JPH01309953A - マスキング用ホルダー - Google Patents
マスキング用ホルダーInfo
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- JPH01309953A JPH01309953A JP63139826A JP13982688A JPH01309953A JP H01309953 A JPH01309953 A JP H01309953A JP 63139826 A JP63139826 A JP 63139826A JP 13982688 A JP13982688 A JP 13982688A JP H01309953 A JPH01309953 A JP H01309953A
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Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
- C23C14/22—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
- C23C14/50—Substrate holders
-
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- C23C14/04—Coating on selected surface areas, e.g. using masks
- C23C14/042—Coating on selected surface areas, e.g. using masks using masks
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は、スパッタリングやイオンブレーティング、真
空蒸着等の成膜技術において、試料を固定してマスキン
グするためのマスキング用ホルダーに関する。
空蒸着等の成膜技術において、試料を固定してマスキン
グするためのマスキング用ホルダーに関する。
小型試料の特定部分に電極部や抵抗膜等の金属薄膜を形
成する場合には、非着膜部分をマスクで覆ってマスキン
グし、非着膜部分に着膜しないようにする必要がある。
成する場合には、非着膜部分をマスクで覆ってマスキン
グし、非着膜部分に着膜しないようにする必要がある。
この場合、スパッタリングやイオンブレーティング等の
回り込み着脱性の大きな薄膜形成技術では、これらの試
料とマスクの密着性が悪い場合には、回り込み着膜によ
ってマスクと試料との間の隙間に蒸着粉子が入り込み、
不要な部分にまで膜が形成されて膜精度が悪くなる。
回り込み着脱性の大きな薄膜形成技術では、これらの試
料とマスクの密着性が悪い場合には、回り込み着膜によ
ってマスクと試料との間の隙間に蒸着粉子が入り込み、
不要な部分にまで膜が形成されて膜精度が悪くなる。
このため、従来にあっては、スプリング等で試料をマス
クに押圧して試料をマスクに密着させる構造が用いられ
ている。しかし、このようにスプリングによって試料と
マスクとを密着させる精造では、一般に用いられている
多数個の小形チップ試料を同時にセットされるマスキン
グ用ホルダーの場合に１個の試料ごとにスプリング等が
必要で構造が複雑になり過ぎ、また各スプリングを圧縮
しながら試料をマスキング用ホルダー内に納め、マスク
で押さえねばならず、試料のセットも困難であるという
欠点があった。加えて、スプリングの場合には、焼きな
ましによる弾性の劣化という問題があった。
クに押圧して試料をマスクに密着させる構造が用いられ
ている。しかし、このようにスプリングによって試料と
マスクとを密着させる精造では、一般に用いられている
多数個の小形チップ試料を同時にセットされるマスキン
グ用ホルダーの場合に１個の試料ごとにスプリング等が
必要で構造が複雑になり過ぎ、また各スプリングを圧縮
しながら試料をマスキング用ホルダー内に納め、マスク
で押さえねばならず、試料のセットも困難であるという
欠点があった。加えて、スプリングの場合には、焼きな
ましによる弾性の劣化という問題があった。
また、ゴム材の弾性によって試料をマスクに密着させる
方法も試みられているが、ゴム材質では真空中において
２００°Ｃで加熱が可能なものは存在しておらず、スパ
ッタリング等の環境温度に耐え得ない、しかも、−最に
有機物であるゴム材は、高温ではガスの放出があり、ゴ
ム材から放出されたガスのために試料と成膜された膜と
の間の固着力が低下するという問題があった。
方法も試みられているが、ゴム材質では真空中において
２００°Ｃで加熱が可能なものは存在しておらず、スパ
ッタリング等の環境温度に耐え得ない、しかも、−最に
有機物であるゴム材は、高温ではガスの放出があり、ゴ
ム材から放出されたガスのために試料と成膜された膜と
の間の固着力が低下するという問題があった。
上述のごとく、これまではマスクと試料とを密着させる
ための材料として、スパッタリング等の薄膜形成工程の
温度に耐えることができ、しかもマスキング用ホルダー
に簡単な構造で組み込むことのできるものが存在してい
なかった。
ための材料として、スパッタリング等の薄膜形成工程の
温度に耐えることができ、しかもマスキング用ホルダー
に簡単な構造で組み込むことのできるものが存在してい
なかった。
しかして、本発明の目的は、試料をマスクに密着させる
ことができ、しかも薄膜形成工程において耐熱性を有し
、構造の簡単なマスキング用ホルダーを提供することに
ある。
ことができ、しかも薄膜形成工程において耐熱性を有し
、構造の簡単なマスキング用ホルダーを提供することに
ある。
本発明のマスキング用ホルダーは、マスクにより試料の
非着腹部を覆って試料を固定するマスキング用ホルダー
であって、金属やセラミック等の耐熱性繊維によって形
成されたフェルト材によって試料と前記マスクとを密着
さぜなことを特徴としている。
非着腹部を覆って試料を固定するマスキング用ホルダー
であって、金属やセラミック等の耐熱性繊維によって形
成されたフェルト材によって試料と前記マスクとを密着
さぜなことを特徴としている。
本発明にあって、フェルト材の弾性によって試料とマス
クとを密着させているので、蒸着粒子の回り込みを防止
して成膜精度を高めることができる。しかも、フェルト
材は金属やセラミック等の耐熱性繊維によって形成され
ているので、高温環境下で行われるスパッタリング等の
薄膜形成工程においても損なわれることがなく、またス
プリングのように焼きなましの問題もなく、さらに金属
やセラミック等は加熱されてもガス等を放出することが
ないものである。加えて、フェルト材を用いているので
、自由な形状に加工することができ、マスキング用ホル
ダー内へも容易に組み込むことができ、マスキング用ホ
ルダーの構造を簡単にすることができる。
クとを密着させているので、蒸着粒子の回り込みを防止
して成膜精度を高めることができる。しかも、フェルト
材は金属やセラミック等の耐熱性繊維によって形成され
ているので、高温環境下で行われるスパッタリング等の
薄膜形成工程においても損なわれることがなく、またス
プリングのように焼きなましの問題もなく、さらに金属
やセラミック等は加熱されてもガス等を放出することが
ないものである。加えて、フェルト材を用いているので
、自由な形状に加工することができ、マスキング用ホル
ダー内へも容易に組み込むことができ、マスキング用ホ
ルダーの構造を簡単にすることができる。
以下、本発明の実施例を添付図に基づいて詳述する。
第１図に示すものは、本発明の一実施例であり、例えば
試料５の上面中央部にのみ膜を形成するためのマスキン
グ用ホルダーＡである。マスキング用ホルダーＡは、ス
テンレス板製のバックプレー１・７の上にステンレス製
のフェルト材６を重ね、その上にステンレス板製のスペ
ーサ８を重ね、さらにその上にステンレス板製のマスク
１を重ね、これらの縁部に貫通させたボルト９とナツト
１０等の連結具によりこれらを一体に連結すると共にマ
スク１やスペーサ８等を互いに位置決めさせたものであ
る。ここで、バックプレート７は、全体を平らに保持す
るためのものである。
試料５の上面中央部にのみ膜を形成するためのマスキン
グ用ホルダーＡである。マスキング用ホルダーＡは、ス
テンレス板製のバックプレー１・７の上にステンレス製
のフェルト材６を重ね、その上にステンレス板製のスペ
ーサ８を重ね、さらにその上にステンレス板製のマスク
１を重ね、これらの縁部に貫通させたボルト９とナツト
１０等の連結具によりこれらを一体に連結すると共にマ
スク１やスペーサ８等を互いに位置決めさせたものであ
る。ここで、バックプレート７は、全体を平らに保持す
るためのものである。
フェルト材６は、絡んだ繊維状のステンレス極細線を圧
縮してシート状に形成したものであり、圧縮に対して適
度の変形性を有している。また、スペーサ８には、試料
５の形状に合わせて複数個の開口１１が形成されており
、この開口１１内に試料５を納めることによって試料５
を必要精度内で位置決めできるようになっている。スペ
ーサ８の上に重ねられるマスク１は、試料５の上面を覆
っているが、試料５の成膜形状に合わせてマスク１には
成膜用パターン１２が開口されている。
縮してシート状に形成したものであり、圧縮に対して適
度の変形性を有している。また、スペーサ８には、試料
５の形状に合わせて複数個の開口１１が形成されており
、この開口１１内に試料５を納めることによって試料５
を必要精度内で位置決めできるようになっている。スペ
ーサ８の上に重ねられるマスク１は、試料５の上面を覆
っているが、試料５の成膜形状に合わせてマスク１には
成膜用パターン１２が開口されている。
しかして、スペーサ８の開口１１内に試料５を納め、そ
の上にマスク１を重ね、ボルト９とナツト１０等の連結
具を締め付けて第１図に示すようにマスキング用ホルダ
ーＡ内に試料５が位置決め状態で保持される。この時、
連結具の締付けによりフェルト材６は圧縮状態となって
いるので、試料５はフェルト材６の変形による復帰力あ
るいは反発応力によって上方へ押圧される。そして、試
料５は面状のフェルト材６によって全体を押圧されるの
で、試料５の上面がマスク１と平行になるように押圧さ
れ、押圧された試料５はマスク】に密着させられるので
ある。このマスキング用ホルダーＡは、例えばスパッタ
リング装置内にセラ）・され、スパッタリングによって
試料５の表面に成膜される。この時、試料５はマスク１
にぴったりと密着しているので、蒸着粒子がマスク１の
下に回り込むことがなく、成膜用パターン１２と同じパ
ターンの電極部や抵抗膜などが精密に成膜されるのであ
る。なお、本実施例において、フェルト材６とスペーサ
８との間にアルミニウムフィルム等のシートを挿入して
も良い。
の上にマスク１を重ね、ボルト９とナツト１０等の連結
具を締め付けて第１図に示すようにマスキング用ホルダ
ーＡ内に試料５が位置決め状態で保持される。この時、
連結具の締付けによりフェルト材６は圧縮状態となって
いるので、試料５はフェルト材６の変形による復帰力あ
るいは反発応力によって上方へ押圧される。そして、試
料５は面状のフェルト材６によって全体を押圧されるの
で、試料５の上面がマスク１と平行になるように押圧さ
れ、押圧された試料５はマスク】に密着させられるので
ある。このマスキング用ホルダーＡは、例えばスパッタ
リング装置内にセラ）・され、スパッタリングによって
試料５の表面に成膜される。この時、試料５はマスク１
にぴったりと密着しているので、蒸着粒子がマスク１の
下に回り込むことがなく、成膜用パターン１２と同じパ
ターンの電極部や抵抗膜などが精密に成膜されるのであ
る。なお、本実施例において、フェルト材６とスペーサ
８との間にアルミニウムフィルム等のシートを挿入して
も良い。
次に、上記マスキング用ホルダーＡを用いて実験した結
果を述べる。上記マスキング用ホルダーＡ内に試料うと
して３ｍｍＸ ３ｍｍＸ １ｍｍのアルミナチップを
納め、このマスキング用ホルダーＡをスパッタリング装
置内にセットした。スパッタリング装置内のアルゴン雰
囲気を２Ｘ １Ｏ−３ｔｏｒｒに設定し、Ｎｉ５０Ｘ−
Ｃｒ５０％のターゲットから放出された蒸着粒子を８０
０人の厚みに着膜させ、アルミナチップの表面に２．０
０ｍｍ口のＮｉＣｒ抵抗膜を得た。この時のマスク１の
成膜用パターン１２の精度は、２．００ｍｍＸ ＩＱ
Ｑμ０であり、抵抗膜の寸法精度は平均値が２．０１８
ｍｍ口、ばらつきが９μであり、大変良好なマスキング
精度を得た。一方、フェルト材６を挿入しない場合には
、抵抗膜の平均値は２．２４８■０、ばらつきが１３３
μであった。
果を述べる。上記マスキング用ホルダーＡ内に試料うと
して３ｍｍＸ ３ｍｍＸ １ｍｍのアルミナチップを
納め、このマスキング用ホルダーＡをスパッタリング装
置内にセットした。スパッタリング装置内のアルゴン雰
囲気を２Ｘ １Ｏ−３ｔｏｒｒに設定し、Ｎｉ５０Ｘ−
Ｃｒ５０％のターゲットから放出された蒸着粒子を８０
０人の厚みに着膜させ、アルミナチップの表面に２．０
０ｍｍ口のＮｉＣｒ抵抗膜を得た。この時のマスク１の
成膜用パターン１２の精度は、２．００ｍｍＸ ＩＱ
Ｑμ０であり、抵抗膜の寸法精度は平均値が２．０１８
ｍｍ口、ばらつきが９μであり、大変良好なマスキング
精度を得た。一方、フェルト材６を挿入しない場合には
、抵抗膜の平均値は２．２４８■０、ばらつきが１３３
μであった。
第２図に示すものは本発明の他例であり、試料５の上面
端部から両側面にかけて略し字状に成膜するためのマス
キング用ホルダーＢであり、試料５は一旦成膜した後、
裏向けて再び成膜されることによって両端部に略コ字状
に成膜される。このマスキング用部材は、ステンレス板
製のバックプレート７の上にステンレス製のフェルト材
６をシート状に敷き、その上にアルミニウムフィルム等
の可撓性を有するシート状のマスク２を重ね、シート状
のマスク２の上にステンレス板製のスペーサ８を重ね、
スペーサ８の上にステンレス板製のマスク３を重ね、ボ
ルト９とナツト１０等の連結具により一体に連結したも
のである。このマスキング用ホルダーＢでは、スペーサ
８の開口１１内に納められた試料５の上面中央部をマス
ク３により覆うようになっており、また試料５の両側面
と開口１１の内周との間には空間１８が形成されている
ので、マスク３の成膜用パターン１２を介して試料５の
上面両端部と側面とが露出させられている。
端部から両側面にかけて略し字状に成膜するためのマス
キング用ホルダーＢであり、試料５は一旦成膜した後、
裏向けて再び成膜されることによって両端部に略コ字状
に成膜される。このマスキング用部材は、ステンレス板
製のバックプレート７の上にステンレス製のフェルト材
６をシート状に敷き、その上にアルミニウムフィルム等
の可撓性を有するシート状のマスク２を重ね、シート状
のマスク２の上にステンレス板製のスペーサ８を重ね、
スペーサ８の上にステンレス板製のマスク３を重ね、ボ
ルト９とナツト１０等の連結具により一体に連結したも
のである。このマスキング用ホルダーＢでは、スペーサ
８の開口１１内に納められた試料５の上面中央部をマス
ク３により覆うようになっており、また試料５の両側面
と開口１１の内周との間には空間１８が形成されている
ので、マスク３の成膜用パターン１２を介して試料５の
上面両端部と側面とが露出させられている。
しかして、試料５を納めたマスキング用ホルダーＢをス
パッタリング装置などに納めて成膜処理を行うと、露出
している試料５上面の両端部に蒸着粒子が着膜し、また
成膜用パターン１２を通過した蒸着粒子が試料５の両側
面に着膜し、試料５の表面に電極部等の膜１９が形成さ
れる。このとき、試料５はフェルト材６の変形性によっ
て上のマスク３に押圧されて密着しているので、試料５
上面で蒸着粒子がマスク３の下に回り込むことがない。
パッタリング装置などに納めて成膜処理を行うと、露出
している試料５上面の両端部に蒸着粒子が着膜し、また
成膜用パターン１２を通過した蒸着粒子が試料５の両側
面に着膜し、試料５の表面に電極部等の膜１９が形成さ
れる。このとき、試料５はフェルト材６の変形性によっ
て上のマスク３に押圧されて密着しているので、試料５
上面で蒸着粒子がマスク３の下に回り込むことがない。
また、試料５の角部は着膜を滑らかにすると共に試料５
同志が衝突したときの角部の研磨、いわゆるチッピング
を防止するため、一般にアールを施されているので、こ
れまではこの丸みを帯びた角部をマスクに密着させるの
は困難であり、蒸着粒子が試料５の下面に回り込む恐れ
があったが、本実施例ではフェルト材６の上にアルミニ
ウムフィルム等の可撓性を有するマへり２を敷いである
ので、第３図に示すように、アルミニウムフィルム等の
マスク２がフェルト材６の変形にもとづく復帰力で押し
上げられて試料５の丸みを帯びた角部に沿って密着し、
これによって蒸着粒子の試料ら下面への回り込みが防止
される。下側のマスク２としては、上記のアルミニウム
フィルムに限らず、他の可撓性を有する金属フィルムや
、ポリテトラフルオロエチレン（ＰＴＦＥ）等の高耐熱
性を有するふっ素糸樹脂のフィルムなどでも良い、特に
、このマスク２をエツチング液に対して耐食性のある材
料で形成すれば、マスク１に付着した蒸着粒子をエツチ
ングによって除去でき、繰り返し使用することができる
。
同志が衝突したときの角部の研磨、いわゆるチッピング
を防止するため、一般にアールを施されているので、こ
れまではこの丸みを帯びた角部をマスクに密着させるの
は困難であり、蒸着粒子が試料５の下面に回り込む恐れ
があったが、本実施例ではフェルト材６の上にアルミニ
ウムフィルム等の可撓性を有するマへり２を敷いである
ので、第３図に示すように、アルミニウムフィルム等の
マスク２がフェルト材６の変形にもとづく復帰力で押し
上げられて試料５の丸みを帯びた角部に沿って密着し、
これによって蒸着粒子の試料ら下面への回り込みが防止
される。下側のマスク２としては、上記のアルミニウム
フィルムに限らず、他の可撓性を有する金属フィルムや
、ポリテトラフルオロエチレン（ＰＴＦＥ）等の高耐熱
性を有するふっ素糸樹脂のフィルムなどでも良い、特に
、このマスク２をエツチング液に対して耐食性のある材
料で形成すれば、マスク１に付着した蒸着粒子をエツチ
ングによって除去でき、繰り返し使用することができる
。
第４図に本発明の更に他例を示す、これは、試料５の一
方側部（図では上部）に略コ字状に電極部等の膜１９を
成膜するためのマスキング用ホルダー〇である。このマ
スキング用ホルダー〇は、ホルダー本体１３の上面に設
けられたステンレス性の押さえ板１４間に一対のマスク
４と、マスク４間に挟まれた試料５をセットし、押さえ
板１４によって両側からマスク４と試料５を挟み込むよ
うにしたものである。即ち、ホルダー本体１３の両側縁
に設けられた立ち上がり部１５の雌ねじ孔１６にはねじ
具１７が挿通させられており、このねじ具１７を回すこ
とによって押さえ板】４を移動させることができ、この
押さえ板１４間に試料らとマスク４をセットし、押さえ
板１４によってマスク４を両側から押圧することによっ
てマスク４を試料５に密着させるようになっている。ま
た、マスク４は、アルミニウムフィルム等の可撓性を有
するシート材によって筒状ないし袋状に形成されており
、内部にステンレス製のフェルト材６が充填されている
。したがって、試料５はマスク４ｒ′ｆＩで露出してい
る側部（図では上部）に沿って略コ字状に成膜されるの
である。しかも、本実施例においては、マスク４内にフ
ェルト材６を充填しであるので、押さえ板１４によって
押圧すると内部のフェルト材６が圧縮され、圧縮された
フェルト材６の変形にもとづく復帰力によってマスク４
が試料５に密着させられ、マスク４の密着性が向上する
。特に、第５図に示すようにフェルト材６によってマス
ク４が内部から押圧されることによってマスク４が試料
５と密着している部分と離れている部分との境界がクツ
キリと得られ、スパッタリング等によって成膜した場合
に蒸着粒子の侵入がなくて端縁のクツキリとした膜１９
が得られる。なお、このマスク４も、アルミニウムフィ
ルム以外の可撓性を有する金属フィルムや、高耐熱性を
有するふっ素糸樹脂フィルム等でもよく、特に耐食性の
あるものが好ましい。
方側部（図では上部）に略コ字状に電極部等の膜１９を
成膜するためのマスキング用ホルダー〇である。このマ
スキング用ホルダー〇は、ホルダー本体１３の上面に設
けられたステンレス性の押さえ板１４間に一対のマスク
４と、マスク４間に挟まれた試料５をセットし、押さえ
板１４によって両側からマスク４と試料５を挟み込むよ
うにしたものである。即ち、ホルダー本体１３の両側縁
に設けられた立ち上がり部１５の雌ねじ孔１６にはねじ
具１７が挿通させられており、このねじ具１７を回すこ
とによって押さえ板】４を移動させることができ、この
押さえ板１４間に試料らとマスク４をセットし、押さえ
板１４によってマスク４を両側から押圧することによっ
てマスク４を試料５に密着させるようになっている。ま
た、マスク４は、アルミニウムフィルム等の可撓性を有
するシート材によって筒状ないし袋状に形成されており
、内部にステンレス製のフェルト材６が充填されている
。したがって、試料５はマスク４ｒ′ｆＩで露出してい
る側部（図では上部）に沿って略コ字状に成膜されるの
である。しかも、本実施例においては、マスク４内にフ
ェルト材６を充填しであるので、押さえ板１４によって
押圧すると内部のフェルト材６が圧縮され、圧縮された
フェルト材６の変形にもとづく復帰力によってマスク４
が試料５に密着させられ、マスク４の密着性が向上する
。特に、第５図に示すようにフェルト材６によってマス
ク４が内部から押圧されることによってマスク４が試料
５と密着している部分と離れている部分との境界がクツ
キリと得られ、スパッタリング等によって成膜した場合
に蒸着粒子の侵入がなくて端縁のクツキリとした膜１９
が得られる。なお、このマスク４も、アルミニウムフィ
ルム以外の可撓性を有する金属フィルムや、高耐熱性を
有するふっ素糸樹脂フィルム等でもよく、特に耐食性の
あるものが好ましい。
上記各実施例では、フェルト材の素材としてステンレス
極細線を圧縮したものを説明したが。
極細線を圧縮したものを説明したが。
フェルト材の素材としては、これに限るものでなく、セ
ラミックス繊維やステンレス以外の金属細線等の耐熱性
繊維を圧縮したものなどでも差し支えない。
ラミックス繊維やステンレス以外の金属細線等の耐熱性
繊維を圧縮したものなどでも差し支えない。
本発明によれば、フェルト材の復帰力や押圧による反発
応力によって試料をマスクに密着させることができるの
で、蒸着粒子の回り込みを防止して精度の高い薄膜を形
成することができるという利点がある。しかも、フェル
ト材は、金属やセラミック等の耐熱性繊維を圧縮して形
成されたものであるので、スパッタリングやイオンブレ
ーティングなどの高温環境化でも損傷したり、焼きなま
しの問題を生じたりすることもなく、耐久性に優れてい
る。また、フェルト材は、耐熱性繊維を圧縮しただけの
ものであるので、自由な形状に形成することができ、従
ってマスキング用ホルダー内へ簡単に組み込むことがで
き、マスキング用ホルダーの構造を簡単にすることがで
きる。
応力によって試料をマスクに密着させることができるの
で、蒸着粒子の回り込みを防止して精度の高い薄膜を形
成することができるという利点がある。しかも、フェル
ト材は、金属やセラミック等の耐熱性繊維を圧縮して形
成されたものであるので、スパッタリングやイオンブレ
ーティングなどの高温環境化でも損傷したり、焼きなま
しの問題を生じたりすることもなく、耐久性に優れてい
る。また、フェルト材は、耐熱性繊維を圧縮しただけの
ものであるので、自由な形状に形成することができ、従
ってマスキング用ホルダー内へ簡単に組み込むことがで
き、マスキング用ホルダーの構造を簡単にすることがで
きる。
第１図は本発明の一実施例を示す断面図、第２図は本発
明の他の実施例を示す断面図、第３図は第２図の部分拡
大図、第４図は本発明の更に他の実施例を示す一部破断
した正面図、第５図は同上の作用説明のための部分拡大
図である。 １．２，３．４・・・マスク ５・・・試料 ６・・・フェルト材 特許出願人 株式会社 村田製作所 代理人 弁理士 中 野 雅 房
明の他の実施例を示す断面図、第３図は第２図の部分拡
大図、第４図は本発明の更に他の実施例を示す一部破断
した正面図、第５図は同上の作用説明のための部分拡大
図である。 １．２，３．４・・・マスク ５・・・試料 ６・・・フェルト材 特許出願人 株式会社 村田製作所 代理人 弁理士 中 野 雅 房
Claims (1)
- （１）マスクにより試料の非着膜部を覆って試料を固定
するマスキング用ホルダーであって、金属やセラミック
等の耐熱性繊維によって形成されたフェルト材によって
試料と前記マスクとを密着させたことを特徴とするマス
キング用ホルダー。
Priority Applications (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP63139826A JPH076057B2 (ja) | 1988-06-07 | 1988-06-07 | マスキング用ホルダー |
| US07/361,500 US4920915A (en) | 1988-06-07 | 1989-06-05 | Work holder for masking |
| DE3918439A DE3918439C2 (de) | 1988-06-07 | 1989-06-06 | Werkstückhalter mit Maskierungsfunktion |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP63139826A JPH076057B2 (ja) | 1988-06-07 | 1988-06-07 | マスキング用ホルダー |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH01309953A true JPH01309953A (ja) | 1989-12-14 |
| JPH076057B2 JPH076057B2 (ja) | 1995-01-25 |
Family
ID=15254378
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP63139826A Expired - Lifetime JPH076057B2 (ja) | 1988-06-07 | 1988-06-07 | マスキング用ホルダー |
Country Status (3)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US4920915A (ja) |
| JP (1) | JPH076057B2 (ja) |
| DE (1) | DE3918439C2 (ja) |
Families Citing this family (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP0572151A3 (en) * | 1992-05-28 | 1995-01-18 | Avx Corp | Varistors with cathodically vaporized connections and method for depositing cathodically vaporized connections on varistors. |
| US5337893A (en) * | 1992-07-22 | 1994-08-16 | Electro Scientific Industries, Inc. | High capacity carrier plate |
| KR102178191B1 (ko) | 2008-09-02 | 2020-11-13 | 머크 밀리포어 리미티드 | 크로마토그래피 막, 이를 포함하는 장치 및 이의 이용방법 |
| DE102009035144A1 (de) * | 2009-07-29 | 2011-02-03 | Mtu Aero Engines Gmbh | Verfahren zum Abdecken mindestens eines Oberflächenbereichs eines Bauteils für eine Strömungsmaschine und Bauteil |
| CA2836460C (en) | 2011-05-17 | 2021-09-21 | Natrix Separations Inc. | Methods of using a fluid treatment device |
| DE102012111078A1 (de) * | 2012-11-16 | 2014-05-22 | Von Ardenne Anlagentechnik Gmbh | Substratträger |
Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5550520A (en) * | 1978-10-09 | 1980-04-12 | Nippon Petrochemicals Co Ltd | Method of manufacturing cross linked polyethylene coated power cable |
| JPS5912455U (ja) * | 1982-07-12 | 1984-01-25 | 株式会社東芝 | 回路しや断器 |
Family Cites Families (8)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US1735004A (en) * | 1928-02-25 | 1929-11-12 | Hudson Motor Car Co | Stencil |
| FR1148316A (fr) * | 1959-10-20 | 1957-12-06 | Thomson Houston Comp Francaise | Procédé et appareil pour la réalisation de circuits imprimés |
| US3276423A (en) * | 1963-10-04 | 1966-10-04 | David P Triller | Pattern mask for use in making thin film circuitry |
| US3897324A (en) * | 1973-06-25 | 1975-07-29 | Honeywell Inc | Material deposition masking for microcircuit structures |
| US4457359A (en) * | 1982-05-25 | 1984-07-03 | Varian Associates, Inc. | Apparatus for gas-assisted, solid-to-solid thermal transfer with a semiconductor wafer |
| DE3516490A1 (de) * | 1985-05-08 | 1986-11-13 | Elektroschmelzwerk Kempten GmbH, 8000 München | Brennhilfsmittel |
| US4678531A (en) * | 1986-03-24 | 1987-07-07 | General Motors Corporation | Method and apparatus for screen printing solder paste onto a substrate with device premounted thereon |
| DE3835028A1 (de) * | 1988-10-14 | 1990-04-19 | Basf Ag | Oximether-derivate, verfahren zu ihrer herstellung und diese enthaltende fungizide |
-
1988
- 1988-06-07 JP JP63139826A patent/JPH076057B2/ja not_active Expired - Lifetime
-
1989
- 1989-06-05 US US07/361,500 patent/US4920915A/en not_active Expired - Lifetime
- 1989-06-06 DE DE3918439A patent/DE3918439C2/de not_active Expired - Lifetime
Patent Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5550520A (en) * | 1978-10-09 | 1980-04-12 | Nippon Petrochemicals Co Ltd | Method of manufacturing cross linked polyethylene coated power cable |
| JPS5912455U (ja) * | 1982-07-12 | 1984-01-25 | 株式会社東芝 | 回路しや断器 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| DE3918439A1 (de) | 1989-12-14 |
| US4920915A (en) | 1990-05-01 |
| JPH076057B2 (ja) | 1995-01-25 |
| DE3918439C2 (de) | 1995-11-30 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
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