の環境温度に耐え得なかった。しかも、一般
に有機物であるゴム材は、高温ではガスの放出があり、
ゴム材から放出されたガスのために試料と成膜された膜
との間の固着力が低下するという問題があった。
本発明は叙上の背景技術の欠点に鑑みてなされたもので
あって、その目的とするところは、複数個の試料をマス
クと密着させることができ、スパッタリング等の薄膜形
成工程の環境温度にも耐える耐熱性を有し、しかも、構
造の簡単なマスキング用ホルダーを提供することのあ
る。
あって、その目的とするところは、複数個の試料をマス
クと密着させることができ、スパッタリング等の薄膜形
成工程の環境温度にも耐える耐熱性を有し、しかも、構
造の簡単なマスキング用ホルダーを提供することのあ
る。
本発明の第１のマスキング用ホルダーは、複数個の試料
を保持させるための試料保持スペースと、試料の非着膜
部を覆うマスクと、弾性部材と、試料保持スペース内に
納めた複数個の試料及びマスクを、前記弾性部材に圧縮
応力を発生させた状態で互いに密着させて保形するため
の保形部材とを備えたマスキング用ホルダーにおいて、
金属やセラミックス等の耐熱性繊維によって形成された
フェルト材からなる前記弾性部材を、前記試料の保持ス
ペースの前記マスクと反対側に配設し、当該弾性部材の
弾性力によって、試料保持スペース内に納めた複数個の
試料を前記マスクに密着させるようにしたことを特徴と
している。
を保持させるための試料保持スペースと、試料の非着膜
部を覆うマスクと、弾性部材と、試料保持スペース内に
納めた複数個の試料及びマスクを、前記弾性部材に圧縮
応力を発生させた状態で互いに密着させて保形するため
の保形部材とを備えたマスキング用ホルダーにおいて、
金属やセラミックス等の耐熱性繊維によって形成された
フェルト材からなる前記弾性部材を、前記試料の保持ス
ペースの前記マスクと反対側に配設し、当該弾性部材の
弾性力によって、試料保持スペース内に納めた複数個の
試料を前記マスクに密着させるようにしたことを特徴と
している。
また、本発明の第２のマスキング用ホルダーは、複数個
の試料を保持させるための試料保持スペースと、試料の
非着膜部を覆うマスクと、弾性部材と、試料保持スペー
ス内に納めた複数個の試料及びマスクを、前記弾性部材
に圧縮応力を発生させた状態で互いに密着させて保形す
るための保形部材とを備えたマスキング用ホルダーにお
いて、前記マスキングは可撓性を有し、金属やセラミッ
ク等の耐熱性繊維によって形成されたフェルト材からな
る前記弾性部材を、前記マスクの前記試料保持スペース
と反対側に配設し、当該弾性部材の弾性力によって、前
記マスクを試料保持スペース内に納めた複数個の試料に
密着させるようにしたことを特徴としている。
の試料を保持させるための試料保持スペースと、試料の
非着膜部を覆うマスクと、弾性部材と、試料保持スペー
ス内に納めた複数個の試料及びマスクを、前記弾性部材
に圧縮応力を発生させた状態で互いに密着させて保形す
るための保形部材とを備えたマスキング用ホルダーにお
いて、前記マスキングは可撓性を有し、金属やセラミッ
ク等の耐熱性繊維によって形成されたフェルト材からな
る前記弾性部材を、前記マスクの前記試料保持スペース
と反対側に配設し、当該弾性部材の弾性力によって、前
記マスクを試料保持スペース内に納めた複数個の試料に
密着させるようにしたことを特徴としている。
本発明にあって、試料とマスクとを密着させるための弾
性部材としてフェルト材を用いているので、弾性部材の
各部が柔軟に変形しながら複数個の各試料を個々にマス
クに密着させることができる。例えば、試料の厚み等に
バラツキがあるような場合でも、隣接する試料に妨げら
れることなく、個々の試料をマスクに密着させることが
できる。従って、複数個の試料に一度に蒸着膜を着膜さ
せる場合でも、個々の試料について蒸着粒子の回り込み
を防止でき、成膜精度を高めることができる。
性部材としてフェルト材を用いているので、弾性部材の
各部が柔軟に変形しながら複数個の各試料を個々にマス
クに密着させることができる。例えば、試料の厚み等に
バラツキがあるような場合でも、隣接する試料に妨げら
れることなく、個々の試料をマスクに密着させることが
できる。従って、複数個の試料に一度に蒸着膜を着膜さ
せる場合でも、個々の試料について蒸着粒子の回り込み
を防止でき、成膜精度を高めることができる。
しかも、弾性部材として用いられるフェルト材は金属や
セラミック等の耐熱性繊維によって形成されているの
で、高い耐熱性を有し、高温環境下で行われるスパッタ
リング等の薄膜形成工程においてもフェルト材が熱で損
なわれたり、スプリングのように焼きなまされたりする
こともない。また、金属やセラミック等のフェルト材
は、ゴム材のように加熱されてもガス等を放出すること
がない。
セラミック等の耐熱性繊維によって形成されているの
で、高い耐熱性を有し、高温環境下で行われるスパッタ
リング等の薄膜形成工程においてもフェルト材が熱で損
なわれたり、スプリングのように焼きなまされたりする
こともない。また、金属やセラミック等のフェルト材
は、ゴム材のように加熱されてもガス等を放出すること
がない。
また、フェルト材は自由な形状に加工することができ、
マスキング用ホルダー内へも自由な位置へ容易に組み込
むことができ、マスキング用ホルダーの構造を簡単にす
ることができる。
マスキング用ホルダー内へも自由な位置へ容易に組み込
むことができ、マスキング用ホルダーの構造を簡単にす
ることができる。
本発明のマスキング用ホルダーのうち、第１のマスキン
グ用ホルダーは、弾性部材によって試料をマスクに密着
させるものであり、第２のマスキング用ホルダーは、弾
性部材によってマスクを試料に密着させるものである。
このうちでも、特に、第２のマスキング用ホルダーは、
フェルト材の表面に可撓性を有するマスクを配している
ので、フェルト材の弾性力によってマスクが試料表面に
沿うように変形し、マスクが試料表面に密着する。特
に、表面に曲面や傾斜面等を有するような試料の場合で
も、マスクを試料の曲面や傾斜面等に密着させることが
でき、マスクと試料との間に蒸着粒子が回りこむのを防
止できる。
グ用ホルダーは、弾性部材によって試料をマスクに密着
させるものであり、第２のマスキング用ホルダーは、弾
性部材によってマスクを試料に密着させるものである。
このうちでも、特に、第２のマスキング用ホルダーは、
フェルト材の表面に可撓性を有するマスクを配している
ので、フェルト材の弾性力によってマスクが試料表面に
沿うように変形し、マスクが試料表面に密着する。特
に、表面に曲面や傾斜面等を有するような試料の場合で
も、マスクを試料の曲面や傾斜面等に密着させることが
でき、マスクと試料との間に蒸着粒子が回りこむのを防
止できる。
以下、本発明の実施例を添付図に基づいて詳述する。
第１図に示すものは、本発明の一実施例であり、例えば
試料５の上面中央部にのみ膜を形成するためのマスキン
グ用ホルダーＡである。マスキング用ホルダーＡは、ス
テンレス板製のバックプレート７の上にステンレス製の
フェルト材６を重ね、その上にステンレス板製のスペー
サ８を重ね、さらにその上にステンレス板製のマスク１
を重ね、これらの縁部に貫通させたボルト９とナット10
等の連結具によりこれらを一体に連結すると共にマスク
１やスペーサ８等を互いに位置決めさせたものである。
従って、この実施例では、保形部材は、バックプレート
７、スペーサ８、ボルト９及びナット10によって構成さ
れている。ここで、バックプレート７は、全体を平らに
保持するためのものである。フェルト材６は、絡んだ繊
維状のステンレス極細線を圧縮してシート状に形成した
ものであり、圧縮に対して適度の変形性を有している。
また、スペーサ８には、試料５の形状に合わせて複数個
の開口（試料保持スペース）11が形成されており、この
開口11内に試料５を納めることによって試料５を必要精
度内で位置決めできるようになっている。スペーサ８の
上に重ねられるマクス１は、試料５の上面を覆っている
が、試料５の成膜形状に合わせてマスク１には成膜用パ
ターン12が開口されている。
試料５の上面中央部にのみ膜を形成するためのマスキン
グ用ホルダーＡである。マスキング用ホルダーＡは、ス
テンレス板製のバックプレート７の上にステンレス製の
フェルト材６を重ね、その上にステンレス板製のスペー
サ８を重ね、さらにその上にステンレス板製のマスク１
を重ね、これらの縁部に貫通させたボルト９とナット10
等の連結具によりこれらを一体に連結すると共にマスク
１やスペーサ８等を互いに位置決めさせたものである。
従って、この実施例では、保形部材は、バックプレート
７、スペーサ８、ボルト９及びナット10によって構成さ
れている。ここで、バックプレート７は、全体を平らに
保持するためのものである。フェルト材６は、絡んだ繊
維状のステンレス極細線を圧縮してシート状に形成した
ものであり、圧縮に対して適度の変形性を有している。
また、スペーサ８には、試料５の形状に合わせて複数個
の開口（試料保持スペース）11が形成されており、この
開口11内に試料５を納めることによって試料５を必要精
度内で位置決めできるようになっている。スペーサ８の
上に重ねられるマクス１は、試料５の上面を覆っている
が、試料５の成膜形状に合わせてマスク１には成膜用パ
ターン12が開口されている。
しかして、スペーサ８の開口11内に試料５を納め、その
上にマスク１を重ね、ボルト９とナット10等の連結具を
締め付けて第１図に示すようにマスキング用ホルダーＡ
内に試料５が位置決め状態で保持される。この時、連結
具の締付けによりフェルト材６は圧縮状態となっている
ので、試料５はフェルト材６の変形による復帰力あるい
は反発応力によって上方へ押圧される。そして、試料５
は面状のフェルト材６によって全体を押圧されるので、
試料５の上面がマスク１と平行になるように押圧され、
押圧された試料５はマスク１に密着させられるのであ
る。このマスキング用ホルダーＡは、例えばスパッタリ
ング装置内にセットされ、スパッタリングによって試料
５の表面に成膜される。この時、試料５はマスク１にぴ
ったりと密着しているので、蒸着粒子がマスク１の下に
回り込むことがなく、成膜用パターン12と同じパターン
の電極部や抵抗膜などが精密に成膜されるのである。な
お、本実施例において、フェルト材６とスペーサ８との
間にアルミニウムフィルム等のシートを挿入しても良
い。
上にマスク１を重ね、ボルト９とナット10等の連結具を
締め付けて第１図に示すようにマスキング用ホルダーＡ
内に試料５が位置決め状態で保持される。この時、連結
具の締付けによりフェルト材６は圧縮状態となっている
ので、試料５はフェルト材６の変形による復帰力あるい
は反発応力によって上方へ押圧される。そして、試料５
は面状のフェルト材６によって全体を押圧されるので、
試料５の上面がマスク１と平行になるように押圧され、
押圧された試料５はマスク１に密着させられるのであ
る。このマスキング用ホルダーＡは、例えばスパッタリ
ング装置内にセットされ、スパッタリングによって試料
５の表面に成膜される。この時、試料５はマスク１にぴ
ったりと密着しているので、蒸着粒子がマスク１の下に
回り込むことがなく、成膜用パターン12と同じパターン
の電極部や抵抗膜などが精密に成膜されるのである。な
お、本実施例において、フェルト材６とスペーサ８との
間にアルミニウムフィルム等のシートを挿入しても良
い。
次に、上記マスキング用ホルダーＡを用いて実験した結
果を述べる。上記マスキング用ホルダーＡ内に試料５と
して3mm×2.5mm×1mmのアルミナチップを納め、このマ
スキング用ホルダーＡをスパッタリング装置内にセット
した。スパッタリング装置内のアルゴン雰囲気を２×10
-3torrに設定し、Ni50％−Cr50％のターゲットから放出
された蒸着粒子を800Åの厚みに着膜させ、アルミナチ
ップの表面にNiCr抵抗膜を得た。この時のマスク１の成
膜用パターン12の大きさは、2.00mm×2.00mmであり、得
られた抵抗膜の大きさは平均値が2.018mm×2.018mmであ
り、ばらつきは９μと小さく、高い精度をもって抵抗膜
を形成することができた。一方、フェルト材６を挿入し
ない場合には、抵抗膜の大きさの平均値は2.248mm×2.2
48mmであり、ばらつきは133μと大きかった。
果を述べる。上記マスキング用ホルダーＡ内に試料５と
して3mm×2.5mm×1mmのアルミナチップを納め、このマ
スキング用ホルダーＡをスパッタリング装置内にセット
した。スパッタリング装置内のアルゴン雰囲気を２×10
-3torrに設定し、Ni50％−Cr50％のターゲットから放出
された蒸着粒子を800Åの厚みに着膜させ、アルミナチ
ップの表面にNiCr抵抗膜を得た。この時のマスク１の成
膜用パターン12の大きさは、2.00mm×2.00mmであり、得
られた抵抗膜の大きさは平均値が2.018mm×2.018mmであ
り、ばらつきは９μと小さく、高い精度をもって抵抗膜
を形成することができた。一方、フェルト材６を挿入し
ない場合には、抵抗膜の大きさの平均値は2.248mm×2.2
48mmであり、ばらつきは133μと大きかった。
第２図に示すものは本発明の他例であり、試料５の上面
端部から両側面にかけて略Ｌ字状に成膜するためのマス
キング用ホルダーＢであり、試料５は一旦成膜した後、
裏向けて再び成膜されることによって両端部に略コ字状
に成膜される。このマスキング用部材は、ステンレス板
製のバックプレート７の上にステンレス製のフェルト材
６をシート状に敷き、その上にアルミニウムフィルム等
の可撓性を有するシート状のマスク２を重ね、シート状
のマスク２の上にステンレス板製のスペーサ８を重ね、
スペーサ８の上にステンレス板製のマスク３を重ね、ボ
ルト９とナット10等の連結具により一体に連結したもの
である。このマスキング用ホルダーＢでは、スペーサ８
の開口11内に納められた試料５の上面中央部をマスク３
により覆うようになっており、また試料５の両側面と開
口11の内周との間には空間18が形成されているので、マ
スク３の成膜用パターン12を介して試料５の上面両端部
と側面とが露出させられている。
端部から両側面にかけて略Ｌ字状に成膜するためのマス
キング用ホルダーＢであり、試料５は一旦成膜した後、
裏向けて再び成膜されることによって両端部に略コ字状
に成膜される。このマスキング用部材は、ステンレス板
製のバックプレート７の上にステンレス製のフェルト材
６をシート状に敷き、その上にアルミニウムフィルム等
の可撓性を有するシート状のマスク２を重ね、シート状
のマスク２の上にステンレス板製のスペーサ８を重ね、
スペーサ８の上にステンレス板製のマスク３を重ね、ボ
ルト９とナット10等の連結具により一体に連結したもの
である。このマスキング用ホルダーＢでは、スペーサ８
の開口11内に納められた試料５の上面中央部をマスク３
により覆うようになっており、また試料５の両側面と開
口11の内周との間には空間18が形成されているので、マ
スク３の成膜用パターン12を介して試料５の上面両端部
と側面とが露出させられている。
しかして、試料５を納めたマスキング用ホルダーＢをス
パッタリング装置などに納めて成膜処理を行うと、露出
している試料５上面の両端部に蒸着粒子が着膜し、また
成膜用パターン12を通過した蒸着粒子が試料５の両側面
に着膜し、試料５の表面に電極部等の膜19が形成され
る。このとき、試料５はフェルト材６の変形性によって
上のマスク３に押圧されて密着しているので、試料５上
面で蒸着粒子がマスク３の下に回り込むことがない。ま
た、試料５の角部は着膜を滑らかにすると共に試料５同
志が衝突したときの角部の研磨、いわゆるチッピングを
防止するため、一般にアールを施されているので、これ
まではこの丸みを帯びた角部をマスクに密着させるのは
困難であり、蒸着粒子が試料５の下面に回り込む恐れが
あったが、本実施例ではフェルト材６の上にアルミニウ
ムフィルム等の可撓性を有するマスク２を敷いてあるの
で、第３図に示すように、アルミニウムフィルム等のマ
スク２がフェルト材６の変形にもとづく復帰力で押し上
げられて試料５の丸みを帯びた角部に沿って密着し、こ
れによって蒸着粒子の試料５下面への回り込みが防止さ
れる。下側のマスク２としては、上記のアルミニウムフ
ィルムに限らず、他の可撓性を有する金属フィルムや、
ポリテトラフルオロエチレン（PTFE）等の高耐熱性を有
するふっ素系樹脂のフィルムなどでも良い。特に、この
マスク２をエッチング液に対して耐食性のある材料で形
成すれば、マスク２に付着した蒸着粒子をエッチングに
よって除去でき、繰り返し使用することができる。
パッタリング装置などに納めて成膜処理を行うと、露出
している試料５上面の両端部に蒸着粒子が着膜し、また
成膜用パターン12を通過した蒸着粒子が試料５の両側面
に着膜し、試料５の表面に電極部等の膜19が形成され
る。このとき、試料５はフェルト材６の変形性によって
上のマスク３に押圧されて密着しているので、試料５上
面で蒸着粒子がマスク３の下に回り込むことがない。ま
た、試料５の角部は着膜を滑らかにすると共に試料５同
志が衝突したときの角部の研磨、いわゆるチッピングを
防止するため、一般にアールを施されているので、これ
まではこの丸みを帯びた角部をマスクに密着させるのは
困難であり、蒸着粒子が試料５の下面に回り込む恐れが
あったが、本実施例ではフェルト材６の上にアルミニウ
ムフィルム等の可撓性を有するマスク２を敷いてあるの
で、第３図に示すように、アルミニウムフィルム等のマ
スク２がフェルト材６の変形にもとづく復帰力で押し上
げられて試料５の丸みを帯びた角部に沿って密着し、こ
れによって蒸着粒子の試料５下面への回り込みが防止さ
れる。下側のマスク２としては、上記のアルミニウムフ
ィルムに限らず、他の可撓性を有する金属フィルムや、
ポリテトラフルオロエチレン（PTFE）等の高耐熱性を有
するふっ素系樹脂のフィルムなどでも良い。特に、この
マスク２をエッチング液に対して耐食性のある材料で形
成すれば、マスク２に付着した蒸着粒子をエッチングに
よって除去でき、繰り返し使用することができる。
第４図に本発明の更に他例を示す。これは、試料５の一
方側部（図では上部）に略コ字状に電極部等の膜19を成
膜するためのマスキング用ホルダーＣである。このマス
キング用ホルダーＣは、ホルダー本体13の上面に設けら
れたステンレス製の押さえ板14間に一対のマスク４と、
マスク４間に挟まれた試料５をセットし、押さえ板14に
よって両側からマスク４と試料５を挟み込むようにした
ものである。即ち、ホルダー本体13の両側縁に設けられ
た立ち上がり部15の雌ねじ孔16にはねじ具17が挿通させ
られており、このねじ具17を回すことによって押さえ板
14を移動させることができ、この押さえ板14間に試料５
とマスク４をセットし、押さえ板14によってマスク４を
両側から押圧することによってマスク４を試料５に密着
させるようになっている。従って、この実施例では、保
形部材は、ホルダー本体13、押さえ板14及びねじ具17に
よって構成されており、左右のマスク４ないし押さえ板
14間に試料保持スペースが形成されている。この試料保
持スペースは長さ方向（第４図の紙面の奥行方向）に延
びており、この方向に沿って複数個の試料５をセットで
きるようになっている。また、マスク４は、アルミニウ
ムフィルム等の可撓性を有するシート材によって筒状な
いし袋状に形成されており、内部にステンレス製のフェ
ルト材６が充填されている。したがって、試料５はマス
ク４間で露出している側部（図では上部）に沿って略コ
字状に成膜されるのである。しかも、本実施例において
は、マスク４内にフェルト材６を充填してあるので、押
さえ板14によって押圧すると内部のフェルト材６が圧縮
され、圧縮されたフェルト材６の変形にもとづく復帰力
によってマスク４が試料５に密着させられ、マスク４の
密着性が向上する。特に、第５図に示すようにフェルト
材６によってマスク４が内部から押圧されることによっ
てマスク４が試料５と密着している部分と離れている部
分との境界がクッキリと得られ、スパッタリング等によ
って成膜した場合に蒸着粒子の侵入がなくて端縁のクッ
キリとした膜19が得られる。なお、このマスク４も、ア
ルミニウムフィルム以外の可撓性を有する金属フィルム
や、高耐熱性を有するふっ素系樹脂フィルム等でもよ
く、特に耐食性のあるものが好ましい。
方側部（図では上部）に略コ字状に電極部等の膜19を成
膜するためのマスキング用ホルダーＣである。このマス
キング用ホルダーＣは、ホルダー本体13の上面に設けら
れたステンレス製の押さえ板14間に一対のマスク４と、
マスク４間に挟まれた試料５をセットし、押さえ板14に
よって両側からマスク４と試料５を挟み込むようにした
ものである。即ち、ホルダー本体13の両側縁に設けられ
た立ち上がり部15の雌ねじ孔16にはねじ具17が挿通させ
られており、このねじ具17を回すことによって押さえ板
14を移動させることができ、この押さえ板14間に試料５
とマスク４をセットし、押さえ板14によってマスク４を
両側から押圧することによってマスク４を試料５に密着
させるようになっている。従って、この実施例では、保
形部材は、ホルダー本体13、押さえ板14及びねじ具17に
よって構成されており、左右のマスク４ないし押さえ板
14間に試料保持スペースが形成されている。この試料保
持スペースは長さ方向（第４図の紙面の奥行方向）に延
びており、この方向に沿って複数個の試料５をセットで
きるようになっている。また、マスク４は、アルミニウ
ムフィルム等の可撓性を有するシート材によって筒状な
いし袋状に形成されており、内部にステンレス製のフェ
ルト材６が充填されている。したがって、試料５はマス
ク４間で露出している側部（図では上部）に沿って略コ
字状に成膜されるのである。しかも、本実施例において
は、マスク４内にフェルト材６を充填してあるので、押
さえ板14によって押圧すると内部のフェルト材６が圧縮
され、圧縮されたフェルト材６の変形にもとづく復帰力
によってマスク４が試料５に密着させられ、マスク４の
密着性が向上する。特に、第５図に示すようにフェルト
材６によってマスク４が内部から押圧されることによっ
てマスク４が試料５と密着している部分と離れている部
分との境界がクッキリと得られ、スパッタリング等によ
って成膜した場合に蒸着粒子の侵入がなくて端縁のクッ
キリとした膜19が得られる。なお、このマスク４も、ア
ルミニウムフィルム以外の可撓性を有する金属フィルム
や、高耐熱性を有するふっ素系樹脂フィルム等でもよ
く、特に耐食性のあるものが好ましい。
上記各実施例では、フェルト材の素材としてステンレス
極細線を圧縮したものを説明したが，フェルト材の素材
としては、これに限るものでなく、セラミックス繊維や
ステンレス以外の金属細線等の耐熱性繊維を圧縮したも
のなどでも差し支えない。
極細線を圧縮したものを説明したが，フェルト材の素材
としては、これに限るものでなく、セラミックス繊維や
ステンレス以外の金属細線等の耐熱性繊維を圧縮したも
のなどでも差し支えない。
本発明のマスキング用ホルダーによれば、フェルト材の
各部が柔軟に変形しながら複数個の各試料を個々にマス
クに密着させるので、例えば試料の厚み等にバラツキが
あるような場合でも、隣接する試料に妨げられることな
く、個々の試料をマスクに密着させることができる。従
って、複数個の試料に一度に蒸着膜を着膜させる場合で
も、個々の試料について蒸着粒子の回り込みを防止で
き、精度の高い薄膜を形成することができるという利点
がある。
各部が柔軟に変形しながら複数個の各試料を個々にマス
クに密着させるので、例えば試料の厚み等にバラツキが
あるような場合でも、隣接する試料に妨げられることな
く、個々の試料をマスクに密着させることができる。従
って、複数個の試料に一度に蒸着膜を着膜させる場合で
も、個々の試料について蒸着粒子の回り込みを防止で
き、精度の高い薄膜を形成することができるという利点
がある。
しかも、弾性部材として用いられるフェルト材は金属や
セラミックス等の耐熱性繊維を圧縮して形成されたもの
であるので、高い耐熱性を有する。従って、スパッタリ
ングやイオンプレーティングなどの高温環境下でもフェ
ルト材が熱で損なわれたり、スプリングのように焼きな
まされたりすることもなく、耐久性に優れている。ま
た、金属やセラミックス等のフェルト材は、ゴム材のよ
うに加熱されてもガス等を放出することがない。
セラミックス等の耐熱性繊維を圧縮して形成されたもの
であるので、高い耐熱性を有する。従って、スパッタリ
ングやイオンプレーティングなどの高温環境下でもフェ
ルト材が熱で損なわれたり、スプリングのように焼きな
まされたりすることもなく、耐久性に優れている。ま
た、金属やセラミックス等のフェルト材は、ゴム材のよ
うに加熱されてもガス等を放出することがない。
また、フェルト材は自由な形状に加工することができ、
マスキング用ホルダー内へも自由な位置へ容易に組み込
むことができ、マスキング用ホルダーの構造を簡単にす
ることができる。
マスキング用ホルダー内へも自由な位置へ容易に組み込
むことができ、マスキング用ホルダーの構造を簡単にす
ることができる。
さらに、請求項２に記載のマスキング用ホルダーにあっ
ては、フェルト材の表面に可撓性を有するマスクを配し
ているので、フェルト材の弾性力によってマスクが試料
表面に沿うように変形し、マスクが試料表面に密着す
る。特に、表面に曲面や傾斜面等を有するような試料の
場合でも、マスクを試料の曲面や傾斜面等に密着させる
ことができ、マスクと試料との間に蒸着粒子が回りこむ
のを防止できる。
ては、フェルト材の表面に可撓性を有するマスクを配し
ているので、フェルト材の弾性力によってマスクが試料
表面に沿うように変形し、マスクが試料表面に密着す
る。特に、表面に曲面や傾斜面等を有するような試料の
場合でも、マスクを試料の曲面や傾斜面等に密着させる
ことができ、マスクと試料との間に蒸着粒子が回りこむ
のを防止できる。
第１図は本発明の一実施例を示す断面図、第２図は本発
明の他の実施例を示す断面図、第３図は第２図の部分拡
大図、第４図は本発明の更に他の実施例を示す一部破断
した正面図、第５図は同上の作用説明のための部分拡大
図である。 1,2,3,4……マスク ５……試料 ６……フェルト材
明の他の実施例を示す断面図、第３図は第２図の部分拡
大図、第４図は本発明の更に他の実施例を示す一部破断
した正面図、第５図は同上の作用説明のための部分拡大
図である。 1,2,3,4……マスク ５……試料 ６……フェルト材
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 後 外茂昭 京都府長岡京市天神２丁目26番10号 株式 会社村田製作所内 (72)発明者 中川 卓二 京都府長岡京市天神２丁目26番10号 株式 会社村田製作所内 (72)発明者 谷口 政明 京都府長岡京市天神２丁目26番10号 株式 会社村田製作所内 (56)参考文献 特開 昭47−29708（ＪＰ，Ａ) 特公 昭48−2114（ＪＰ，Ｂ２) 特公 昭55−50520（ＪＰ，Ｂ２) 実公 昭37−473（ＪＰ，Ｙ１) 実公 昭59−12455（ＪＰ，Ｙ２) 実公 昭51−27244（ＪＰ，Ｙ２)
Claims (2)
- 【請求項１】複数個の試料を保持させるための試料保持
スペースと、試料の非着膜部を覆うマスクと、弾性部材
と、試料保持スペース内に納めた複数個の試料及びマス
クを、前記弾性部材に圧縮応力を発生させた状態で互い
に密着させて保形するための保形部材とを備えたマスキ
ング用ホルダーにおいて、 金属やセラミック等の耐熱性繊維によって形成されたフ
ェルト材からなる前記弾性部材を、前記試料の保持スペ
ースの前記マスクと反対側に配設し、当該弾性部材の弾
性力によって、試料保持スペース内に納めた複数個の試
料を前記マスクに密着させるようにしたことを特徴とす
るマスキング用ホルダー。 - 【請求項２】複数個の試料を保持させるための試料保持
スペースと、試料の非着膜部を覆うマスクと、弾性部材
と、試料保持スペース内に納めた複数個の試料及びマス
クを、前記弾性部材に圧縮応力を発生させた状態で互い
に密着させて保形するための保形部材とを備えたマスキ
ング用ホルダーにおいて、 前記マスクは可撓性を有し、金属やセラミック等の耐熱
性繊維によって形成されたフェルト材からなる前記弾性
部材を、前記マスクの前記試料保持スペースと反対側に
配設し、当該弾性部材の弾性力によって、前記マスクを
試料保持スペース内に納めた複数個の試料に密着させる
ようにしたことを特徴とするマスキング用ホルダー。
Priority Applications (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP63139826A JPH076057B2 (ja) | 1988-06-07 | 1988-06-07 | マスキング用ホルダー |
| US07/361,500 US4920915A (en) | 1988-06-07 | 1989-06-05 | Work holder for masking |
| DE3918439A DE3918439C2 (de) | 1988-06-07 | 1989-06-06 | Werkstückhalter mit Maskierungsfunktion |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP63139826A JPH076057B2 (ja) | 1988-06-07 | 1988-06-07 | マスキング用ホルダー |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH01309953A JPH01309953A (ja) | 1989-12-14 |
| JPH076057B2 true JPH076057B2 (ja) | 1995-01-25 |
Family
ID=15254378
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP63139826A Expired - Lifetime JPH076057B2 (ja) | 1988-06-07 | 1988-06-07 | マスキング用ホルダー |
Country Status (3)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US4920915A (ja) |
| JP (1) | JPH076057B2 (ja) |
| DE (1) | DE3918439C2 (ja) |
Families Citing this family (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP0572151A3 (en) * | 1992-05-28 | 1995-01-18 | Avx Corp | Varistors with cathodically vaporized connections and method for depositing cathodically vaporized connections on varistors. |
| US5337893A (en) * | 1992-07-22 | 1994-08-16 | Electro Scientific Industries, Inc. | High capacity carrier plate |
| AU2009288234B2 (en) | 2008-09-02 | 2014-08-21 | Merck Millipore Ltd. | Chromatography membranes, devices containing them, and methods of use thereof |
| DE102009035144A1 (de) * | 2009-07-29 | 2011-02-03 | Mtu Aero Engines Gmbh | Verfahren zum Abdecken mindestens eines Oberflächenbereichs eines Bauteils für eine Strömungsmaschine und Bauteil |
| US9873088B2 (en) | 2011-05-17 | 2018-01-23 | Natrix Separations Inc. | Layered tubular membranes for chromatography, and methods of use thereof |
| DE102012111078A1 (de) * | 2012-11-16 | 2014-05-22 | Von Ardenne Anlagentechnik Gmbh | Substratträger |
Family Cites Families (10)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US1735004A (en) * | 1928-02-25 | 1929-11-12 | Hudson Motor Car Co | Stencil |
| FR1148316A (fr) * | 1959-10-20 | 1957-12-06 | Thomson Houston Comp Francaise | Procédé et appareil pour la réalisation de circuits imprimés |
| US3276423A (en) * | 1963-10-04 | 1966-10-04 | David P Triller | Pattern mask for use in making thin film circuitry |
| US3897324A (en) * | 1973-06-25 | 1975-07-29 | Honeywell Inc | Material deposition masking for microcircuit structures |
| JPS5550520A (en) * | 1978-10-09 | 1980-04-12 | Nippon Petrochemicals Co Ltd | Method of manufacturing cross linked polyethylene coated power cable |
| US4457359A (en) * | 1982-05-25 | 1984-07-03 | Varian Associates, Inc. | Apparatus for gas-assisted, solid-to-solid thermal transfer with a semiconductor wafer |
| JPS5912455U (ja) * | 1982-07-12 | 1984-01-25 | 株式会社東芝 | 回路しや断器 |
| DE3516490A1 (de) * | 1985-05-08 | 1986-11-13 | Elektroschmelzwerk Kempten GmbH, 8000 München | Brennhilfsmittel |
| US4678531A (en) * | 1986-03-24 | 1987-07-07 | General Motors Corporation | Method and apparatus for screen printing solder paste onto a substrate with device premounted thereon |
| DE3835028A1 (de) * | 1988-10-14 | 1990-04-19 | Basf Ag | Oximether-derivate, verfahren zu ihrer herstellung und diese enthaltende fungizide |
-
1988
- 1988-06-07 JP JP63139826A patent/JPH076057B2/ja not_active Expired - Lifetime
-
1989
- 1989-06-05 US US07/361,500 patent/US4920915A/en not_active Expired - Lifetime
- 1989-06-06 DE DE3918439A patent/DE3918439C2/de not_active Expired - Lifetime
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| US4920915A (en) | 1990-05-01 |
| JPH01309953A (ja) | 1989-12-14 |
| DE3918439A1 (de) | 1989-12-14 |
| DE3918439C2 (de) | 1995-11-30 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20090125 Year of fee payment: 14 |
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| EXPY | Cancellation because of completion of term | ||
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20090125 Year of fee payment: 14 |