KR100539212B1 - 저기포성 감방사선성 조성물용 현상액 - Google Patents

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Abstract

본 발명은 화학식 1의 비이온성 계면활성제, 화학식 2의 비이온성 계면활성제, 알칼리성 화합물 및 물을 함유하는 감방사선성 조성물용 현상액에 관한 것이다.
본 발명에 따른 감방사선성 조성물용 현상액은 칼라필터 포토레지스트, 블랙메트릭스, 포토스페이서등의 감방사선성 조성물에 대하여 양호한 현상성과 패턴의 재현성을 동시에 나타내며, 스프레이 등의 공정에서 발생할 수 있는 기포에 의한 현상시의 문제점을 제거할 수 있는 저기포성이며 현상력이 우수하다.

Description

저기포성 감방사선성 조성물용 현상액{LOW FOAMING DEVELOPER FOR RADIATION SENSITIVE COMPOSITION}
본 발명은 안료 및 포토레지스트 등의 감방사선성 조성물에 대한 양호한 현상성과 패턴의 재현성을 함께 나타내며, 스프레이 등의 공정에서 발생할 수 있는 기포에 의한 현상시의 문제점을 제거할 수 있는 저기포성이고 현상력이 우수한 감방사선성 조성물용 현상액을 제공한다.
일반적으로 칼라 액정 디스플레이는 블랙 메트릭스 수지와 적색, 녹색, 청색 (RGB)의 픽셀을 형성한 칼라필터를 유리 등의 투명 기판 상에 형성하고, 그 위에 ITO glass와 같은 투명 도전막을 스퍼터링 법에 의해 전극으로 형성한 다음, 이 위에 배향막을 다시 형성하고 액정을 주입하는 방법으로 제조된다.
칼라 액정 디스플레이에 사용되는 칼라필터를 형성하는 방법은 다양하나, 유기안료 및 무기안료를 분산시킨 감광성 조성물을 투명 기판상에 도포한 후, 광조사 및 현상 처리하는 안료 분산법이 주로 사용되고 있다.
안료분산법은 칼라필터 화소의 위치, 막 두께의 정밀도가 높고 수명이 길며 핀홀 등의 문제가 적기 때문에 컴퓨터를 비롯한 액정디스플레이에 적용되고 있으며, 유기안료 혹은 무기안료를 분산시킨 칼라포토레지스트를 스핀(spin) 및 슬릿(slit) 코팅하여 특정한 화소의 패턴을 성형하는 방법으로 칼라 필터를 제조한다.
칼라필터 형성을 위한 현상처리시 일반적으로 수산화칼륨(KOH), 테트라메틸 암모늄 수산화물(TMAH) 등의 알칼리성 현상액이 사용되고 있는데, 이러한 현상액은 현상 공정에 있어서 감광성 조성물에 포함된 착색 또는 차광을 위한 유기안료 및 무기안료와 감광성 수지 성분으로 신속하게 침투하여 용해 및 분산시켜 미용해물이 잔류하지 않고 현상 잔류 및 재부착 등에 의한 잔사의 문제를 발생시키지 않아야 한다.
또한, 현상처리의 반복이나 공기중의 탄산가스의 흡수에 의한 현상 성능의 변화가 발생하지 않아야 하며 선명한 패턴 에지를 갖는 화소를 형성시킬 수 있어야 한다.
알칼리성 현상액으로 테트라메틸 암모늄 수산화물 수용액이 폭넓게 사용되고 있으나, 이 현상액으로는 불필요한 도막을 충분히 제거시킬 수 없고 얻어지는 픽셀에 스컴이 발생할 뿐만 아니라, 우수한 패턴 에지를 갖는 픽셀을 형성하기 어렵다.
따라서, 현상액의 성능을 향상시킬 목적으로 여러가지 계면활성제를 알칼리 성분에 첨가하는 방안이 제안되었다.
일본특허공개 평7-120935호에서는 알칼리성 화합물 및 비이온성 계면활성제를 함유한 수용액으로서 pH가 9~13이고 비이온성 계면활성제의 함유량이 0.01~1.0 중량%인 알칼리성 현상액을 개시하고 있다.
일본특허공개 평9-171261호에서는 비이온성 계면활성제, 강염기성 물질 및 약염기성 물질을 조합하여 제조한 완충성 수용액으로 이루어진 현상액을 개시하고 있다.
일본특허공개 평9-034128호에서는 폴리옥시알킬렌 에테르를 포함하는 비이온성 게면활성제와 무기 알칼리 성분을 함유한 현상액으로 감광량 및 현상조건의 허용범위가 넓고 조건설정이 용이하며, 현상시 기포발생 문제가 적은 현상액을 개시하고 있다.
일본특허공개 평11-305451호에서는 알칸올아민에 에틸렌옥사이드 및 프로필렌옥사이드를 부가한 화합물을, 일본특허공개 평11-242342호에서는 알킬페닐렌기에 에틸렌옥사이드를 부가한 화합물을 안료 분산 칼라포토레지스트의 현상액으로 각각 제안하고 있다.
일본특허공개 평11-249322호에서는 알칼리화합물로 무기 알칼리 외에 알카놀아민을 제2성분으로 사용하고 알킬(알킬아릴)기에 폴리옥시에틸렌과 폴리옥시프로필렌을 부가한 비이온계면활성제를 사용하여 감방사선성 조성물에 함유되어 있는 안료의 농도가 높은 경우에도 미용해물이 잔존하지 않으며 스컴, 현상잔류, 재부착 등의 문제는 발생시키지 않고 선명한 패턴 에지를 갖는 화소를 형성할 수 있는 알칼리성 현상액을 개시하고 있다.
일본특허공개 평11-288102호에서는 유기 알칼리 성분을 이용하여 레지스트 용해부의 용해성 증가 및 비용해부의 용해성 억제를 통한 용해 선택성 증가를 위한 현상액을 개시하고 있다.
일본특허공개 2000-066415호에서는 무기 알칼리 성분을 각각 달리한 현상액을 개시하고 있다.
유럽특허 제 1115035호에서는 아세틸렌닉 디올에 에틸렌 옥사이드와 프로필렌 옥사이드를 부가하는 제조방법 및 이를 이용한 유기 알칼리 성분을 함유하는 수계 현상액으로의 용도를 개사하고 있다.
그러나, 칼라필터 제조공정의 속도를 향상시키기 위해 현상액에 침적하여 감방사선성 조성물을 현상하는 방식에서 벗어나 현상액을 감방사선성 조성물에 직접 뿌리는 스프레이 방식으로 생산공정이 변하고 있기 때문에 현상액 내에 함유되어 있는 계면활성제에 의한 다량의 기포 발생이 생산성을 저하시키는 문제점으로 이에 대한 해결방안이 모색되고 있다.
본 발명은 칼라필터 포토레지스트, 블랙메트릭스, 포토스페이서 등의 감방사선성 조성물에 대하여 동시에 양호한 현상성과 패턴의 재현성을 나타내며 스프레이 등의 공정에서 발생할 수 있는 기포에 의한 현상시의 문제점을 제거할 수 있는 저기포성이며 현상력이 우수한 감방사선성 조성물용 현상액을 제공한다.
본 발명은 상기 목적을 달성하기 위하여 방향족 알코올에 알킬렌 옥사이드가 부가된 비이온성 계면활성제, 방향족 알코올에 알킬렌 옥사이드가 부가된 비이온성 계면활성제, 알칼리성 화합물 그리고 물을 함유하는 저기포성 감방사선성 조성물용 현상액을 제공한다.
상기 기술적 과제를 달성하기 위하여 본 발명은 구체적으로 방향족 알코올에 알킬렌 옥사이드가 부가된 하기 화학식 1의 비이온성 계면활성제 5 ~ 20 중량%, 하기 화학식 2의 비이온성 계면활성제 0.5 ~ 5 중량%, 알칼리성 화합물 1 ~ 10 중량% 및 잔량의 물을 함유하는 저기포성 감방사선성 조성물용 현상액을 제공한다.
본 발명의 현상액은 하기 화학식 1로 표시되는 비이온성 계면활성제를 5 ~ 20 중량% 함유한다.
상기 화학식 1에서, n은 1 내지 3인 정수이고, AO는 옥시에틸렌기, 옥시프로필렌기, 폴리옥시에틸렌· 폴리옥시프로필렌 블록 공중합체로 이루어진 군으로부터 선택된 일종 이상이고, m은 5 내지 30인 정수이다.
상기 화학식 1의 비이온성 계면활성제는, HLB 범위가 12 ~ 15 이고, 표면장력 범위가 38 ~ 45 dyne/cm인 것이 바람직하다.
AO는 옥시에틸렌기, 옥시프로필렌기 또는 폴리옥시에틸렌·폴리옥시프로필렌 블록 공중합체로서, m은 현상액의 세정성과 저기포성을 고려할 때 6 내지 20의 정수인 것이 바람직하다.
상기 화학식 1의 대표적인 비이온성 계면활성제는 AGNIQUE DSP-13, AGNIQUE TSP-16 (이상, Cognis 제품), Emulsogen TS 160, Emulsogen TS 200 (이상, Clariant 제품), SPK, M-TSP1026 (이상, 동남합성(주) 제품) 등이 있다.
본 발명의 현상액에 있어서, 화학식 1의 비이온성 계면활성제는 우수한 유화분산력, 저기포성을 나타내며, 현상시 피세정물에 대한 세정 및 분산효과가 우수하여 보다 양호한 현상성과 패턴의 재현성을 나타내도록 해준다.
화학식 1로 표시되는 비이온성 계면활성제의 함량은 전체 현상액 100 중량%에 대해 5 ~ 20 중량%, 바람직하게는 10 ~ 15 중량%이다.
상기 함량이 5 중량% 미만이면 비노광부의 도막으로부터 용출된 피세정물인 수지 및 안료 입자들을 신속하게 현상액 내로 분산시키는 것이 어렵고, 현상 잔여물 등이 기판 표면에 재부착하는 문제점이 있다.
또한, 상기 함량이 20 중량%를 초과하면, 수용액에 대한 용해도의 감소로 현상액의 경시변화를 나타내거나, 분산된 입자를 재응집시키거나, 계면활성제가 기판에 잔류하게 되고, 현상액의 거품 발생 정도가 심해져서 현상 작업성이 저하되는 문제가 있다.
본 발명의 현상액은 또한 하기 화학식 2로 표시되는 비이온성 계면활성제를 0.5 ~ 5 중량% 함유한다.
상기 화학식 2에서, AO는 옥시에틸렌기, 옥시프로필렌기 및 폴리옥시에틸렌·폴리옥시프로필렌 블록 공중합체로 이루어진 군으로부터 선택된 일종 이상이고 , n은 1 내지 40인 정수이다.
화학식 2의 비이온성 계면활성제는, 그의 HLB 범위가 8~18 이고, 표면장력 범위가 35~45 dyne/cm인 것이 바람직하다.
상기 화학식 2의 대표적인 비이온성 계면활성제는 Surfynol 440, Surfynol 465, Surfynol 485, surfynol 2502 (이상, Air product 제품) 등이 있다.
본 발명의 현상액에 있어서, 화학식 2의 비이온성 계면활성제는 우수한 침투력, 저기포성을 나타내며, 현상시 비노광부의 도막에 대한 침투 효과가 우수하여 보다 짧은 시간에 현상될 수 있도록 한다.
화학식 2로 표시되는 비이온성 계면활성제의 함량은 전체 현상액 100 중량%에 대해 0.5 ~ 5 중량%, 바람직하게는 1 ~ 3 중량%이다.
함량이 0.5 중량% 미만이면 비노광부의 도막에 대한 침투력이 낮아 현상시간이 지연되고, 용출된 피세정물인 수지 및 안료 입자들을 신속하게 현상액 내로 분산시키는 것이 어렵고, 현상 잔여물 등이 기판 표면에 재부착하는 문제점이 있다.
또한, 그 함량이 5 중량%를 초과하면, 수용액에 대한 용해도의 감소로 현상액의 경시변화를 나타내거나, 침투력의 증가로 인해 감광성 수지 전체가 기판에서 박리되어 선택적인 패턴 형성이 어려워지고, 현상액의 거품 발생 정도가 심해져서 현상 작업성이 저하되며 계면활성제 자체가 기판에서 잔여물로 남아 표면 얼룩이 생기는 문제가 있다.
또한, 본 발명에서 사용하는 비이온성 계면활성제는 현상된 감방사선성 조성물에 대한 유화분산력과 표면장력을 저하시키는 능력에 의한 침투력이 우수하여 비노광부의 감방사선성 조성물과 기판 사이에 작용하는 표면장력을 저하시켜 쉽게 감방사선성 조성물이 제거되도록 하며, 또한 상기 제거된 조성물의 바인더나 폴리머 등에 대한 유화분산, 재부착 방지 등의 기능을 한다.
본 발명의 현상액에 있어서, 감방사선성 조성물을 용해할 목적으로 알칼리 성분을 전체 현상액 100 중량%에 대해 1 ~ 10 중량%를 함유한다.
기판 상의 감방사선성 조성물을 세정, 제거하는 현상액은 무기 알칼리 현상액, 유기 알칼리 현상액, 무기, 유기 혼합 형태의 현상액들이 공지되어 있다.
유기 알칼리 및 유기아민을 주성분으로 하는 현상액은 용제 휘발 후 잔존 이물질이 거의 없어 장비에 대한 부식이 없으며 감방사선성 조성물에 대한 용해도가 우수하여 뛰어난 감방사선성 조성물 제거 성능을 나타낸다. 그 예로는 테트라메틸 암모늄 수산화물, 테트라에틸 암모늄 수산화물 등의 테트라 알킬 암모늄 수산화물류 화합물, 모노메틸아민, 디메틸아민, 트리메틸아민, 에틸아민, 디에틸아민, 트리에틸아민, 이소프로필아민 등의 알킬아민류 화합물, 에틸알코올아민, 2-디메틸아미노에탄올, 2-디에틸아미노에탄올, 2-디이소프로필아미노에탄올 등의 알칸올 아민류 화합물 등이 사용될 수 있다.
무기 알칼리 현상액은 장시간 사용시에도 공기 중에 포함되어 있는 탄산가스에 의한 영향을 적게 받으므로 현상액이 열화될 우려가 거의 없고, 경시 안정성 또한 우수하다는 장점이 있고 특히, 수산화칼륨은 칼라필터를 장착한 액정 표시장치의 전자구동 회로에 지장을 초래하는 나트륨을 함유하지 않기 때문에 부식에 의한 문제를 방지할 수 있으므로 더욱 선호될 수 있다. 그 예로는 수산화칼륨, 수산화나트륨, 탄산나트륨 등을 들수 있다.
본 발명의 현상액 조성물에 사용되는 알칼리성 화합물은 상기 유기 화합물 또는 무기 화합물이 사용될 수 있으며, 특히 수산화칼륨, 수산화나트륨, 탄산나트륨으로 이루어진 군으로부터 선택된 무기알칼리 화합물이 바람직하다.
이러한 알칼리성 화합물들은 단독 또는 2종 이상을 혼합하여 사용될 수 있다.
상기 알칼리성 화합물의 함량은 1 내지 10 중량%가 바람직하며, 그 함량이 1 중량% 미만이면 감방사선성 조성물을 구성하는 고분자 성분에 대한 용해력이 떨어져 감방사선성 조성물을 완전하게 제거하기 어렵고, 10 중량%를 초과하면 형성된 패턴에 대한 팽윤 현상만 심해지고 무기 알칼리 금속이 석출되면서 현상액의 조성을 변화시켜 일정 조성에서는 층분리가 발생하여 성능에 악영향을 미친다.
본 발명에 따른 현상액이 적용되는 현상 방법은 특별히 한정되지 않으며, 침지 현상법, 요동 현상법, 샤워·스프레이 현상법, 퍼들 현상법 등의 방법에 적용될 수 있다. 본 발명의 현상액은 형성된 도막을 현상할 때 매우 유용한 것으로서, 현상 성능에 대한 경시적 안정성이 우수할 뿐만 아니라, 블랙 매트릭스, 포토 레지시트 와 같이 조사된 빛에 대한 투과율이 낮은 감광성 조성물을 이용하여 칼라 필터의 제조시에도 불필요한 미립자와 수지 성분을 충분히 분산, 용해시킬 수 있다. 또한, 현상 잔여물이 생기지 않으며 기판 위에 유기안료, 무기안료나 수지가 재부착되지 않을 뿐만 아니라, 픽셀이 누락되거나 막이 벗겨지는 등의 문제가 없는 기판과의 밀착이 매우 우수한 픽셀을 형성할 수 있다.
이상과 같은 본 발명의 현상액은 종래와 비교하여 안료 및 포토레지스트 등의 감방사선성 조성물에 대한 양호한 현상성과 패턴의 재현성을 나타내며 스프레이 등의 공정에서 발생할 수 있는 기포에 의한 현상시의 문제점을 제거할 수 있는 저기포성이며 현상력이 우수한 감방사선성 조성물용 현상액을 제공할 수 있다.
이하, 본 발명을 구체적으로 설명하기 위해 실시예 및 비교예를 들어 상세하게 설명하기로 한다.
그러나, 본 발명에 따른 실시예들은 여러 가지 다른 형태로 변형될 수 있으며, 본 발명의 범위가 아래에서 상술하는 실시예들에 한정되는 것으로 해석되어져서는 안된다.
실시예
비교예 1 및 비교예 2 그리고 실시예 1 내지 13
1. 현상액의 제조
교반기가 설치되어 있는 혼합조에 하기 표 1과 2에 기재된 성분과 함량에 따라 수산화칼륨, 화학식 1의 비이온성 계면활성제, 화학식 2의 비이온성 계면활성제를 순차적으로 첨가하고, 여기에 총 중량이 100중량%가 되도록 초순수를 가한 후, 상온에서 0.5∼1시간 동안 200∼600rpm의 속도로 교반하여 현상액 원액을 제조하였다. 이어서, 제조한 현상액 원액을 초순수로 100배 희석하여 현상액을 제조하였다.
이상과 같이 제조한 각각의 비교예와 실시예에 따른 현상액의 pH, 표면장력, 침투력, 기포성, 현상력, 시간 경과에 따른 변화를 하기 기준에 따라 평가하여 표 1과 표 2에 나타내었다.
2. 기포성 평가
상기 제조한 현상액을 100배 희석하여 기포성을 평가하였다. 용량 200mL의 유리관에 20mL의 현상액을 넣고 100ml/min의 유량으로 질소기체를 버블링(bubbling)하여 기포체적이 100cm3이 될 때까지의 시간을 측정하여 아래와 같이 5 단계로 기포성을 평가하였다.
5 : 400초 이상
4 : 300 ~ 400초
3 : 200 ~ 300초
2.: 100 ~ 200초
1 : 100초 이하
3. 유화분산성 평가
상기 제조한 현상액을 100배 희석하여 유화분산성을 평가하였다. 용량 200mL의 유리관에 20mL의 현상액을 넣고 감방사선성 조성물 원액을 1%의 농도로 유화분산시킨 후 시간에 따른 유화분산 안정성을 평가하였다.
5 : 100시간 이상 안정
4 : 80 ~ 100시간
3 : 60 ~ 80시간
2 : 40 ~ 60시간
1 : 40시간 이하
4. 시간 경과에 따른 변화 평가
현상액 원액을 상온(20℃/1개월)과 고온(40℃/7일)에서 각각 보존한 후, 현상액 원액의 외관 성상을 육안으로 평가하여 백탁 현상이나 상이 분리되는 현상이 나타나는 경우를 '미흡'으로, 그렇지 않은 경우를 '우수'라고 평가하였다.
5. 현상 평가
5-1. 시편의 제조
코닝 (제품번호1737, 5 x 5 x 0.7 cm)사 시험용 유리 기판위에 스핀 코터(spin coater)를 이용하여 레지스트 (동우화인켐 사제)를 최종 막두께 1.9 ~ 2.0㎛가 되도록 스킨 코팅하였다. 이어서 convention 오븐내에서 100℃로 3분간 프리베이크(pre- bake)를 실시 하였다. 이어서 150 mJ/cm2 의 노광량으로 노광한 후 현상력 시험을 위한 시편을 제조 하였다.
5-2. 현상력 시험
위에서 준비된 시편으로 현상력 시험을 실시하였다. 현상력 시험 방법은 온도 26℃ 에서 코닝사 핫 플레이트위에 500ml 비이커를 준비하고 250ml의 현상액을 채운 후 마그네틱 바를 회전시키면서 침적하여 현상을 실시하였다. 일정 시간 현상 후 상기 시편을 꺼내어 초순수에 수세하여 린스를 실시하였다. 질소가스로 건조시킨 후 이어서 프리베이크(pre-bake)를 실시한 동일한 종류의 오븐에서 220℃로 20분간 하드베이크(hard-bake)를 실시 하였다.
5-3. 현상력 평가
상기의 현상된 시편을 주사전자현미경(SEM: 히다찌사, 모델명 S-4100)으로 검사하여 형성된 패턴 주변의 비노광부의 잔류여부 및 레지스트의 패턴 에지를 평가하고 그 결과를 하기 표 1과 표 2에 나타냈다.
5 : 패턴 에지가 선명하고 잔류물이 완전히 제거된 경우
4 : 패턴 에지가 선명하고 잔류물이 소량 잔류한 경우
3 : 패턴 에지가 늘어지고 잔류물이 소량 잔류한 경우
2 : 패턴 에지가 늘어지고 잔류물이 다량 잔류한 경우
1 : 현상불량으로 비교가 불가능한 경우
실시예 비교예1 비교예2 1 2 3 4 5 6
현상액조성비(중량%) 화학식 1의 계면활성제(M-TSP1026) 13 - 12 11 10 8 12 10
화학식 2의 계면활성제(Surfynol 465) - 13 1 2 3 5 1 3
알칼리성 화합물(KOH) 4 4 4 4 4 4 5 5
초순수 현상액을 100 중량%로 만드는 잔량
물성 pH (100배 희석액) 11.8 11.8 11.8 11.9 11.9 11.9 11.9 11.9
표면장력 (mN/m) 42.4 38.9 41.8 41.0 40.2 39.8 42.0 40.4
저기포성 4 5 5 5 5 5 5 5
유화분산성 5 1 5 5 5 4 5 4
시간경과에 따른 변화 우수 우수 우수 우수 우수 우수 우수 우수
현상력 칼라포토레지스트 3 2 5 5 5 5 5 5
블랙메트릭스 2 2 5 5 5 4 5 4
포토스페이서 3 3 5 5 5 5 5 5
실시예 7 8 9 10 11 12 13
현상액조성비(중량%) 화학식 1의 계면활성제(M-TSP1026) 8 8 10 12 14 16 18
화학식 2의 계면활성제(Surfynol 465) 5 2 2 2 2 2 2
알칼리성 화합물(KOH) 5 4 4 4 4 4 4
초순수 현상액을 100 중량%로 만드는 잔량
물성 pH (100배 희석액) 11.9 11.8 11.9 11.9 11.9 11.9 11.9
표면장력 (mN/m) 39.9 38.4 40.5 40.6 41.0 41.1 41.5
저기포성 5 5 5 5 4 4 4
유화분산성 3 4 5 5 5 5 5
시간경과에 따른 변화 우수 우수 우수 우수 우수 우수 우수
현상력 칼라포토레지스트 5 5 5 5 5 5 5
블랙메트릭스 4 4 5 5 5 4 4
포토스페이서 5 5 5 5 5 5 5
이상에서 살펴본 바와 같이, 본 발명은 감방사선성 조성물용 현상액에 관한 것으로서 칼라필터 포토레지스트, 블랙메트릭스, 포토스페이서 등의 감방사선성 조성물에 대하여 동시에 양호한 현상성과 패턴의 재현성을 나타내며 스프레이 등의 공정에서 발생할 수 있는 기포에 의한 현상시의 문제점을 제거할 수 있는 저기포성이며 현상력이 우수한 감방사선성 조성물용 현상액을 제공할 수 있다.
도 1은 비교예 1에 따른 현상공정 후 결과를 나타낸 도면이고,
도 2는 비교예 2에 따른 현상공정 후 결과를 나타낸 도면이며,
도 3은 본 발명의 실시예 1에 따른 현상공정후 결과를 나타낸 도면이고,
도 4는 본 발명의 실시예 10에 따른 현상공정후 결과를 나타낸 도면이다.

Claims (6)

  1. 하기 화학식 1의 비이온성 계면활성제 5 ~ 20 중량%, 하기 화학식 2의 비이온성 계면활성제 0.5 ~ 5 중량%, 알칼리성 화합물 1 ~ 10 중량% 및 잔량의 물을 함유하는 저기포성 감방사선성 조성물용 현상액:
    [화학식 1]
    (상기 화학식 1에서, n은 1 내지 3인 정수이고, AO는 옥시에틸렌기, 옥시프로필렌기 및 폴리옥시에틸렌·폴리옥시프로필렌 블록 공중합체로 이루어진 군으로부터 선택된 일종 이상이며, m은 5 내지 30인 정수이다)
    [화학식 2]
    (상기 화학식 2에서, AO는 옥시에틸렌기, 옥시프로필렌기 및 폴리옥시에틸렌·폴리옥시프로필렌 블록 공중합체로 이루어진 군으로부터 선택된 일종 이상이고 , n은 1 내지 40인 정수이다).
  2. 제 1 항에 있어서, 화학식 1의 비이온성 계면활성제는 그의 HLB가 12 ~ 15 이고, 표면장력이 38 ~ 45 dyne/cm인 저기포성 감방사선성 조성물용 현상액.
  3. 제 1 항에 있어서, 화학식 1의 비이온성 계면활성제의 함량이 10 내지 15 중량%인 저기포성 감방사선성 조성물용 현상액.
  4. 제 1 항에 있어서, 화학식 2의 비이온성 계면활성제는, 그의 HLB가 8 ~ 18 이고, 표면장력이 35 ~ 45 dyne/cm인 저기포성 감방사선성 조성물용 현상액.
  5. 제 1 항에 있어서, 화학식 2의 비이온성 계면활성제의 함량이 1 내지 3 중량%인 저기포성 감방사선성 조성물용 현상액.
  6. 제 1 항에 있어서, 알칼리성 화합물은 수산화칼륨, 수산화나트륨, 탄산나트륨으로 이루어진 군으로부터 선택되는 저기포성 감방사선성 조성물용 현상액.
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