KR100571492B1 - 환경친화형 감방사선성 조성물용 현상액 - Google Patents

환경친화형 감방사선성 조성물용 현상액 Download PDF

Info

Publication number
KR100571492B1
KR100571492B1 KR1020040011398A KR20040011398A KR100571492B1 KR 100571492 B1 KR100571492 B1 KR 100571492B1 KR 1020040011398 A KR1020040011398 A KR 1020040011398A KR 20040011398 A KR20040011398 A KR 20040011398A KR 100571492 B1 KR100571492 B1 KR 100571492B1
Authority
KR
South Korea
Prior art keywords
developer
radiation
sensitive composition
low
weight
Prior art date
Application number
KR1020040011398A
Other languages
English (en)
Other versions
KR20050082812A (ko
Inventor
최영국
양민수
임대성
이경모
이가연
최선미
김상태
전성현
Original Assignee
동우 화인켐 주식회사
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 동우 화인켐 주식회사 filed Critical 동우 화인켐 주식회사
Priority to KR1020040011398A priority Critical patent/KR100571492B1/ko
Publication of KR20050082812A publication Critical patent/KR20050082812A/ko
Application granted granted Critical
Publication of KR100571492B1 publication Critical patent/KR100571492B1/ko

Links

Classifications

    • EFIXED CONSTRUCTIONS
    • E05LOCKS; KEYS; WINDOW OR DOOR FITTINGS; SAFES
    • E05DHINGES OR SUSPENSION DEVICES FOR DOORS, WINDOWS OR WINGS
    • E05D7/00Hinges or pivots of special construction
    • E05D7/08Hinges or pivots of special construction for use in suspensions comprising two spigots placed at opposite edges of the wing, especially at the top and the bottom, e.g. trunnions
    • E05D7/082Hinges or pivots of special construction for use in suspensions comprising two spigots placed at opposite edges of the wing, especially at the top and the bottom, e.g. trunnions the pivot axis of the wing being situated at a considerable distance from the edges of the wing, e.g. for balanced wings
    • E05D7/086Braking devices structurally combined with hinges
    • EFIXED CONSTRUCTIONS
    • E05LOCKS; KEYS; WINDOW OR DOOR FITTINGS; SAFES
    • E05DHINGES OR SUSPENSION DEVICES FOR DOORS, WINDOWS OR WINGS
    • E05D7/00Hinges or pivots of special construction
    • E05D7/04Hinges adjustable relative to the wing or the frame
    • EFIXED CONSTRUCTIONS
    • E05LOCKS; KEYS; WINDOW OR DOOR FITTINGS; SAFES
    • E05FDEVICES FOR MOVING WINGS INTO OPEN OR CLOSED POSITION; CHECKS FOR WINGS; WING FITTINGS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR, CONCERNED WITH THE FUNCTIONING OF THE WING
    • E05F3/00Closers or openers with braking devices, e.g. checks; Construction of pneumatic or liquid braking devices
    • E05F3/20Closers or openers with braking devices, e.g. checks; Construction of pneumatic or liquid braking devices in hinges
    • EFIXED CONSTRUCTIONS
    • E05LOCKS; KEYS; WINDOW OR DOOR FITTINGS; SAFES
    • E05YINDEXING SCHEME ASSOCIATED WITH SUBCLASSES E05D AND E05F, RELATING TO CONSTRUCTION ELEMENTS, ELECTRIC CONTROL, POWER SUPPLY, POWER SIGNAL OR TRANSMISSION, USER INTERFACES, MOUNTING OR COUPLING, DETAILS, ACCESSORIES, AUXILIARY OPERATIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR, APPLICATION THEREOF
    • E05Y2900/00Application of doors, windows, wings or fittings thereof
    • E05Y2900/10Application of doors, windows, wings or fittings thereof for buildings or parts thereof
    • E05Y2900/114Application of doors, windows, wings or fittings thereof for buildings or parts thereof for showers

Landscapes

  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Mechanical Engineering (AREA)
  • Structural Engineering (AREA)
  • Photosensitive Polymer And Photoresist Processing (AREA)
  • Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)

Abstract

본 발명은 감방사선성 조성물용 현상액에 관한 것으로서, 환경친화형의 생체 계면활성제, 선택적으로 저기포성 비이온성 계면활성제, 알칼리성 화합물 및 물을 함유한다. 본 발명에 따른 현상액은 칼라필터 포토레지스트, 블랙메트릭스, 포토스페이서등의 감방사선성 조성물에 대하여 동시에 양호한 현상성과 패턴의 재현성을 나타내며 스프레이 등의 공정에서 발생할 수 있는 기포에 의한 현상시의 문제점을 제거할 수 있고 환경오염을 최소화할 수 있는 저기포성이며 환경친화형인 감방사선성 조성물용 현상액을 제공한다.

Description

환경친화형 감방사선성 조성물용 현상액{ECO-FRIENDLY DEVELOPER FOR RADIATION SENSITIVE COMPOSITION}
본 발명은 환경친화형 감방사선 조성물용 현상액에 관한 것으로서, 안료 및 포토레지스트 등의 감방사선성 조성물에 대한 양호한 현상성과 패턴의 재현성을 나타내며 스프레이 등의 공정에서 발생할 수 있는 기포에 의한 현상시의 문제점을 제거할 수 있고, 환경오염을 최소화할 수 있는 저기포성이며 환경친화형인 감방사선성 조성물용 현상액을 제공한다.
일반적으로 칼라 액정 디스플레이는 블랙 메트릭스 수지와 적색, 녹색, 청색 (RGB)의 픽셀을 형성한 칼라필터를 유리 등의 투명 기판 상에 형성하고, 그 위에 ITO glass와 같은 투명 도전막을 스퍼터링 법에 의해 전극으로 형성한 다음, 이 위에 배향막을 다시 형성하고 액정을 주입하는 방법으로 제조된다. 칼라 액정 디스플레이에 사용되는 칼라필터를 형성하는 방법은 다양하나, 유기안료 및 무기안료를 분산시킨 감광성 조성물을 투명 기판상에 도포한 후, 광조사 및 현상 처리하는 안료 분산법이 주로 사용되고 있다.
안료분산법은 칼라필터 화소의 위치, 막 두께의 정밀도가 높고 수명이 길며 핀홀 등의 문제가 적기 때문에 컴퓨터를 비롯한 액정디스플레이에 적용되고 있으며, 유기안료 혹은 무기안료를 분산시킨 칼라포토레지스트를 스핀(spin) 및 슬릿(slit) 코팅하여 특정한 화소의 패턴을 성형하는 방법으로 칼라 필터를 제조한다.
칼라필터 형성을 위한 현상처리시 일반적으로 수산화칼륨(KOH), 테트라메틸 암모늄 수산화물(TMAH) 등의 알칼리성 현상액이 사용되고 있는데, 이러한 현상액은 현상 공정에 있어서 감광성 조성물에 포함된 착색 또는 차광을 위한 유기안료 및 무기안료와 감광성 수지 성분으로 신속하게 침투하여 용해 및 분산시켜 미용해물이 잔류하지 않고 현상 잔류 및 재부착 등에 의한 잔사의 문제를 발생시키지 않아야 한다.
또한, 현상처리의 반복이나 공기중의 탄산가스의 흡수에 의한 현상 성능의 변화가 발생하지 않아야 하며 선명한 패턴 에지를 갖는 화소를 형성시킬 수 있어야 한다.
알칼리성 현상액으로 테트라메틸 암모늄 수산화물 수용액이 폭넓게 사용되고 있으나, 이 현상액으로는 불필요한 도막을 충분히 제거시킬 수 없고 얻어지는 픽셀에 스컴이 발생할 뿐만 아니라, 우수한 패턴 에지를 갖는 픽셀을 형성하기 어렵다.
따라서, 현상액의 성능을 향상시킬 목적으로 여러가지 계면활성제를 알칼리 성분에 첨가하는 방안이 제안되었다.
일본특허공개 평7-120935호에서는 알칼리성 화합물 및 비이온성 계면활성제를 함유한 수용액으로서 pH가 9~13이고 비이온성 계면활성제의 함유량이 0.01~1.0 중량%인 알칼리성 현상액을 개시하고 있다.
일본특허공개 평9-171261호에서는 비이온성 계면활성제, 강염기성 물질 및 약염기성 물질을 조합하여 제조한 완충성 수용액으로 이루어진 현상액을 개시하고 있다.
일본특허공개 평9-34128호에서는 감광량 및 현상조건의 허용범위가 넓고 조건설정이 용이하며, 현상시 기포발생 문제가 적은 현상액을 개시하고 있다.
일본특허공개 평8-101511호에서는 지방산알카놀아마이드를 사용한 현상액을, 일본특허공개 평11-305451호에서는 지방산아민에 에틸렌옥사이드 및 프로필렌옥사이드를 부가한 화합물을, 일본특허공개 평11-242342호에서는 알킬페놀에 에틸렌옥사이드를 부가한 화합물을 안료 분산 칼라포토레지스트의 현상액으로 각각 제안하고 있다.
일본특허공개 평11-249322호에서는 알칼리화합물로 무기알칼리 외에 알카놀아민을 제2성분으로 사용하고 알킬(아릴, 알킬아릴)기에 폴리옥시에틸렌과 폴리옥시프로필렌을 부가한 비이온계면활성제를 사용하여 감방사선성 조성물에 함유되어 있는 안료의 농도가 높은 경우에도 미용해물이 잔존하지 않으며 스컴, 현상잔류, 재부착 등의 문제는 발생시키지 않고 선명한 패턴 엣지를 갖는 화소를 형성할 수 있는 알칼리성 현상액을 개시하고 있다.
일본특허공개 평11-288102호에서는 레지스트 용해부의 용해성 증가 및 비용해부의 용해성 억제를 통한 용해 선택성 증가를 위한 현상액을 개시하고 있다.
그러나, 칼라필터 제조공정의 속도를 향상시키기 위해 현상액에 침적하여 감방사선성 조성물을 현상하는 방식에서 벗어나 현상액을 감방사선성 조성물에 직접 뿌리는 스프레이 방식으로 생산공정이 변하고 있기 때문에 현상액 내에 함유되어 있는 계면활성제에 의한 다량의 기포 발생이 생산성을 저하시키는 문제점으로 이에 대한 해결방안이 모색되고 있다.
또한, 최근 환경문제에 대한 관심이 증가됨에 따라 알킬페놀류가 포함된 계면활성제 등과 같은 생분해성이 낮은 계면활성제에 대한 환경규제가 점차 강화되고 있어 우수한 물성을 나타냄에도 불구하고 그 사용에 상당한 제한을 받고 있는 실정이다.
이러한 문제들을 해결하기 위해 환경친화형의 생체 계면활성제에 대한 연구가 활발하게 진행되고 있으며, 그 응용사례가 점차 증가하고 있다.
미국특허 제 5520839호에서는 람노리피드, 소포로리피드 등과 같은 당지질계 생체계면활성제를 이용한 세탁 및 신체용 세정제 조성물로서의 용도를 개시하고 있다.
일본특허공개 제 2003-013093호에서는 생체계면활성제인 소포로리피드를 이용한 저기포성 식기세척기용 세정제 조성물로서의 용도를 개시하고 있다.
한국특허 제 9607877호에서는 아시네토박터 칼코아세티쿠스 CL의 배양중 대 사산물로 생산되는 생물 계면 활성제를 적절한 비율로 함유하여 세정력이 증가하고 피부 자극을 줄여 피부 보호 효과를 부여한 액체 세정제 조성물로서의 용도를 개시하고 있다.
한국특허 제 351630호에서는 표면장력 저하능이 우수하며 중금속 및 유해 유기물질에 대한 세척능이 우수한 스피큘리스포릭산 에스테르 유도체를 개시하고 잇다.
따라서, 계면활성제에 의한 기포문제와 환경문제를 동시에 해결할 수 있는 새로운 감방사선성 조성물용 현상액을 제안한다.
본 발명은 감방사선성 조성물용 현상액으로서, 칼라필터 포토레지스트, 블랙메트릭스, 포토스페이서등의 감방사선성 조성물에 대하여 동시에 양호한 현상성과 패턴의 재현성을 나타내며 스프레이 등의 공정에서 발생할 수 있는 기포에 의한 현상시의 문제점을 제거할 수 있고, 환경오염을 최소화할 수 있는 저기포성이며 환경친화형인 감방사선성 조성물용 현상액을 제공하는데 있다.
본 발명은 상기 목적을 달성하기 위하여 환경친화형의 생체 계면활성제, 선택적으로 저기포성 비이온성 계면활성제, 알칼리성 화합물 및 물을 함유하는 환경친화형 감방사선성 조성물용 현상액을 제공한다.
상기 기술적 과제를 달성하기 위하여 본 발명은 하기 화학식 1로 표시되는 스피큘리스포릭산 에스테르 유도체 1 ~ 20 중량%, 저기포성 비이온성 계면활성제 0 ~ 20 중량%, 알칼리성 화합물 1 ~ 10 중량% 및 잔량의 물을 함유하는 저기포성 감방사선성 조성물용 현상액을 제공한다.
Figure 112004007077616-pat00001
(상기 화학식 1에서 : R1, R2 및 R3은 각각 알콕시기, 폴리옥시에틸렌기 또는 폴리옥시프로필렌기를 나타낸다).
본 발명의 현상액에 있어서, 화학식 1의 스피큘리스포릭산 에스테르 유도체는 낮은 표면장력, 저기포성을 나타내며, 현상시 비노광부의 도막에 대한 침투 효과가 뛰어나고 피세정물에 대한 세정 및 분산효과가 우수하여 보다 짧은 시간에 현상될 수 있도록 한다.
화학식 1로 표시되는 스피큘리스포릭산 에스테르 유도체의 함량은 전체 현상액 100 중량%에 대해 1 ~ 20 중량%, 바람직하게는 5 ~ 15 중량%이다.
상기 함량이 1 중량% 미만이면 비노광부의 도막에 대한 침투력이 낮아 현상시간이 지연되고, 용출된 피세정물인 수지 및 안료 입자들을 신속하게 현상액 내로 분산시키는 것이 어렵고, 현상 잔여물 등이 기판 표면에 재부착하는 문제점이 있 다.
또한, 상기 함량이 20 중량%를 초과하면, 수용액에 대한 용해도의 감소로 현상액의 시간경과에 따른 변화를 나타내거나, 침투력의 증가로 인해 감광성 수지 전체가 기판에서 박리되어 선택적인 패턴 형성이 어려워지고, 현상액의 거품 발생 정도가 심해져서 현상 작업성이 저하되며 계면활성제 자체가 기판에서 잔여물로 남아 표면 얼룩이 생기는 문제가 있다.
또한, 본 발명의 현상액은 저기포성 비이온성 계면활성제를 전체 현상액 100 중량%에 대해 0 ~ 20 중량% 함유한다. 상기 저기포성 비이온성 계면활성제는 그의 HLB가 10 내지 16이며 표면장력이 25 ~ 45 dyne/cm인 것이 바람직하다.
대표적인 저기포성 비이온성 계면활성제인 폴리옥시에틸렌 에테르류 또는 폴리옥시에틸렌ㆍ폴리옥시프로필렌 블럭 공중합체류의 시판품에는 서피놀 440, 서피놀 465, 서피놀 485 (이상, 에어프로덕트 제품), 플루라팍 LF-401, 플루라팍 LF-600, 플루라팍 LF-711, 테트로닉 704, 테트로닉 1304 (이상, 바스프 제품), 실왯L-7200, 실왯L-7605, 실왯L-7657 (이상, 크롬프톤 제품), SPK, M-TSP1026 (이상, 동남합성㈜ 제품) 등이 있다.
상기 함량이 20 중량%를 초과하면, 수용액에 대한 용해도의 감소로 현상액의 시간경과에 따른변화를 나타내거나, 침투력의 증가로 인해 감광성 수지 전체가 기판에서 박리되어 선택적인 패턴 형성이 어려워지고, 현상액의 거품 발생 정도가 심해져서 현상 작업성이 저하되는 문제가 있다.
또한, 본 발명에서 사용하는 생체 계면활성제와 비이온성 계면활성제는 감방사선성 조성물에 대한 용해력과 표면장력을 저하시키는 능력에 의한 침투력이 우수하여 비노광부의 감방사선성 조성물과 기판 사이에 작용하는 표면장력을 저하시켜 쉽게 감방사선성 조성물이 제거되도록 하며, 또한 상기 제거된 조성물의 바인더나 폴리머 등을 용해 및 분산, 재부착 방지 등의 기능을 한다.
본 발명의 현상 조성물의 표면장력은 20 ~ 40 dyne/cm인 것이 바람직하다.
본 발명의 현상액에 있어서, 감방사선성 조성물을 용해할 목적으로 알칼리성 화합물을 전체 현상액 100 중량%에 대해 1 ~ 10 중량%를 함유한다.
기판 상의 감방사선성 조성물을 세정, 제거하는 현상액은 무기 알칼리 현상액, 유기 알칼리 현상액, 무기, 유기 혼합 형태의 현상액들이 공지되어 있다.
유기 알칼리 및 유기아민을 주성분으로 하는 현상액은 용제 휘발 후 잔존 이물질이 거의 없어 장비에 대한 부식이 없으며 감방사선성 조성물에 대한 용해도가 우수하여 뛰어난 감방사선성 조성물 제거 성능을 나타낸다. 그 예로는 테트라메틸 암모늄 수산화물, 테트라에틸 암모늄 수산화물 등의 테트라 알킬 암모늄 수산화물류 화합물, 모노메틸아민, 디메틸아민, 트리메틸아민, 에틸아민, 디에틸아민, 트리에틸아민, 이소프로필아민 등의 알킬아민류 화합물, 에틸알코올아민, 2-디메틸아미노에탄올, 2-디에틸아미노에탄올, 2-디이소프로필아미노에탄올 등의 알칸올 아민류 화합물 등이 사용될 수 있다.
무기 알칼리 현상액은 장시간 사용시에도 공기 중에 포함되어 있는 탄산가스 에 의한 영향을 적게 받으므로 현상액이 열화될 우려가 거의 없고, 시간경과에 따른 안정성 또한 우수하다는 장점이 있고 특히, 수산화칼륨은 칼라필터를 장착한 액정 표시장치의 전자구동 회로에 지장을 초래하는 나트륨을 함유하지 않기 때문에 부식에 의한 문제를 방지할 수 있으므로 더욱 선호될 수 있다. 그 예로는 수산화칼륨, 수산화나트륨, 탄산나트륨 등을 들수 있다.
본 발명의 현상액 조성물에 사용되는 알칼리성 화합물은 상기 유기 화합물 또는 무기 화합물이 사용될 수 있으며, 특히 수산화칼륨, 수산화나트륨, 탄산나트륨으로 이루어진 군으로부터 선택된 무기알칼리 화합물이 바람직하다.
이러한 알칼리성 화합물들은 단독 또는 2종 이상을 혼합하여 사용될 수 있다.
상기 알칼리성 화합물의 함량은 1 내지 10 중량%가 바람직하며, 그 함량이 1 중량% 미만이면 감방사선성 조성물을 구성하는 고분자 성분에 대한 용해력이 떨어져 감방사선성 조성물을 완전하게 제거하기 어렵고, 10 중량%를 초과하면 형성된 패턴에 대한 팽윤 현상만 심해지고 무기 알칼리 금속이 석출되면서 현상액의 조성을 변화시켜 일정 조성에서는 층분리가 발생하여 성능에 악영향을 미친다.
본 발명에 따른 현상액이 적용되는 현상 방법은 특별히 한정되지 않으며, 침지 현상법, 요동 현상법, 샤워·스프레이현상법, 퍼들 현상법 등의 방법에 적용될 수 있다. 본 발명의 현상액은 형성된 도막을 현상할 때 매우 유용한 것으로서, 현상 성능에 대한 시간경과에 따른 안정성이 우수할 뿐만 아니라, 블랙 매트릭스, 포 토 레지시트 와 같이 조사된 빛에 대한 투과율이 낮은 감광성 조성물을 이용하여 칼라 필터의 제조시에도 불필요한 미립자와 수지 성분을 충분히 분산, 용해시킬 수 있다. 또한, 현상 잔여물이 생기지 않으며 기판 위에 유기안료, 무기안료나 수지가 재부착되지 않을 뿐만 아니라, 픽셀이 누락되거나 막이 벗겨지는 등의 문제가 없는 기판과의 밀착이 매우 우수한 픽셀을 형성할 수 있다.
이상과 같은 본 발명의 현상액은 종래와 비교하여 안료 및 포토레지스트 등의 감방사선성 조성물에 대한 양호한 현상성과 패턴의 재현성을 나타내며 스프레이 등의 공정에서 발생할 수 있는 기포에 의한 현상시의 문제점을 제거할 수 있는 저기포성이며 현상력이 우수한 감방사선성 조성물용 현상액을 제공할 수 있다.
이하, 본 발명을 구체적으로 설명하기 위해 실시예 및 비교예를 들어 상세하게 설명하기로 한다.
그러나, 본 발명에 따른 실시예들은 여러 가지 다른 형태로 변형될 수 있으며, 본 발명의 범위가 아래에서 상술하는 실시예들에 한정되는 것으로 해석되어져서는 안된다.
(제조예)
스피큘리스포릭산 에스테르 유도체(화학식1; R 1 =R 2 =R 3 =H(OCH 2 CH 2 ) n O)의 제조
200 ㎖용 3구 플라스크에 스피큘리스포릭산(10 g)과 벤젠(65 ㎖)을 넣고 용 해시킨 후, SOCl2를 가하여 아실화시키고 나서 환류냉각기와 수산화칼륨 펠렛을 넣은 건조관을 플라스크에 부착시키고 항온수조를 사용하여 80℃를 유지하면서 마그네틱 스터러로 교반하면서 4시간 반응시켰다. 반응을 종료하고 용매를 증발시켜 얻은 생성물에 피리딘(9.1 ㎖)을 가하고 디메틸포름아미드(65 ㎖)를 가한 후 비이온성 알코올의 일종인 폴리에틸렌글리콜 200(Polyethylene Glycol #200, Duksan Pure Chemical Co., LTD사 제품; 8.7 g)을 가하여 에스테르화시켰다. 환류냉각기를 부착하고 항온수조에서 60℃를 유지하면서 마그네틱 스터러로 교반하여 4시간 반응시켰다. 반응을 종결한 후 용매를 증발시켜 제거하여 목적으로 하는 스피큘리스포릭산 에스테르 유도체를 얻었다. 생성물은 수용성이며 표면장력(0.1 중량% 수용액)은 28.0 dyne/cm, 임계미셀농도는 0.7x10-3 ㏖/ℓ 이었다.
현상액의 제조 :
교반기가 설치되어 있는 혼합조에 하기 표 1에 기재된 성분과 함량에 따라 수산화칼륨, 유기알칼리 화합물, 화학식 1의 스피큘리스포릭산 에스테르 유도체와 비이온성 계면활성제를 순차적으로 첨가하고, 여기에 총 중량이 100중량%가 되도록 초순수를 가한 후, 상온에서 0.5 ∼ 1시간 동안 200 ∼ 600rpm의 속도로 교반하여 현상액 원액을 제조하였다. 이어서, 제조한 현상액 원액을 초순수로 100배 희석하여 본 발명에 따른 현상액을 제조하였다.
(실시예 1 내지 12)
하기 표 1과 표 2와 같이 조성성분 및 함량을 변화시켜 동일한 방법으로 현상액을 제조하였다. 이상과 같이 제조한 각각의 실시예에 따른 현상액의 pH, 표면장력, 침투력, 기포성, 현상력, 시간경과에 따른 변화를 하기 기준에 따라 평가하여 표 1과 표 2에 나타내었다.
1. 기포성 평가
상기 제조한 현상액을 100배 희석하여 기포성을 평가하였다. 용량 200mL의 유리관에 20mL의 현상액을 넣고 100ml/min의 유량으로 질소기체를 버블링(bubbling)하여 기포체적이 100cm3이 될 때까지의 시간을 측정하여 아래와 같이 3단계로 기포성을 평가하였다.
◎ : 400초 이상
Figure 112004007077616-pat00002
: 200 ~ 400초
× : 200초 이하
2. 유화분산성 평가
상기 제조한 현상액을 100배 희석하여 유화분산성을 평가하였다. 용량 200mL의 유리관에 20mL의 현상액을 넣고 감방사선성 조성물 원액을 1%의 농도로 유화분산시킨 후 시간에 따른 유화분산 안정성을 평가하였다.
◎: 100시간 이상 안정
Figure 112004007077616-pat00003
: 80 ~ 100시간
△: 60 ~ 80 시간
X : 60 시간이하
3. 시간경과에 따른 변화 평가
현상액 원액을 상온(20℃/1개월)과 고온(40℃/7일)에서 각각 보존한 후, 현상액 원액의 외관 성상을 육안으로 평가하여 백탁 현상이나 상이 분리되는 현상이 나타나는 경우를 '미흡'으로, 그렇지 않은 경우를 '우수'라고 평가하였다.
4. 현상 평가
시편의 제조 :
코닝 (제품번호1737, 5 x 5 x 0.7 cm)사 시험용 유리 기판위에 스핀 코터(spin coater)를 이용 레지스트 (동우화인켐 사제)를 최종 막두께 1.9 ~ 2.0㎛가 되도록 스핀 코팅하였다. 이어서 convention 오븐내에서 100℃로 3분간 프리베이크(pre- bake)를 실시 하였다. 이어서 150 mJ/cm2 의 노광량으로 노광한 후 현상력 시험을 위한 시편을 제조 하였다.
5. 현상력 시험
위에서 준비된 시편으로 현상력 시험을 실시하였다. 현상력 시험 방법은 온도 23℃ 에서 코닝사 hot plate위에 500ml 비이커를 준비하고 250ml의 현상액을 채운 후 마그네틱 바를 회전시키면서 침적하여 현상을 실시하였다. 일정 시간 현상 후 상기 시편을 꺼내어 초순수에 수세하여 린스를 실시하였다. 질소가스로 건조시킨 후 이어서 프리베이크(pre-bake)를 실시한 동일한 종류의 오븐에서 220℃로 20분간 하드베이크(hard-bake)를 실시 하였다.
6. 현상력 평가
상기의 현상된 시편을 주사전자현미경(SEM: 히다찌사, 모델명 S-4100)으로 검사하여 형성된 패턴 주변의 비노광부의 잔류여부 및 레지스트의 패턴 에지를 평가하고 그 결과를 하기 표 1과 표 2에 나타냈다.
◎ : 잔류물이 완전히 제거된 경우
Figure 112004007077616-pat00004
: 잔류물이 소량 잔류한 경우
△ : 잔류물이 다량 잔류한 경우
× : 현상불량으로 비교가 불가능한 경우
실시예 비교예 실시예
1 1 2 3 4 5 6 7
현상액 조성비 (중량%) 계면활성제 화학식-1 (스피큘리스포릭산 에스테르 유도체) - 8 10 12 12 12 12 12
계면활성제 POE(10) nonylphenol 12 - - - - - - -
무기알칼리화합물 (KOH) 4 4 4 4 5 6 5 4
유기알칼리 화합물 (2-디메틸아미노에탄올) - - - - - 5 4 3
초순수 현상액을 100 중량%로 만드는 잔량
물성 pH (100배 희석액) 11.8 11.8 11.8 11.8 11.9 11.9 11.9 11.9
표면장력 (mN/m) 33.5 40.6 40.5 40.3 41.4 42.6 42.3 42.6
저기포성 ×
Figure 112004007077616-pat00005
Figure 112004007077616-pat00006
Figure 112004007077616-pat00007
유화분산성
Figure 112004007077616-pat00008
Figure 112004007077616-pat00009
Figure 112004007077616-pat00010
시간경과에 따른 변화 우수 우수 우수 우수 우수 우수 우수 우수
현상성 포토레지스트
블랙메트릭스
Figure 112004007077616-pat00011
Figure 112004007077616-pat00012
포토스페이서
Figure 112004007077616-pat00013
실시예 8 9 10 11 12
현상액 조성비 (중량%) 계면활성제 화학식-1 (스피큘리스포릭산 에스테르 유도체) 12 12 8 8 8
계면활성제 화학식-2 (비이온성) 4 플루라팍 LF-711 6 서피놀 465 4 테트로닉 704 2 M-TSP1026 2 실왯 L-7200
무기알칼리화합물 (KOH) 4 4 4 4 4
유기알칼리 화합물 (2-디메틸아미노에탄올) - - - - -
초순수 현상액을 100 중량%로 만드는 잔량
물성 pH (100배 희석액) 11.8 11.9 11.9 11.7 11.8
표면장력 (mN/m) 38.5 36.7 40.1 40.5 36.5
저기포성
Figure 112004007077616-pat00014
유화분산성
Figure 112004007077616-pat00015
Figure 112004007077616-pat00016
Figure 112004007077616-pat00017
시간경과에 따른 변화 우수 우수 우수 우수 우수
현상성 포토레지스트
블랙메트릭스
Figure 112004007077616-pat00018
Figure 112004007077616-pat00019
포토스페이서
이상에서 살펴본 바와 같이, 본 발명은 환경친화형 감방사선성 조성물용 현상액으로서, 칼라필터 포토레지스트, 블랙메트릭스, 포토스페이서 등의 감방사선성 조성물에 대하여 동시에 양호한 현상성과 패턴의 재현성을 나타내며 스프레이 등의 공정에서 발생할 수 있는 기포에 의한 현상시의 문제점을 제거할 수 있고 환경오염을 최소화할 수 있는 저기포성이며 환경친화형인 감방사선성 조성물용 현상액을 제공할 수 있다.

Claims (4)

  1. 하기의 화학식 1로 표시되는 스피큘리스포릭산 에스테르 유도체 1 ~ 20 중량%, 저기포성 비이온성 계면활성제 1 ~ 20 중량%, 알칼리성 화합물 1 ~ 10 중량% 및 잔량의 물을 함유하는 환경친화형 감방사선성 조성물용 현상액:
    (화학식 1)
    Figure 112006008624044-pat00020
    (상기 화학식 1에서 : R1, R2 및 R3은 각각 알콕시기, 폴리옥시에틸렌기 또는 폴리옥시프로필렌기를 나타낸다).
  2. 제 1 항에 있어서, 저기포성 비이온성 계면활성제는 HLB가 10 ~ 16 이고, 표면장력 범위가 25 ~ 45 dyne/cm인 것을 특징으로 하는 환경친화형 감방사선성 조성물용 현상액.
  3. 제 1 항에 있어서, 조성물의 표면장력이 20 ~ 40 dyne/cm인 환경친화형 감방사선성 조성물용 현상액.
  4. 제 1 항에 있어서, 알칼리성 화합물은 수산화칼륨, 수산화나트륨, 탄산나트륨 및 2-디메틸아미노에탄올로 구성된 군에서 선택된 일종 이상인 환경친화형 감방사선성 조성물용 현상액.
KR1020040011398A 2004-02-20 2004-02-20 환경친화형 감방사선성 조성물용 현상액 KR100571492B1 (ko)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1020040011398A KR100571492B1 (ko) 2004-02-20 2004-02-20 환경친화형 감방사선성 조성물용 현상액

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1020040011398A KR100571492B1 (ko) 2004-02-20 2004-02-20 환경친화형 감방사선성 조성물용 현상액

Publications (2)

Publication Number Publication Date
KR20050082812A KR20050082812A (ko) 2005-08-24
KR100571492B1 true KR100571492B1 (ko) 2006-04-17

Family

ID=37269161

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
KR1020040011398A KR100571492B1 (ko) 2004-02-20 2004-02-20 환경친화형 감방사선성 조성물용 현상액

Country Status (1)

Country Link
KR (1) KR100571492B1 (ko)

Also Published As

Publication number Publication date
KR20050082812A (ko) 2005-08-24

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US7063930B2 (en) Chemical rinse composition
JP4641499B2 (ja) 現像液組成物
US6503694B1 (en) Developer solution and edge bead remover composition
KR100840530B1 (ko) 포토레지스트 현상액 조성물
KR100571492B1 (ko) 환경친화형 감방사선성 조성물용 현상액
CN101246315B (zh) 光阻剂清洗液组成物及其应用
KR101950037B1 (ko) 감방사선성 조성물용 현상액 조성물
JP4262207B2 (ja) 低気泡性感放射線性組成物用現像液
CN100476597C (zh) 感放射线性组合物用低泡沫显影液
KR100539212B1 (ko) 저기포성 감방사선성 조성물용 현상액
KR101161051B1 (ko) 현상제 조성물
KR20120021787A (ko) 네가티브형 착색감광성 수지조성물용 현상액
CN100557514C (zh) 一种光阻显影液
JP3154474B2 (ja) カラーレジスト用現像液
JPH09171261A (ja) アルカリ現像液
CN108762011A (zh) 一种显影液
JP3970740B2 (ja) 現像液組成物
CN101738878A (zh) 光阻剂清洗液组成物及其应用
KR101161029B1 (ko) 현상제 조성물
KR100483371B1 (ko) 포토레지스트용 수계 현상액
CN1637604A (zh) 正型光致抗蚀剂剥离液组合物
CN107870524B (zh) 光致抗蚀剂显影液组合物及光致抗蚀剂图案形成方法
CN101750910A (zh) 显影液组成物
JP2001312073A (ja) ネガ型フォトレジスト用現像液
CN115685698A (zh) 一种柔性oled用彩色滤光片显影液组合物及其制备方法

Legal Events

Date Code Title Description
A201 Request for examination
E902 Notification of reason for refusal
E701 Decision to grant or registration of patent right
GRNT Written decision to grant
LAPS Lapse due to unpaid annual fee