JPH0757990A - 電子部品製造用塗布液 - Google Patents
電子部品製造用塗布液Info
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- JPH0757990A JPH0757990A JP20089293A JP20089293A JPH0757990A JP H0757990 A JPH0757990 A JP H0757990A JP 20089293 A JP20089293 A JP 20089293A JP 20089293 A JP20089293 A JP 20089293A JP H0757990 A JPH0757990 A JP H0757990A
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- coating liquid
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- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08K—Use of inorganic or non-macromolecular organic substances as compounding ingredients
- C08K5/00—Use of organic ingredients
- C08K5/16—Nitrogen-containing compounds
- C08K5/20—Carboxylic acid amides
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08K—Use of inorganic or non-macromolecular organic substances as compounding ingredients
- C08K5/00—Use of organic ingredients
- C08K5/36—Sulfur-, selenium-, or tellurium-containing compounds
- C08K5/43—Compounds containing sulfur bound to nitrogen
- C08K5/435—Sulfonamides
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- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
- Non-Metallic Protective Coatings For Printed Circuits (AREA)
- Paints Or Removers (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【構成】 （Ａ）ポリ酢酸ビニルけん化物、（Ｂ）フッ
素系界面活性剤及び場合により（Ｃ）有機第四級アンモ
ニウム化合物を含有する水溶液から成る電子部品製造用
塗布液であって、（Ａ）成分としてあらかじめイオン交
換処理を施したものを用いるのが好ましい。 【効果】 塗膜性及び保存安定性が優れ、また液晶デバ
イスの製造に用いると平坦下層と絶縁膜層との間の空洞
発生を防止することができる。
素系界面活性剤及び場合により（Ｃ）有機第四級アンモ
ニウム化合物を含有する水溶液から成る電子部品製造用
塗布液であって、（Ａ）成分としてあらかじめイオン交
換処理を施したものを用いるのが好ましい。 【効果】 塗膜性及び保存安定性が優れ、また液晶デバ
イスの製造に用いると平坦下層と絶縁膜層との間の空洞
発生を防止することができる。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、各種レジストの酸素遮
断膜、液晶ディスプレイデバイスにおけるガラス切断時
のカレット及びパーティクル付着防止膜、エキシマ用ポ
ジ型レジストのパターン形状劣化防止膜などの形成に使
用される電子部品製造用塗布液に関するものである。
断膜、液晶ディスプレイデバイスにおけるガラス切断時
のカレット及びパーティクル付着防止膜、エキシマ用ポ
ジ型レジストのパターン形状劣化防止膜などの形成に使
用される電子部品製造用塗布液に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】近年、小型テレビ、自動車、航空機の計
器パネルなどにカラー表示の液晶ディスプレイが普及さ
れるようになって以来カラーフィルターの需要が急速に
増加してきている。
器パネルなどにカラー表示の液晶ディスプレイが普及さ
れるようになって以来カラーフィルターの需要が急速に
増加してきている。
【０００３】このカラーフィルターの製造方法として
は、染色法、印刷法、顔料分散法などが知られている
が、コストの面で有利なことから、工業的には顔料分散
法が注目を集めている。この顔料分散法は、基板上に遮
光膜を施し、その上に着色レジストと酸素遮断膜を塗布
したのち、フォトマスクを介して露光後現像処理を行う
という工程を繰り返してレッド、グリーン及びブルーの
３色のレジストパターンを形成させる方法である。この
際、酸素遮断膜としては、一般にポリビリルアルコール
が用いられているが、これを用いてレジストパターンを
形成させると、その断面形状が逆台形状になり、レジス
トパターン上に平坦下層や絶縁膜層を設けた場合に、レ
ジスト層と平坦下層又は絶縁膜層との間に空洞を生じ、
これが画線欠陥や接続不良の原因となり液晶デバイスの
品質不良をもたらすという欠点があった。
は、染色法、印刷法、顔料分散法などが知られている
が、コストの面で有利なことから、工業的には顔料分散
法が注目を集めている。この顔料分散法は、基板上に遮
光膜を施し、その上に着色レジストと酸素遮断膜を塗布
したのち、フォトマスクを介して露光後現像処理を行う
という工程を繰り返してレッド、グリーン及びブルーの
３色のレジストパターンを形成させる方法である。この
際、酸素遮断膜としては、一般にポリビリルアルコール
が用いられているが、これを用いてレジストパターンを
形成させると、その断面形状が逆台形状になり、レジス
トパターン上に平坦下層や絶縁膜層を設けた場合に、レ
ジスト層と平坦下層又は絶縁膜層との間に空洞を生じ、
これが画線欠陥や接続不良の原因となり液晶デバイスの
品質不良をもたらすという欠点があった。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】本発明は、前記した顔
料分散法における欠点を克服し、レジストパターンを形
成したとき、その断面形状が方形状又は台形状となり、
レジスト層と平坦下層又は絶縁膜層との間に空洞を生じ
ることのない材料を提供することを目的としてなされた
ものである。
料分散法における欠点を克服し、レジストパターンを形
成したとき、その断面形状が方形状又は台形状となり、
レジスト層と平坦下層又は絶縁膜層との間に空洞を生じ
ることのない材料を提供することを目的としてなされた
ものである。
【０００５】
【課題を解決するための手段】本発明者らは、顔料分散
法におけるレジストパターンの断面形状を左右する要因
について種々検討を重ねた結果、それがレジスト層の上
に施される酸素遮断膜の組成に影響されること、及びこ
れを形成させるための塗布液として、ポリビニルアルコ
ールすなわちポリ酢酸ビニルけん化物に対し、フッ素系
界面活性剤又はこれと有機第四級アンモニウム化合物と
を配合したものを用いれば断面形状に起因する欠点が改
善されることを見出し、この知見に基づいて本発明をな
すに至った。
法におけるレジストパターンの断面形状を左右する要因
について種々検討を重ねた結果、それがレジスト層の上
に施される酸素遮断膜の組成に影響されること、及びこ
れを形成させるための塗布液として、ポリビニルアルコ
ールすなわちポリ酢酸ビニルけん化物に対し、フッ素系
界面活性剤又はこれと有機第四級アンモニウム化合物と
を配合したものを用いれば断面形状に起因する欠点が改
善されることを見出し、この知見に基づいて本発明をな
すに至った。
【０００６】すなわち、本発明は、（Ａ）ポリ酢酸ビニ
ルけん化物、（Ｂ）フッ素系界面活性剤及び場合により
（Ｃ）有機第四級アンモニウム化合物を含有する水溶液
から成る電子部品製造用塗布液を提供するものである。
ルけん化物、（Ｂ）フッ素系界面活性剤及び場合により
（Ｃ）有機第四級アンモニウム化合物を含有する水溶液
から成る電子部品製造用塗布液を提供するものである。
【０００７】本発明の（Ａ）成分としてはポリビニルア
ルコールを主体とする重合体が用いられるが、これは常
法に従いポリ酢酸ビニルをけん化すなわち加水分解する
ことによって製造される。
ルコールを主体とする重合体が用いられるが、これは常
法に従いポリ酢酸ビニルをけん化すなわち加水分解する
ことによって製造される。
【０００８】これまで、カラーフィルターの製造の際に
保護膜や酸素遮断膜として用いられているポリビニルア
ルコールは、通常重合度１０００〜３０００、けん化度
９８〜１００％のものが好適とされていたが（例えば特
開昭６１−１８６９３５号公報参照）、本発明において
は重合度３００〜７００、けん化度８６．５〜８９．０
％の範囲のものを用いるのが好ましい。このようなポリ
ビニルアルコールは市販品として入手可能であり、日本
合成化学工業（株）から「ゴーセノール」（登録商
標）、信越化学工業（株）から「信越ポバール」、ユニ
チカ（株）から「ユニチカポバール」、クラレ（株）か
ら「クラレポバール」として市販されている。このほか
重合度３００〜７００、けん化度９７．０〜９８．５％
のものも用いることができるが、これよりもけん化度が
高いものは、ポリビニルアルコール水溶液を調製した後
ゲル化を生じ、保存安定性が低下するので好ましくな
い。
保護膜や酸素遮断膜として用いられているポリビニルア
ルコールは、通常重合度１０００〜３０００、けん化度
９８〜１００％のものが好適とされていたが（例えば特
開昭６１−１８６９３５号公報参照）、本発明において
は重合度３００〜７００、けん化度８６．５〜８９．０
％の範囲のものを用いるのが好ましい。このようなポリ
ビニルアルコールは市販品として入手可能であり、日本
合成化学工業（株）から「ゴーセノール」（登録商
標）、信越化学工業（株）から「信越ポバール」、ユニ
チカ（株）から「ユニチカポバール」、クラレ（株）か
ら「クラレポバール」として市販されている。このほか
重合度３００〜７００、けん化度９７．０〜９８．５％
のものも用いることができるが、これよりもけん化度が
高いものは、ポリビニルアルコール水溶液を調製した後
ゲル化を生じ、保存安定性が低下するので好ましくな
い。
【０００９】本発明の塗布液は、このポリビニルアルコ
ールを固形分重量に基づき１〜２０倍重量、好ましくは
２〜１０倍重量の水に溶解して調製される。この水溶液
は、あらかじめ、陽イオン交換樹脂単独又は陽イオン交
換樹脂と陰イオン交換樹脂の両方を通して、その中に含
まれているアルカリ金属イオン特にナトリウムイオンの
濃度が０．１ｐｐｍ以下、好ましくは０．０５ｐｐｍ以
下になるように除去しておくのが有利である。
ールを固形分重量に基づき１〜２０倍重量、好ましくは
２〜１０倍重量の水に溶解して調製される。この水溶液
は、あらかじめ、陽イオン交換樹脂単独又は陽イオン交
換樹脂と陰イオン交換樹脂の両方を通して、その中に含
まれているアルカリ金属イオン特にナトリウムイオンの
濃度が０．１ｐｐｍ以下、好ましくは０．０５ｐｐｍ以
下になるように除去しておくのが有利である。
【００１０】この際に用いる陽イオン交換樹脂としては
スチレンとジビニルベンゼンの共重合物を基本骨格とし
たもの、例えばオルガノ（株）から市販されているアン
バーライト（登録商標）ＩＲ−１２０Ｂ、ＩＲ−１１８
Ｈ、ＩＲ−１２２、ＩＲ−１２４などの酸性陽イオン交
換樹脂が、また、陰イオン交換樹脂としては、やはりオ
ルガノ（株）から市販されているアンバーライトＩＲＡ
−４１０、ＩＲＡ−４１１、ＩＲＡ−９１０、ＩＲＡ−
４００などの塩基性陰イオン交換樹脂が好適である。こ
れらの中で最も好ましい陽イオン交換樹脂は、アンバー
ライトＩＲ−１２０Ｂであり、最も好ましい陰イオン交
換樹脂はアンバーライトＩＲＡ−４１０である。このイ
オン交換処理を施すことにより、金属イオンを除去しう
るとともに、電子部品製造用塗布液としたときの保存安
定性が向上する。
スチレンとジビニルベンゼンの共重合物を基本骨格とし
たもの、例えばオルガノ（株）から市販されているアン
バーライト（登録商標）ＩＲ−１２０Ｂ、ＩＲ−１１８
Ｈ、ＩＲ−１２２、ＩＲ−１２４などの酸性陽イオン交
換樹脂が、また、陰イオン交換樹脂としては、やはりオ
ルガノ（株）から市販されているアンバーライトＩＲＡ
−４１０、ＩＲＡ−４１１、ＩＲＡ−９１０、ＩＲＡ−
４００などの塩基性陰イオン交換樹脂が好適である。こ
れらの中で最も好ましい陽イオン交換樹脂は、アンバー
ライトＩＲ−１２０Ｂであり、最も好ましい陰イオン交
換樹脂はアンバーライトＩＲＡ−４１０である。このイ
オン交換処理を施すことにより、金属イオンを除去しう
るとともに、電子部品製造用塗布液としたときの保存安
定性が向上する。
【００１１】次に、本発明の（Ｂ）成分として用いるフ
ッ素系界面活性剤には、例えば、ペルフルオロ脂肪酸
塩、ペルフルオロ脂肪酸アミド及びそのＮ‐置換誘導
体、ペルフルオロアルキルスルホン酸塩、ペルフルオロ
アルキルスルホン酸アミド及びそのＮ‐置換誘導体、ペ
ルフルオロ脂肪アルコールや、それらのエチレンオキシ
ド付加物などがあるが、特に好適なのは、一般式
ッ素系界面活性剤には、例えば、ペルフルオロ脂肪酸
塩、ペルフルオロ脂肪酸アミド及びそのＮ‐置換誘導
体、ペルフルオロアルキルスルホン酸塩、ペルフルオロ
アルキルスルホン酸アミド及びそのＮ‐置換誘導体、ペ
ルフルオロ脂肪アルコールや、それらのエチレンオキシ
ド付加物などがあるが、特に好適なのは、一般式
【化１】 （式中のＡは−ＳＯ2−又は−ＣＯ−、Ｒfは炭素数６〜
１０のペルフルオロアルキル基例えばペルフルオロヘキ
シル基、ペルフルオロオクチル基など、Ｒは炭素数１〜
４の低級アルキル基、ｎは１〜２０の整数である）で表
わされるフッ素界面活性剤である。
１０のペルフルオロアルキル基例えばペルフルオロヘキ
シル基、ペルフルオロオクチル基など、Ｒは炭素数１〜
４の低級アルキル基、ｎは１〜２０の整数である）で表
わされるフッ素界面活性剤である。
【００１２】このようなフッ素界面活性剤は、例えば東
北肥料（株）よりエフトップ（登録商標）ＥＦ１２１
（ｎ＝１）、ＥＦ１２２Ａ（ｎ＝２０）、ＥＦ１２２Ｂ
（ｎ＝１０）、ＥＦ１２２Ｃ（ｎ＝３）として市販され
ている。これらの中で特にｎが１０以上のものが水溶性
の点で好ましい。
北肥料（株）よりエフトップ（登録商標）ＥＦ１２１
（ｎ＝１）、ＥＦ１２２Ａ（ｎ＝２０）、ＥＦ１２２Ｂ
（ｎ＝１０）、ＥＦ１２２Ｃ（ｎ＝３）として市販され
ている。これらの中で特にｎが１０以上のものが水溶性
の点で好ましい。
【００１３】また、本発明の（Ｃ）成分として用いる有
機第四級アンモニウムは、一般式
機第四級アンモニウムは、一般式
【化２】 （式中のＲ1、Ｒ2、Ｒ3及びＲ4はアルキル基又はヒドロ
キシアルキル基、Ｘ-は陰イオン残基である）で表わさ
れる第四級アンモニウム化合物であって、この中の
Ｒ1、Ｒ2、Ｒ3及びＲ4としては例えばメチル基、エチル
基、プロピル基、ブチル基のような炭素数１〜４の低級
アルキル基又はヒドロキシエチル基、ヒドロキシプロピ
ル基、ヒドロキシブチル基のような炭素数２〜４の低級
ヒドロキシアルキル基を挙げることができる。またＸ-
としては、ハロゲンイオン、硫酸イオン、硝酸イオン、
しゅう酸イオン、酢酸イオンなどの無機酸又は有機酸の
残基を挙げることができるが、特に水酸イオンが好まし
い。
キシアルキル基、Ｘ-は陰イオン残基である）で表わさ
れる第四級アンモニウム化合物であって、この中の
Ｒ1、Ｒ2、Ｒ3及びＲ4としては例えばメチル基、エチル
基、プロピル基、ブチル基のような炭素数１〜４の低級
アルキル基又はヒドロキシエチル基、ヒドロキシプロピ
ル基、ヒドロキシブチル基のような炭素数２〜４の低級
ヒドロキシアルキル基を挙げることができる。またＸ-
としては、ハロゲンイオン、硫酸イオン、硝酸イオン、
しゅう酸イオン、酢酸イオンなどの無機酸又は有機酸の
残基を挙げることができるが、特に水酸イオンが好まし
い。
【００１４】この（Ｃ）成分として特に好ましいものは
テトラメチルアンモニウムヒドロキシド、テトラエチル
アンモニウムヒドロキシド、トリメチル（２‐ヒドロキ
シエチル）アンモニウムヒドロキシド、トリエチル（２
‐ヒドロキシエチル）アンモニウムヒドロキシドなどで
ある。
テトラメチルアンモニウムヒドロキシド、テトラエチル
アンモニウムヒドロキシド、トリメチル（２‐ヒドロキ
シエチル）アンモニウムヒドロキシド、トリエチル（２
‐ヒドロキシエチル）アンモニウムヒドロキシドなどで
ある。
【００１５】本発明の塗布液においては、（Ａ）成分１
００重量部当り、（Ｂ）成分０．１〜２０重量部、好ま
しくは０．５〜１５重量部、（Ｃ）成分を含ませる場合
はこれを０．５〜２０重量部好ましくは０．５〜５重量
部の割合で配合される。上記の（Ｃ）成分は濃度１〜１
０重量％の水溶液として所要量添加するのがよい。
００重量部当り、（Ｂ）成分０．１〜２０重量部、好ま
しくは０．５〜１５重量部、（Ｃ）成分を含ませる場合
はこれを０．５〜２０重量部好ましくは０．５〜５重量
部の割合で配合される。上記の（Ｃ）成分は濃度１〜１
０重量％の水溶液として所要量添加するのがよい。
【００１６】本発明の塗布液は、あらかじめイオン交換
樹脂カラムを通して金属イオンを除去したポリビニルア
ルコール水溶液の中へ、フッ素系界面活性剤を添加する
か、あるいは有機第四級アンモニウム化合物を水溶液と
して加え、さらに所定量のフッ素系界面活性剤を添加し
て、均一に混合、分散させることによって調製すること
ができる。
樹脂カラムを通して金属イオンを除去したポリビニルア
ルコール水溶液の中へ、フッ素系界面活性剤を添加する
か、あるいは有機第四級アンモニウム化合物を水溶液と
して加え、さらに所定量のフッ素系界面活性剤を添加し
て、均一に混合、分散させることによって調製すること
ができる。
【００１７】
【発明の効果】本発明の塗布液は、例えば液晶デバイス
の製造に際し、アクリル系光重合型レジスト層の酸素遮
断膜として用いると、断面形状が方形状ないし台形状の
レジストパターンを生じ、その上に設けられた平坦下層
と絶縁膜層との間に空洞が形成されることはないので、
高品質の電子部品を得ることができる。また、本発明の
塗布液は塗膜性及び保存安定性に優れ、各種電子部品製
造の際のガラス切断時のカレット及びパーティクル付着
防止膜、エキシマ用ポジ型レジストのパターン形状劣化
防止膜としても好適である。
の製造に際し、アクリル系光重合型レジスト層の酸素遮
断膜として用いると、断面形状が方形状ないし台形状の
レジストパターンを生じ、その上に設けられた平坦下層
と絶縁膜層との間に空洞が形成されることはないので、
高品質の電子部品を得ることができる。また、本発明の
塗布液は塗膜性及び保存安定性に優れ、各種電子部品製
造の際のガラス切断時のカレット及びパーティクル付着
防止膜、エキシマ用ポジ型レジストのパターン形状劣化
防止膜としても好適である。
【００１８】
【実施例】次に実施例により本発明をさらに詳細に説明
する。
する。
【００１９】各実施例と比較例においては、次のように
して特性について評価した。 （１）レジストパターンの形状 ＳＥＭ（走査型電子顕微鏡）写真により、形成されたレ
ジストパターンの形状を観察し、台形状となっているも
のを◎、方形状となっているものを○、逆台形状となっ
ているものを×として評価した。
して特性について評価した。 （１）レジストパターンの形状 ＳＥＭ（走査型電子顕微鏡）写真により、形成されたレ
ジストパターンの形状を観察し、台形状となっているも
のを◎、方形状となっているものを○、逆台形状となっ
ているものを×として評価した。
【００２０】（２）絶縁層とレジストパターンの空洞の
有無 形成されたレジストパターンの上に、絶縁層形成用塗布
液を塗布、乾燥し、その形状をＳＥＭ（走査型電子顕微
鏡）写真により観察し、空洞が生じていないものを○、
空洞が生じているものを×として評価した。
有無 形成されたレジストパターンの上に、絶縁層形成用塗布
液を塗布、乾燥し、その形状をＳＥＭ（走査型電子顕微
鏡）写真により観察し、空洞が生じていないものを○、
空洞が生じているものを×として評価した。
【００２１】（３）塗膜性 基板に本願塗布液をスピンコートし、形成された塗布液
層を目視の観察により、塗布むらが生じていないものを
○、塗布むらが生じたり、基板全面に塗布されていない
ものを×として評価した。
層を目視の観察により、塗布むらが生じていないものを
○、塗布むらが生じたり、基板全面に塗布されていない
ものを×として評価した。
【００２２】（４）保存安定性 本願塗布液を室温にて、密閉された溶液の状態で、１２
か月間保存し異物が発生していないものを◎、３か月間
保存し異物が発生していないものを○、３か月間保存
し、異物が発生したものを×として評価した。
か月間保存し異物が発生していないものを◎、３か月間
保存し異物が発生していないものを○、３か月間保存
し、異物が発生したものを×として評価した。
【００２３】実施例１ ゴーセノール（登録商標名、日本合成化学工業社製ポリ
ビニルアルコール、重合度３００、けん化度８７．６
％）１０重量部を水９０重量部に溶解し、ポリビニルア
ルコール水溶液を調製した。
ビニルアルコール、重合度３００、けん化度８７．６
％）１０重量部を水９０重量部に溶解し、ポリビニルア
ルコール水溶液を調製した。
【００２４】次に、この水溶液をアンバーライトＩＲ−
１２０Ｂ（オルガノ社製）を充填したカラムに通し、金
属イオンを除去した。その結果、金属イオンの濃度を測
定したところ、ナトリウムイオンが２０ｐｐｂ、カリウ
ムイオンが２５ｐｐｂであった。
１２０Ｂ（オルガノ社製）を充填したカラムに通し、金
属イオンを除去した。その結果、金属イオンの濃度を測
定したところ、ナトリウムイオンが２０ｐｐｂ、カリウ
ムイオンが２５ｐｐｂであった。
【００２５】次いで、上記金属イオンを除去したポリビ
ニルアルコール水溶液に２．３８重量％テトラメチルア
ンモニウムヒドロキシド水溶液を１５重量部、ＥＦ−１
２２Ａ（東北肥料社製フッ素系界面活性剤）を０．７５
重量部加え、電子部品用塗布液を調製した。
ニルアルコール水溶液に２．３８重量％テトラメチルア
ンモニウムヒドロキシド水溶液を１５重量部、ＥＦ−１
２２Ａ（東北肥料社製フッ素系界面活性剤）を０．７５
重量部加え、電子部品用塗布液を調製した。
【００２６】感光性樹脂組成物カラーモザイク（富士ハ
ント社製）をガラス基板上に塗布し、その上に上記の塗
布液を塗布した。その後、マスクパターンを介し、紫外
線を照射して露光したのち、炭酸ナトリウム０．５％水
溶液で現像した。レジストパターンの形状、絶縁層とレ
ジストパターンの空洞の有無、塗膜性及び保存安定性に
ついての結果を表１に示す。
ント社製）をガラス基板上に塗布し、その上に上記の塗
布液を塗布した。その後、マスクパターンを介し、紫外
線を照射して露光したのち、炭酸ナトリウム０．５％水
溶液で現像した。レジストパターンの形状、絶縁層とレ
ジストパターンの空洞の有無、塗膜性及び保存安定性に
ついての結果を表１に示す。
【００２７】実施例２ 実施例１において、ゴーセノールをクラレポバール（登
録商標名、クラレ社製ポリビニルアルコール、重合度４
００、けん化度８６．２％）に代え、かつテトラメチル
アンモニウムヒドロキシド水溶液を加えずに、他は実施
例１と同様にして、電子部品製造用塗布液を調製した。
次いで、実施例１と同様にして、レジストパターンの形
状、絶縁層とレジストパターンの空洞の有無、塗膜性及
び保存安定性についての評価を行った。その結果を表１
に示す。
録商標名、クラレ社製ポリビニルアルコール、重合度４
００、けん化度８６．２％）に代え、かつテトラメチル
アンモニウムヒドロキシド水溶液を加えずに、他は実施
例１と同様にして、電子部品製造用塗布液を調製した。
次いで、実施例１と同様にして、レジストパターンの形
状、絶縁層とレジストパターンの空洞の有無、塗膜性及
び保存安定性についての評価を行った。その結果を表１
に示す。
【００２８】比較例１ 実施例１におけるゴーセノール１０重量部を水９０重量
部に溶解し、ポリビニルアルコール水溶液を調製し、電
子部品製造用塗布液とした。この塗布液の金属イオンの
濃度を測定したところ、ナトリウムイオン１１０ｐｐ
ｍ、カリウムイオン５０ｐｐｍを含んでいた。次いで、
実施例１と同様にして、レジストパターンの形状、絶縁
層とレジストパターンの空洞の有無、塗膜性及び保存安
定性についての評価を行った。その結果を表１に示す。
部に溶解し、ポリビニルアルコール水溶液を調製し、電
子部品製造用塗布液とした。この塗布液の金属イオンの
濃度を測定したところ、ナトリウムイオン１１０ｐｐ
ｍ、カリウムイオン５０ｐｐｍを含んでいた。次いで、
実施例１と同様にして、レジストパターンの形状、絶縁
層とレジストパターンの空洞の有無、塗膜性及び保存安
定性についての評価を行った。その結果を表１に示す。
【００２９】比較例２ 実施例１におけるゴーセノール１０重量部を水９０重量
部に溶解し、ポリビニルアルコール水溶液を調製し、次
にこの水溶液をアンバーライトＩＲ‐１２０Ｂ（オルガ
ノ社製）を充填したカラムに通し、金属イオンを除去し
た。その結果、ナトリウムイオンが２０ｐｐｂ、カリウ
ムイオンが２５ｐｐｂであった。
部に溶解し、ポリビニルアルコール水溶液を調製し、次
にこの水溶液をアンバーライトＩＲ‐１２０Ｂ（オルガ
ノ社製）を充填したカラムに通し、金属イオンを除去し
た。その結果、ナトリウムイオンが２０ｐｐｂ、カリウ
ムイオンが２５ｐｐｂであった。
【００３０】次いで、上記金属イオンを除去したポリビ
ニルアルコール水溶液に、２．３８重量％テトラメチル
アンモニウムヒドロキシド水溶液を１５重量部加え、電
子部品製造用塗布液とした。次いで、実施例１と同様に
して、レジストパターンの形状、絶縁層とレジストパタ
ーンの空洞の有無、塗膜性及び保存安定性についての評
価を行った。その結果を表１に示す。
ニルアルコール水溶液に、２．３８重量％テトラメチル
アンモニウムヒドロキシド水溶液を１５重量部加え、電
子部品製造用塗布液とした。次いで、実施例１と同様に
して、レジストパターンの形状、絶縁層とレジストパタ
ーンの空洞の有無、塗膜性及び保存安定性についての評
価を行った。その結果を表１に示す。
【００３１】
【表１】
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 中山 寿昌 神奈川県川崎市中原区中丸子150番地 東 京応化工業株式会社内
Claims (8)
- 【請求項１】 （Ａ）ポリ酢酸ビニルけん化物及び
（Ｂ）フッ素系界面活性剤を含有する水溶液から成る電
子部品製造用塗布液。 - 【請求項２】 （Ａ）成分１００重量部当り、（Ｂ）成
分０．１〜２０重量部を用いる請求項１記載の電子部品
製造用塗布液。 - 【請求項３】 （Ａ）成分が重合度３００〜７００、け
ん化度８６．５〜８９．０モル％のポリ酢酸ビニルけん
化物である請求項１又は２記載の電子部品製造用塗布
液。 - 【請求項４】 （Ａ）成分があらかじめ陽イオン交換樹
脂により、あるいは陽イオン交換樹脂と陰イオン交換樹
脂により処理されたものである請求項１ないし３のいず
れかに記載の電子部品製造用塗布液。 - 【請求項５】 （Ａ）ポリ酢酸ビニルけん化物、（Ｂ）
フッ素系界面活性剤及び（Ｃ）有機第四級アンモニウム
化合物を含有する水溶液から成る電子部品製造用塗布
液。 - 【請求項６】 （Ａ）成分１００重量部当り（Ｂ）成分
０．１〜２０重量部、（Ｃ）成分０．５〜２０重量部を
用いる請求項５記載の電子部品製造用塗布液。 - 【請求項７】 （Ａ）成分が重合度３００〜７００、け
ん化度８６．５〜８９．０モル％のポリ酢酸ビニルけん
化物である請求項５又は６記載の電子部品製造用塗布
液。 - 【請求項８】 （Ａ）成分があらかじめ陽イオン交換樹
脂により、あるいは陽イオン交換樹脂と陰イオン交換樹
脂により処理されたものである請求項５ないし７のいず
れかに記載の電子部品製造用塗布液。
Priority Applications (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP20089293A JP2888406B2 (ja) | 1993-08-12 | 1993-08-12 | 電子部品製造用塗布液 |
| US08/289,032 US5457153A (en) | 1993-08-12 | 1994-08-11 | Liquid coating composition |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP20089293A JP2888406B2 (ja) | 1993-08-12 | 1993-08-12 | 電子部品製造用塗布液 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0757990A true JPH0757990A (ja) | 1995-03-03 |
| JP2888406B2 JP2888406B2 (ja) | 1999-05-10 |
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ID=16431993
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| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
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| JP20089293A Expired - Fee Related JP2888406B2 (ja) | 1993-08-12 | 1993-08-12 | 電子部品製造用塗布液 |
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| Country | Link |
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| US (1) | US5457153A (ja) |
| JP (1) | JP2888406B2 (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2001166489A (ja) * | 1999-12-02 | 2001-06-22 | Hyundai Electronics Ind Co Ltd | フォトレジストオーバーコーティング用組成物、及びこれを利用したフォトレジストパターン形成方法 |
| JP2008197215A (ja) * | 2007-02-09 | 2008-08-28 | Sumitomo Chemical Co Ltd | 酸素遮断膜形成用塗布液、及びそれを用いるカラーフィルターの製造方法 |
Families Citing this family (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2001142221A (ja) | 1999-11-10 | 2001-05-25 | Clariant (Japan) Kk | 反射防止コーティング用組成物 |
| US7388069B2 (en) * | 2005-12-16 | 2008-06-17 | Celanese International Corporation | Method to purify poly(vinyl alcohol) |
Family Cites Families (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US4183837A (en) * | 1971-07-05 | 1980-01-15 | Teijin Limited | Liquid coating composition containing vinyl fluoride-hexafluoropropylene resin |
| US4802740A (en) * | 1985-02-13 | 1989-02-07 | Canon Kabushiki Kaisha | Liquid crystal alignment layer containing polyvinyl-alcohol and titanium-alkoxide |
| JPH01121802A (ja) * | 1987-11-06 | 1989-05-15 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | カラーフィルタの製造法 |
| JP3032851B2 (ja) * | 1991-11-08 | 2000-04-17 | 株式会社野田スクリーン | スクリーン版用樹脂組成物、スクリーン版用フィルム、及びスクリーン版 |
-
1993
- 1993-08-12 JP JP20089293A patent/JP2888406B2/ja not_active Expired - Fee Related
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1994
- 1994-08-11 US US08/289,032 patent/US5457153A/en not_active Expired - Lifetime
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2001166489A (ja) * | 1999-12-02 | 2001-06-22 | Hyundai Electronics Ind Co Ltd | フォトレジストオーバーコーティング用組成物、及びこれを利用したフォトレジストパターン形成方法 |
| JP2008197215A (ja) * | 2007-02-09 | 2008-08-28 | Sumitomo Chemical Co Ltd | 酸素遮断膜形成用塗布液、及びそれを用いるカラーフィルターの製造方法 |
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| Publication number | Publication date |
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| JP2888406B2 (ja) | 1999-05-10 |
| US5457153A (en) | 1995-10-10 |
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