JPS5928570A - 真空装置用治具 - Google Patents

真空装置用治具

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Publication number
JPS5928570A
JPS5928570A JP13766682A JP13766682A JPS5928570A JP S5928570 A JPS5928570 A JP S5928570A JP 13766682 A JP13766682 A JP 13766682A JP 13766682 A JP13766682 A JP 13766682A JP S5928570 A JPS5928570 A JP S5928570A
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JP
Japan
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jig
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deposited
substance
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Application number
JP13766682A
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English (en)
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JPS6141986B2 (ja
Inventor
Sadaji Inoue
井上 貞二
Takao Matsudaira
松平 他家夫
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Hoya Corp
Original Assignee
Hoya Corp
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Publication date
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Publication of JPS5928570A publication Critical patent/JPS5928570A/ja
Publication of JPS6141986B2 publication Critical patent/JPS6141986B2/ja
Granted legal-status Critical Current

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    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C23COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23CCOATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C14/00Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
    • C23C14/22Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
    • C23C14/50Substrate holders

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Mechanical Engineering (AREA)
  • Metallurgy (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Physical Or Chemical Processes And Apparatus (AREA)
  • Physical Vapour Deposition (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は、真空蒸着法、イオンブレーティング法、活性
化反応蒸着法あるいはスパッター法等において用いられ
る、真空装置の基板保持用治具に関するものである。
従来、例えば真空蒸着法で基材に蒸着するに際して、基
材を真空装置内に保持するために使用する治具は、基材
の底面の周囲を治具のフランジ部分に引っ掛けるように
する型式のものであった。
第1図はその従来の真空装置用治具を示すものである。
すなわち、被蒸着物質である例えばガラス基材/を治具
dの中に挿入し、治具の中のフランジ3で上記基材/を
支承し、この状態で基材/の被蒸着面/lIにコーティ
ングを行う方法である。
しかしながら、この方法では当然のことであるが、基材
/の治具−のフランジ3で覆われた部分はコーティング
されないため、基材/の有効領域が狭くなる欠点があり
、またフランジ3と基材/の接触した部分に傷が入った
り、支承部分からの微小なほこりの影響で、ピンホール
が生じたりする欠点があった。
本発明の目的は、従来例の上記欠点を除去し、基材の保
持部材への取り付けが容易で、1つ基材の底面全面にコ
ーティングを行うことが出来る治具を提供することにあ
る。
このような目的を達成するための本発明の特徴は、真空
装置に使用される保持具において被蒸着物質を耐熱性の
弾性体、例えばステンレスやバネ鋼等の金属からなるバ
ネにより、被蒸着物質を保持することを特徴とするもの
である。
以下、図面に基づいて本発明の真空装置用治具を実施例
により具体的に説明する。
第2図に示した冶具においては、冶具本体//は被蒸着
物質である例えばガラス基材/を嵌込む挿入口/、2を
持った。アルミ板等からなるものである。この冶具本体
//の被蒸着物質挿入口/、2には、耐熱性の弾性体す
なわちステンレス板あるいはR板等よりなるバネ/3に
」二部を挟持された、基材/が遊嵌されている。このバ
ネ/3に基材/を挟み、治具本体//の被蒸着物質挿入
口/、2に被蒸着物質を挿入すると、バネ/3の下端が
冶具本体//の被蒸着物質挿入口/、2外縁に支えられ
て基材/は落下せず、これを真空装置内にセットした後
、被蒸着面/ダに全面コーティングするものである。勿
論基材/の形状は円柱に限られず、四角柱その他のもの
でも固定できる。
第3図に示した治具において冶具本体//は、基材/を
挿入する径を持った被蒸着物質挿入口/、2を有し、こ
の治具本体//の被蒸着物質挿入口/、2の外縁にはバ
ネ/3の基部を、ネジ/jにより固定している。このよ
うにバネ/3を治具本体//上にネジ7.5で固定して
おき、指先あるいはピンセット等でバネ/3を開きなが
ら、治具本体/lの被蒸着物質挿入口//に基材/を挿
入し、前記バネ/3で基材/をチャックして被蒸着面/
IIに全面コーティングするものである。この例では第
2図で示した方法よりバネ効果が強いので、基材/が治
具本体//にしっかりと固定でき、基材/の形状が長い
場合や相当な重量がある場合に有用である。
基材/の形状には種々のものがあるので、これに対応し
て治具にも種々の態様がある。第4図に示した冶具は、
基材/の形状が短かいものに好適に適用でき、長ネジ/
乙で中央立上がり部分、23において治具本体//上面
に固着された保持部材13は、被蒸着物質挿入口/、2
に遊嵌された基材/の側面をその端部33により抑圧固
定するものである。第5図に示した治具は、基材lの形
状が長いものに有用であり、バネ/ 43は冶具本体/
/の被蒸着物質挿入口/、2の外縁両側に、ネジ/、5
でその基部を固定されている。これらは第6図に示した
ような曲面を持った基材/へのコーティングに対しても
有用である。治具への基材/のセラI・は指先あるいは
ピンセット等により、バネ/3を開きあるいは縮めて基
材/を挿入し、基材/をバネ/3で押しつけ固定する。
さらに同様な方法で、斜めカットされた形状の基材うに
対しても、第7図に示した治具のように片側からのみ押
え込み、被蒸着面/ダに全面コーチインクできるように
することができる。
このように耐熱性弾性体からなるバネの使用により、真
空装置用治具への基材/の取り付け、取り外しが容易と
なるばかりでなく、基材l底部の被蒸着面/ダ全体をコ
ーティングすることが可能である。このような治具を使
用して、全面コーティングされた基材/は有効領域が広
くとれ、光学部品の小型化に有効である。
【図面の簡単な説明】 第1図は従来のコーティング治具を示す断面図、第2図
乃至第3図は本発明の実施例を示す断面図、第4図乃至
第5図は、本発明の他の実施例を示す断面図、第6図は
基材の一例を示す斜視図、第7図は本発明の更に他の例
を示す断面図である。 /30.基材      //、、、治具本体/、2.
..被蒸着物質挿入口 / J、、、バネ     /ダ01.基材の被蒸着面
/ 、5.、、ネジ     /乙01.長ネジ、、2
 J、、、立上がり部 J、3.、、端部第2図 荊3 図 −367− 月 第5図

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 ■、被蒸着物質を保持するために真空装置に使用されて
    いる治具において、被蒸着物質嵌入部を形成した耐熱性
    の弾性体からなる保持部材を有 :し、治具本体の被蒸
    着物質挿入口に前記被蒸着物質を挿入し、前記耐熱性の
    弾性体からなる保持部材で保持することを特徴とする真
    空装置用治具。 2、被蒸着物質が、保持部材に組付けられた状態で治具
    本体の被蒸着物質挿入口に遊嵌され、治具本体の被蒸着
    物質挿入口に吊り下げるようにしてなる特許請求の範囲
    第1項記載の真空装置用治具。 3、保持部材が、治具本体の被蒸着物質挿入口に近接し
    て固着され、被蒸着物質をこの保持部材の被蒸着物質嵌
    入部を経て治具本体の被蒸着物質挿入口に嵌合するよう
    にしてなる特許請求の範囲第1項または第2項記載の真
    空装置用治具。 4、保持部材が、被蒸着物質をその片面側から押圧し、
    被蒸着物質の他面を治具本体の被蒸着物質挿入口に圧着
    保持するようにしてなる特許請求の範囲第1項乃至第3
    項のいずれかに記載の真空装置用治具。
JP13766682A 1982-08-06 1982-08-06 真空装置用治具 Granted JPS5928570A (ja)

Priority Applications (1)

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JP13766682A JPS5928570A (ja) 1982-08-06 1982-08-06 真空装置用治具

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JP13766682A JPS5928570A (ja) 1982-08-06 1982-08-06 真空装置用治具

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPS5928570A true JPS5928570A (ja) 1984-02-15
JPS6141986B2 JPS6141986B2 (ja) 1986-09-18

Family

ID=15203971

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JP13766682A Granted JPS5928570A (ja) 1982-08-06 1982-08-06 真空装置用治具

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JP (1) JPS5928570A (ja)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2022069171A1 (de) * 2020-09-30 2022-04-07 Oerlikon Surface Solutions Ag, Pfäffikon Federhalterung und werkstückträger

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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2022069171A1 (de) * 2020-09-30 2022-04-07 Oerlikon Surface Solutions Ag, Pfäffikon Federhalterung und werkstückträger

Also Published As

Publication number Publication date
JPS6141986B2 (ja) 1986-09-18

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