JPH0757473A - デコーダ及び周辺回路のストレステスト方法 - Google Patents
デコーダ及び周辺回路のストレステスト方法Info
- Publication number
- JPH0757473A JPH0757473A JP6092222A JP9222294A JPH0757473A JP H0757473 A JPH0757473 A JP H0757473A JP 6092222 A JP6092222 A JP 6092222A JP 9222294 A JP9222294 A JP 9222294A JP H0757473 A JPH0757473 A JP H0757473A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- voltage level
- inputs
- setting
- common voltage
- circuits
- Prior art date
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- Pending
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-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11C—STATIC STORES
- G11C29/00—Checking stores for correct operation ; Subsequent repair; Testing stores during standby or offline operation
- G11C29/02—Detection or location of defective auxiliary circuits, e.g. defective refresh counters
Landscapes
- For Increasing The Reliability Of Semiconductor Memories (AREA)
- Tests Of Electronic Circuits (AREA)
- Static Random-Access Memory (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】 メモリアレイと共に使用するデコーダ及びそ
の他の周辺回路のストレステスト方法を提供する。 【構成】 アドレスバッファが複数個のデコーダの入力
を同時的に第一共通電圧レベルへ設定し、従ってメモリ
アレイ内の複数個の行及び/又は列が所定時間期間の間
選択状態とされる。次いで、ストレス電圧が集積回路へ
印加されてデコーダ及びその他の周辺回路内のゲート酸
化膜のストレステストを行なう。次いで、複数個のデコ
ーダの入力が同時的に第二共通電圧レベルへ設定され、
従ってメモリアレイ内の複数個の行及び/又は列が非選
択状態とされる。最後に、ストレス電圧が集積回路へ印
加され、デコーダ及びその他の周辺回路内のゲート酸化
膜のストレステストを行なう。
の他の周辺回路のストレステスト方法を提供する。 【構成】 アドレスバッファが複数個のデコーダの入力
を同時的に第一共通電圧レベルへ設定し、従ってメモリ
アレイ内の複数個の行及び/又は列が所定時間期間の間
選択状態とされる。次いで、ストレス電圧が集積回路へ
印加されてデコーダ及びその他の周辺回路内のゲート酸
化膜のストレステストを行なう。次いで、複数個のデコ
ーダの入力が同時的に第二共通電圧レベルへ設定され、
従ってメモリアレイ内の複数個の行及び/又は列が非選
択状態とされる。最後に、ストレス電圧が集積回路へ印
加され、デコーダ及びその他の周辺回路内のゲート酸化
膜のストレステストを行なう。
Description
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、大略、集積回路に関す
るものであって、更に詳細には、集積回路におけるメモ
リアレイに関するものである。更に詳細には、本発明
は、メモリアレイと共に使用されるデコーダ及び周辺回
路のストレステスト方法に関するものである。
るものであって、更に詳細には、集積回路におけるメモ
リアレイに関するものである。更に詳細には、本発明
は、メモリアレイと共に使用されるデコーダ及び周辺回
路のストレステスト方法に関するものである。
【0002】
【従来の技術】メモリアレイは、動作するために多数の
異なる回路を使用する。例えば、行デコーダ、列デコー
ダ、書込みデコーダ、プレコーディング及びポストコー
ディング回路を使用する場合がある。メモリアレイ、デ
コーダ及びその他のメモリアレイと共に使用される周辺
回路のストレステストは、通常、集積回路へストレス電
圧を印加することによって行なわれる。メモリアレイ及
び種々の回路内のほとんどの潜在的な欠陥はストレステ
ストの結果として検知される。
異なる回路を使用する。例えば、行デコーダ、列デコー
ダ、書込みデコーダ、プレコーディング及びポストコー
ディング回路を使用する場合がある。メモリアレイ、デ
コーダ及びその他のメモリアレイと共に使用される周辺
回路のストレステストは、通常、集積回路へストレス電
圧を印加することによって行なわれる。メモリアレイ及
び種々の回路内のほとんどの潜在的な欠陥はストレステ
ストの結果として検知される。
【0003】しかしながら、メモリアレイと共に使用さ
れるデコーダ及びその他の周辺回路のストレステスト
は、通常、テストに時間がかかるために実施されること
はない。デコーダ及びその他の周辺回路における各ゲー
トのストレステストを行なうためには、各々のアドレス
の組合わせが個別的に選択されねばならない。次いでス
トレス電圧が集積回路へ印加される。しかしながら、当
業者にとって明らかな如く、各々のアドレス組合わせを
選択し且つストレスをかけることは極めて時間がかかる
ことである。従って、通常は、デコーダ及びその他の周
辺回路のストレステストを行なうことはない。
れるデコーダ及びその他の周辺回路のストレステスト
は、通常、テストに時間がかかるために実施されること
はない。デコーダ及びその他の周辺回路における各ゲー
トのストレステストを行なうためには、各々のアドレス
の組合わせが個別的に選択されねばならない。次いでス
トレス電圧が集積回路へ印加される。しかしながら、当
業者にとって明らかな如く、各々のアドレス組合わせを
選択し且つストレスをかけることは極めて時間がかかる
ことである。従って、通常は、デコーダ及びその他の周
辺回路のストレステストを行なうことはない。
【0004】例えば、128K×8Kメモリアレイと共
に使用されるデコーダ及びその他の周辺回路をテストす
るためには、128,000個のアドレス組合わせを個
別的に活性化させねばならず、次いでストレス電圧をか
けることが必要である。この様な128,000個のア
ドレス組合わせを介してのサイクル動作は非常に時間の
かかる作業である。ストレステストを行なわない場合に
は、デコーダ及び周辺回路における潜在的な欠陥は検知
されないままとなる。その結果、問題のあるメモリアレ
イが生産されることとなる。
に使用されるデコーダ及びその他の周辺回路をテストす
るためには、128,000個のアドレス組合わせを個
別的に活性化させねばならず、次いでストレス電圧をか
けることが必要である。この様な128,000個のア
ドレス組合わせを介してのサイクル動作は非常に時間の
かかる作業である。ストレステストを行なわない場合に
は、デコーダ及び周辺回路における潜在的な欠陥は検知
されないままとなる。その結果、問題のあるメモリアレ
イが生産されることとなる。
【0005】
【発明が解決しようとする課題】従って、メモリアレイ
と共に使用されるデコーダ及びその他の周辺回路をテス
トする方法が提供されることが望ましい。更に、この様
な方法は集積回路のテスト及び製造を複雑化させるもの
でないことが望ましい。
と共に使用されるデコーダ及びその他の周辺回路をテス
トする方法が提供されることが望ましい。更に、この様
な方法は集積回路のテスト及び製造を複雑化させるもの
でないことが望ましい。
【0006】
【課題を解決するための手段】本発明によれば、メモリ
アレイと共に使用されるデコーダ及びその他の周辺回路
に対するストレステスト方法が提供される。アドレスバ
ッファが、複数個のデコーダの入力を同時的に第一共通
電圧レベルへ設定し、従ってメモリアレイ内の複数個の
行及び/又は列が所定の時間期間の間選択状態とされ
る。次いで、集積回路へストレス電圧が印加され、デコ
ーダ及びその他の周辺回路内のゲート酸化膜のストレス
テストが行なわれる。次いで、複数個のデコーダの入力
は第二共通電圧レベルへ設定され、従ってメモリアレイ
内の複数個の行及び/又は列が非選択状態とされる。最
後に、集積回路へストレス電圧が印加され、デコーダ及
びその他の周辺回路内のゲート酸化膜のストレステスト
が行なわれる。
アレイと共に使用されるデコーダ及びその他の周辺回路
に対するストレステスト方法が提供される。アドレスバ
ッファが、複数個のデコーダの入力を同時的に第一共通
電圧レベルへ設定し、従ってメモリアレイ内の複数個の
行及び/又は列が所定の時間期間の間選択状態とされ
る。次いで、集積回路へストレス電圧が印加され、デコ
ーダ及びその他の周辺回路内のゲート酸化膜のストレス
テストが行なわれる。次いで、複数個のデコーダの入力
は第二共通電圧レベルへ設定され、従ってメモリアレイ
内の複数個の行及び/又は列が非選択状態とされる。最
後に、集積回路へストレス電圧が印加され、デコーダ及
びその他の周辺回路内のゲート酸化膜のストレステスト
が行なわれる。
【0007】
【実施例】図1を参照すると、メモリセルの回路図が示
されている。理解される如く、第一トランジスタ10、
第二トランジスタ12、第一負荷要素14、第二負荷要
素16がフリップフロップ形態で配列されている。好適
実施例においては、負荷要素14,16は抵抗である
が、当業者にとって明らかな如く、負荷要素14,16
に対してPチャンネルトランジスタを使用することも可
能である。
されている。理解される如く、第一トランジスタ10、
第二トランジスタ12、第一負荷要素14、第二負荷要
素16がフリップフロップ形態で配列されている。好適
実施例においては、負荷要素14,16は抵抗である
が、当業者にとって明らかな如く、負荷要素14,16
に対してPチャンネルトランジスタを使用することも可
能である。
【0008】WORDとして示した行線18が第三トラ
ンジスタ20及び第四トランジスタ22のゲートへ接続
している。行線18はセルを活性化させるために使用さ
れる。BIT及びオーバーラインを付けたBITとして
それぞれ示した信号線24,26は、セルへデータを書
込んだりセルからデータを読取ったりするために使用さ
れる。この様に、第三及び第四トランジスタ20,22
は、選択トランジスタとして作用し、且つ第一トランジ
スタ10及び第二トランジスタ12は格納トランジスタ
として作用する。
ンジスタ20及び第四トランジスタ22のゲートへ接続
している。行線18はセルを活性化させるために使用さ
れる。BIT及びオーバーラインを付けたBITとして
それぞれ示した信号線24,26は、セルへデータを書
込んだりセルからデータを読取ったりするために使用さ
れる。この様に、第三及び第四トランジスタ20,22
は、選択トランジスタとして作用し、且つ第一トランジ
スタ10及び第二トランジスタ12は格納トランジスタ
として作用する。
【0009】データは、反対の電圧状態にあるフリップ
フロップの両側における電圧レベルとして格納される。
メモリセルは二つの状態、即ち高乃至は論理1及び低乃
至は論理0を有している。メモリセルが論理1を格納し
ている場合には、ノード28は高状態であり且つノード
30は低状態であり、第一トランジスタ10はターンオ
フしており且つ第二トランジスタ12はターンオンして
いる。論理0状態は反対の状態であり、即ちノード28
は低でありノード30は高である。
フロップの両側における電圧レベルとして格納される。
メモリセルは二つの状態、即ち高乃至は論理1及び低乃
至は論理0を有している。メモリセルが論理1を格納し
ている場合には、ノード28は高状態であり且つノード
30は低状態であり、第一トランジスタ10はターンオ
フしており且つ第二トランジスタ12はターンオンして
いる。論理0状態は反対の状態であり、即ちノード28
は低でありノード30は高である。
【0010】図1に示したメモリセルは複数個の同様の
セルからなるアレイ内に埋め込まれている。図2は本発
明に基づく集積回路におけるメモリアレイと関連した回
路のブロック図を示している。メモリアレイ32は、複
数個の行線36から1個の行線を選択する行デコーダ3
4によってアクセスされる。列デコーダ38は複数個の
ビット線及び反転ビット線40から適宜のビット線及び
反転ビット線を選択する。書込みデコーダ42は、メモ
リアレイ32内にデータを書込むために使用される。列
デコーダ38及び書込みデコーダ42は別個の回路とし
て示してあるが、当業者にとって明らかな如く、列デコ
ーダ38及び書込みデコーダ42は1個の回路として結
合させることが可能である。更に、行デコーダ34及び
列デコーダ38はプレコーディング、コーディング及び
ポストコーディング回路を有することが可能である。
セルからなるアレイ内に埋め込まれている。図2は本発
明に基づく集積回路におけるメモリアレイと関連した回
路のブロック図を示している。メモリアレイ32は、複
数個の行線36から1個の行線を選択する行デコーダ3
4によってアクセスされる。列デコーダ38は複数個の
ビット線及び反転ビット線40から適宜のビット線及び
反転ビット線を選択する。書込みデコーダ42は、メモ
リアレイ32内にデータを書込むために使用される。列
デコーダ38及び書込みデコーダ42は別個の回路とし
て示してあるが、当業者にとって明らかな如く、列デコ
ーダ38及び書込みデコーダ42は1個の回路として結
合させることが可能である。更に、行デコーダ34及び
列デコーダ38はプレコーディング、コーディング及び
ポストコーディング回路を有することが可能である。
【0011】メモリアレイ32と共に使用されるデコー
ダ及び周辺回路のストレステスト方法について説明す
る。ブロック44は複数個のアドレスバッファを表わし
ており、それらは行デコーダ34及び/又は列デコーダ
38によって使用される制御信号を発生する。ブロック
44からの制御信号は、行デコーダ34をしてメモリア
レイ32内の行線の一部又は全てを同時的に選択させ
る。ブロック44からの制御信号は、更に、列デコーダ
38によって使用され、メモリアレイ32内のビット線
及び相補的ビット線の全て又は一部を同時的に選択す
る。
ダ及び周辺回路のストレステスト方法について説明す
る。ブロック44は複数個のアドレスバッファを表わし
ており、それらは行デコーダ34及び/又は列デコーダ
38によって使用される制御信号を発生する。ブロック
44からの制御信号は、行デコーダ34をしてメモリア
レイ32内の行線の一部又は全てを同時的に選択させ
る。ブロック44からの制御信号は、更に、列デコーダ
38によって使用され、メモリアレイ32内のビット線
及び相補的ビット線の全て又は一部を同時的に選択す
る。
【0012】次いで、集積回路へストレス電圧が印加さ
れる。このストレス電圧は、通常、7乃至10Vであ
る。所定の時間が経過した後に、アドレスバッファ44
がメモリアレイ32内の行線、ビット線及び相補的ビッ
ト線を非選択状態とさせる。次いで、該ストレス電圧が
再度集積回路へ印加される。集積回路へ再度ストレス電
圧を印加することによって、デコーダ及び周辺回路内の
全てのノードにストレスがかけられる。換言すると、行
線及びビット線を選択状態とさせ次いで非選択状態とさ
せた場合にストレス電圧を印加することは、デコード経
路全体に亘ってPチャンネルトランジスタ及びNチャン
ネルトランジスタの全てについてストレステストが行な
われることを確保する。
れる。このストレス電圧は、通常、7乃至10Vであ
る。所定の時間が経過した後に、アドレスバッファ44
がメモリアレイ32内の行線、ビット線及び相補的ビッ
ト線を非選択状態とさせる。次いで、該ストレス電圧が
再度集積回路へ印加される。集積回路へ再度ストレス電
圧を印加することによって、デコーダ及び周辺回路内の
全てのノードにストレスがかけられる。換言すると、行
線及びビット線を選択状態とさせ次いで非選択状態とさ
せた場合にストレス電圧を印加することは、デコード経
路全体に亘ってPチャンネルトランジスタ及びNチャン
ネルトランジスタの全てについてストレステストが行な
われることを確保する。
【0013】電流の過渡的状態が懸念事項である場合に
は、VCCを低電圧レベルに設定した状態でストレステス
トを開始し次いでVCCを所望のレベルへランプアップ即
ち勾配をもって上昇させることが可能である。次いで、
行線及びビット線を選択状態とすることと非選択状態と
することとのスイッチングの前にVCCをランプダウン即
ち勾配をもって低下させ、次いで再度ランプアップさせ
てストレス電圧を印加させる。ストレス電圧をランプア
ップ即ち勾配をもって上昇させることによって、電流の
過渡的状態は減少される。電流の過渡的状態を減少させ
る別の技術は、行線のみを選択状態とさせ、ストレス電
圧を印加し、次いでビット線及び相補的ビット線を選択
状態とさせ且つ再度ストレス電圧を印加させることであ
る。
は、VCCを低電圧レベルに設定した状態でストレステス
トを開始し次いでVCCを所望のレベルへランプアップ即
ち勾配をもって上昇させることが可能である。次いで、
行線及びビット線を選択状態とすることと非選択状態と
することとのスイッチングの前にVCCをランプダウン即
ち勾配をもって低下させ、次いで再度ランプアップさせ
てストレス電圧を印加させる。ストレス電圧をランプア
ップ即ち勾配をもって上昇させることによって、電流の
過渡的状態は減少される。電流の過渡的状態を減少させ
る別の技術は、行線のみを選択状態とさせ、ストレス電
圧を印加し、次いでビット線及び相補的ビット線を選択
状態とさせ且つ再度ストレス電圧を印加させることであ
る。
【0014】更に、複数個の行を選択状態とさせる場合
には、ビットライン対の一つ又は両方のビット線負荷を
ターンオフさせることが必要な場合がある。このこと
は、メモリセル内において高電流経路が形成されること
を回避する。更に、ビットライン負荷を接地へ引くこと
が望ましい場合がある。
には、ビットライン対の一つ又は両方のビット線負荷を
ターンオフさせることが必要な場合がある。このこと
は、メモリセル内において高電流経路が形成されること
を回避する。更に、ビットライン負荷を接地へ引くこと
が望ましい場合がある。
【0015】デコーダ及び周辺回路のストレステストを
行なう別の方法は、一度にメモリアレイ32の一部のみ
を選択し且つストレステストを行なうことである。例え
ば、ワード線(即ち行線)、ビット線及び相補的ビット
線の幾つかが、本発明に基づいて、一度に選択状態とさ
れ且つストレステストが行なわれる場合がある。次い
で、メモリアレイ32の別の部分が選択状態とされ且つ
ストレステストが行なわれる。このプロセスは、デコー
ダ及び周辺回路の全てについてストレステストが行なわ
れるまで継続して行なわれる。どの様にして行デコーダ
がセットアップされかに依存して、別の実施態様はメモ
リアレイ32を複数個の象限に分割することである。メ
モリアレイの一つの象限におけるワード線(行線)、ビ
ット線及び相補的ビット線が選択状態とされ且つストレ
ステストが行なわれ、次いで別の象限が選択され且つス
トレステストが行なわれ、この様にして全てのワード線
(行線)、ビット線及び相補的ビット線が選択状態とさ
れ且つ非選択状態とされるまで継続して行なわれる。
行なう別の方法は、一度にメモリアレイ32の一部のみ
を選択し且つストレステストを行なうことである。例え
ば、ワード線(即ち行線)、ビット線及び相補的ビット
線の幾つかが、本発明に基づいて、一度に選択状態とさ
れ且つストレステストが行なわれる場合がある。次い
で、メモリアレイ32の別の部分が選択状態とされ且つ
ストレステストが行なわれる。このプロセスは、デコー
ダ及び周辺回路の全てについてストレステストが行なわ
れるまで継続して行なわれる。どの様にして行デコーダ
がセットアップされかに依存して、別の実施態様はメモ
リアレイ32を複数個の象限に分割することである。メ
モリアレイの一つの象限におけるワード線(行線)、ビ
ット線及び相補的ビット線が選択状態とされ且つストレ
ステストが行なわれ、次いで別の象限が選択され且つス
トレステストが行なわれ、この様にして全てのワード線
(行線)、ビット線及び相補的ビット線が選択状態とさ
れ且つ非選択状態とされるまで継続して行なわれる。
【0016】図3は本発明に基づくデコーダ及び周辺回
路のストレステスト方法と共に使用することの可能なア
ドレスバッファを示した概略回路図である。第一インバ
ータ46、第二インバータ48、第三インバータ50、
第四インバータ52がアドレスパッド54とATRUEとし
て示した第一出力信号線56との間に直列接続されてい
る。第二インバータ48の出力はパスゲート58の入力
へ接続している。第五インバータ60はパスゲート58
の出力とACOMPとして示した第二出力信号線62との間
に接続されている。好適実施例においては、ATRUE及び
ACOMPはアドレスデコーダ(不図示)への入力である。
路のストレステスト方法と共に使用することの可能なア
ドレスバッファを示した概略回路図である。第一インバ
ータ46、第二インバータ48、第三インバータ50、
第四インバータ52がアドレスパッド54とATRUEとし
て示した第一出力信号線56との間に直列接続されてい
る。第二インバータ48の出力はパスゲート58の入力
へ接続している。第五インバータ60はパスゲート58
の出力とACOMPとして示した第二出力信号線62との間
に接続されている。好適実施例においては、ATRUE及び
ACOMPはアドレスデコーダ(不図示)への入力である。
【0017】アドレスパッド54と第一出力信号線56
との間に設けられたインバータ46,48,50,52
は、信号ATRUEに対する駆動能力を増加させるために使
用される。インバータ46,48,50,52はATRUE
に対する時間遅延を発生させる。好適実施例において
は、ACOMPに対する時間遅延をATRUEの時間遅延と等し
くさせ、且つ遷移期間中のACOMPとATRUEの交差点を最
適化させるために、第二インバータ48と第五インバー
タ60との間にパスゲート58が使用されている。
との間に設けられたインバータ46,48,50,52
は、信号ATRUEに対する駆動能力を増加させるために使
用される。インバータ46,48,50,52はATRUE
に対する時間遅延を発生させる。好適実施例において
は、ACOMPに対する時間遅延をATRUEの時間遅延と等し
くさせ、且つ遷移期間中のACOMPとATRUEの交差点を最
適化させるために、第二インバータ48と第五インバー
タ60との間にパスゲート58が使用されている。
【0018】当該技術において公知の如く、パスゲート
58はソース及びドレインを共通としたNチャンネルト
ランジスタ64及びPチャンネルトランジスタ66から
構成される。TSTとして示した信号68はパスゲート
58を制御するために使用される。TST上の信号が低
状態であると、Pチャンネルトランジスタ66がターン
オンされる。更に、第六インバータ70が該信号を反転
させ且つNチャンネルトランジスタ64がターンオンさ
れる。両方のトランジスタがターンオンされると、F
OFF として示した信号72は高状態に設定され、且つF
ONとして示した信号74は低状態へ設定され、パスゲー
トが導通状態となり、且つACOMP及びATR UEは相補的信
号である。
58はソース及びドレインを共通としたNチャンネルト
ランジスタ64及びPチャンネルトランジスタ66から
構成される。TSTとして示した信号68はパスゲート
58を制御するために使用される。TST上の信号が低
状態であると、Pチャンネルトランジスタ66がターン
オンされる。更に、第六インバータ70が該信号を反転
させ且つNチャンネルトランジスタ64がターンオンさ
れる。両方のトランジスタがターンオンされると、F
OFF として示した信号72は高状態に設定され、且つF
ONとして示した信号74は低状態へ設定され、パスゲー
トが導通状態となり、且つACOMP及びATR UEは相補的信
号である。
【0019】本集積回路は、好適には、ACOMP及びA
TRUEの両方が同一の電圧レベルに設定されると、テスト
乃至は特別動作モードとなる。両方の信号を同一の電圧
レベルに設定させるために、TSTは高状態に設定され
る。アドレスパッド54、信号72、信号74、プルア
ップトランジスタ76及びプルダウントランジスタ78
は、以下に詳細に説明する如く、ACOMP及びATRUEの両
方が設定されるべき電圧レベルを選択するために使用さ
れる。
TRUEの両方が同一の電圧レベルに設定されると、テスト
乃至は特別動作モードとなる。両方の信号を同一の電圧
レベルに設定させるために、TSTは高状態に設定され
る。アドレスパッド54、信号72、信号74、プルア
ップトランジスタ76及びプルダウントランジスタ78
は、以下に詳細に説明する如く、ACOMP及びATRUEの両
方が設定されるべき電圧レベルを選択するために使用さ
れる。
【0020】第一実施例の場合には、ACOMP及びATRUE
の両方が高状態であることが必要である場合には、高電
圧レベルがアドレスパッド54へ与えられる。これによ
って、ATRUEは高電圧レベルとされる。ACOMPを高電圧
レベルとさせるためには、FOFF 及びFONが高電圧レベ
ルに設定される。これによりプルアップトランジスタ7
6がターンオフされ且つプルダウントランジスタ78が
ターンオンされる。プルダウントランジスタ78がオン
であると、ノード80は低電圧レベルへ設定され、それ
は第五インバータ60によって高電圧レベルへ反転され
る。従って、ATRUE及びACOMPの両方は高電圧状態に設
定される。
の両方が高状態であることが必要である場合には、高電
圧レベルがアドレスパッド54へ与えられる。これによ
って、ATRUEは高電圧レベルとされる。ACOMPを高電圧
レベルとさせるためには、FOFF 及びFONが高電圧レベ
ルに設定される。これによりプルアップトランジスタ7
6がターンオフされ且つプルダウントランジスタ78が
ターンオンされる。プルダウントランジスタ78がオン
であると、ノード80は低電圧レベルへ設定され、それ
は第五インバータ60によって高電圧レベルへ反転され
る。従って、ATRUE及びACOMPの両方は高電圧状態に設
定される。
【0021】ATRUE及びACOMPを入力として有するアド
レスデコーダ(不図示)がNANDゲートから構成さ
れ、且つこれらのNANDゲートがメモリアレイ内の行
を選択するために使用される場合には、全てのNAND
ゲートはそれらの出力状態として低電圧レベルを有す
る。このことは、メモリアレイ内の全ての行を活性化さ
せる。NANDゲートがメモリアレイ内の列を選択する
ためのデコーダとして使用される場合には、メモリアレ
イ内の全ての列は同一の態様で活性化される。
レスデコーダ(不図示)がNANDゲートから構成さ
れ、且つこれらのNANDゲートがメモリアレイ内の行
を選択するために使用される場合には、全てのNAND
ゲートはそれらの出力状態として低電圧レベルを有す
る。このことは、メモリアレイ内の全ての行を活性化さ
せる。NANDゲートがメモリアレイ内の列を選択する
ためのデコーダとして使用される場合には、メモリアレ
イ内の全ての列は同一の態様で活性化される。
【0022】一方、ACOMP及びATRUEの両方が低電圧レ
ベルであることを必要とする場合には、アドレスパッド
54に低電圧レベルが与えられる。これによって、A
TRUEは低電圧レベルとされる。ACOMPを低電圧レベルと
させるためには、FOFF 及びFONを低電圧レベルへ設定
する。これによってプルアップトランジスタ76はター
ンオンされ且つプルダウントランジスタ78はターンオ
フされる。プルアップトランジスタ76がオンである
と、ノード80は高電圧レベルへ設定され、それは、第
五インバータ60によって低電圧レベルへ反転される。
従って、ATRUE及びACOMPの両方は低電圧状態に設定さ
れる。
ベルであることを必要とする場合には、アドレスパッド
54に低電圧レベルが与えられる。これによって、A
TRUEは低電圧レベルとされる。ACOMPを低電圧レベルと
させるためには、FOFF 及びFONを低電圧レベルへ設定
する。これによってプルアップトランジスタ76はター
ンオンされ且つプルダウントランジスタ78はターンオ
フされる。プルアップトランジスタ76がオンである
と、ノード80は高電圧レベルへ設定され、それは、第
五インバータ60によって低電圧レベルへ反転される。
従って、ATRUE及びACOMPの両方は低電圧状態に設定さ
れる。
【0023】この第二実施例を続いて説明すると、入力
としてATRUE及びACOMPを有するアドレスデコーダ(不
図示)がNANDゲートから構成され、且つこれらのN
ANDゲートがメモリアレイ内の行を選択するために使
用される場合には、全てのNANDゲートはそれらの出
力状態として高電圧レベルを有する。このことは、メモ
リアレイ内の全ての行を活性状態とさせることはない。
NANDゲートがメモリアレイ内の列の選択のためのデ
コーダとして使用される場合には、メモリアレイ内の全
ての列は同一の態様で活性化されることはない。
としてATRUE及びACOMPを有するアドレスデコーダ(不
図示)がNANDゲートから構成され、且つこれらのN
ANDゲートがメモリアレイ内の行を選択するために使
用される場合には、全てのNANDゲートはそれらの出
力状態として高電圧レベルを有する。このことは、メモ
リアレイ内の全ての行を活性状態とさせることはない。
NANDゲートがメモリアレイ内の列の選択のためのデ
コーダとして使用される場合には、メモリアレイ内の全
ての列は同一の態様で活性化されることはない。
【0024】上述したメモリアレイと共に使用されるデ
コーダ及び周辺回路のストレステスト方法は、デコーダ
及び周辺回路内の潜在的な欠陥を検知する方法を提供し
ている。その好適な方法は、Pチャンネル及びNチャン
ネルの両方の全てのトランジスタが、論理高及び論理低
の両方から構成される信号を使用することによってスト
レステストが行なわれることを確保する。更に、上述し
たストレステストは、時間を節約することが可能であ
る。なぜならば、デコーダ及び周辺回路内の全てのノー
ドは二つのテストサイクルでストレステストが行なわれ
るからである。
コーダ及び周辺回路のストレステスト方法は、デコーダ
及び周辺回路内の潜在的な欠陥を検知する方法を提供し
ている。その好適な方法は、Pチャンネル及びNチャン
ネルの両方の全てのトランジスタが、論理高及び論理低
の両方から構成される信号を使用することによってスト
レステストが行なわれることを確保する。更に、上述し
たストレステストは、時間を節約することが可能であ
る。なぜならば、デコーダ及び周辺回路内の全てのノー
ドは二つのテストサイクルでストレステストが行なわれ
るからである。
【0025】上述した方法では、メモリアレイ内の行及
び列の両方を選択し、集積回路にストレスをかけ、行及
び列を非選択状態とし、次いで2回目のストレスをかけ
ることによって実施するものとして記載したが、好適実
施例のオプションの技術を使用することが可能である。
例えば、テスト方法のシーケンスを変更することが可能
である。即ち、行を選択状態とさせ、次いで列を選択状
態とさせるか、又はその逆とすることも可能である。行
又は列のみを選択状態とさせ次いで一度にストレスをか
けるか、又は行及び/又は列の選択又は非選択期間中
に、ストレス電圧を一度だけ印加することも可能であ
る。換言すると、上述した方法はユーザの必要性を満足
するように変化させることが可能である。
び列の両方を選択し、集積回路にストレスをかけ、行及
び列を非選択状態とし、次いで2回目のストレスをかけ
ることによって実施するものとして記載したが、好適実
施例のオプションの技術を使用することが可能である。
例えば、テスト方法のシーケンスを変更することが可能
である。即ち、行を選択状態とさせ、次いで列を選択状
態とさせるか、又はその逆とすることも可能である。行
又は列のみを選択状態とさせ次いで一度にストレスをか
けるか、又は行及び/又は列の選択又は非選択期間中
に、ストレス電圧を一度だけ印加することも可能であ
る。換言すると、上述した方法はユーザの必要性を満足
するように変化させることが可能である。
【0026】以上、本発明の具体的実施の態様について
詳細に説明したが、本発明は、これら具体例にのみ限定
されるべきものではなく、本発明の技術的範囲を逸脱す
ることなしに種々の変形が可能であることは勿論であ
る。
詳細に説明したが、本発明は、これら具体例にのみ限定
されるべきものではなく、本発明の技術的範囲を逸脱す
ることなしに種々の変形が可能であることは勿論であ
る。
【図1】 メモリアレイ内のメモリセルを示した概略
図。
図。
【図2】 メモリ集積回路内の回路の一部を示したブロ
ック図。
ック図。
【図3】 本発明に基づいてデコーダ及び周辺回路のス
トレステスト方法を使用することの可能な回路を示した
概略図。
トレステスト方法を使用することの可能な回路を示した
概略図。
46 第一インバータ 48 第二インバータ 50 第三インバータ 52 第四インバータ 54 アドレスパッド 56 第一出力信号線 58 パスゲート 60 第五インバータ 62 第二出力信号線
Claims (27)
- 【請求項1】 集積回路におけるメモリアレイと共に使
用されるデコーダ及び周辺回路のストレステスト方法に
おいて、 複数個の行デコード回路の入力を第一共通電圧レベルへ
同時的に設定し、尚前記メモリアレイ内の複数個の行は
所定の時間期間の間選択され、 前記集積回路へストレス電圧を印加し、 前記複数個の行デコード回路の入力を第二共通電圧レベ
ルへ同時的に設定し、尚前記メモリアレイ内の前記複数
個の行は非選択状態とされ、 前記集積回路へストレス電圧を印加する、上記各ステッ
プを有することを特徴とする方法。 - 【請求項2】 請求項1において、更に、複数個の行デ
コード回路の入力を同時的に第一共通電圧レベルへ設定
するステップを実施する前に、前記集積回路をテスト又
は特別動作モードとさせるステップを有することを特徴
とする方法。 - 【請求項3】 請求項1において、前記複数個の行デコ
ード回路の入力を同時的に第一共通電圧レベルへ設定す
るステップが、更に、複数個の列デコード回路の入力を
同時的に第一共通電圧レベルへ設定するステップを有し
ており、前記メモリアレイ内の複数個のビット線及び相
補的ビット線が所定の時間期間に亘り選択されることを
特徴とする方法。 - 【請求項4】 請求項3において、前記複数個の行デコ
ード回路の入力を同時的に第二共通電圧レベルへ設定す
るステップが、更に、複数個の列デコード回路の入力を
同時的に第二共通電圧レベルへ設定するステップを有し
ており、前記メモリアレイ内の複数個のビット線及び相
補的ビット線が非選択状態とされることを特徴とする方
法。 - 【請求項5】 請求項1において、前記複数個の行デコ
ード回路の入力を同時的に第一共通電圧レベルへ設定す
るステップが、前記複数個の行デコード回路の入力を同
時的に高電圧レベルへ設定することを特徴とする方法。 - 【請求項6】 請求項5において、前記複数個の行デコ
ード回路の入力を同時的に第二共通電圧レベルへ設定す
るステップが、前記複数個の行デコード回路の入力を同
時的に低電圧レベルへ設定することを特徴とする方法。 - 【請求項7】 請求項1において、複数個の行を選択す
る期間中にビットライン対のビットライン負荷がターン
オフされることを特徴とする方法。 - 【請求項8】 請求項7において、前記ビットライン負
荷がターンオフされた後に接地へ引かれることを特徴と
する方法。 - 【請求項9】 請求項1において、複数個の行デコード
回路又は複数個の列デコード回路の入力を設定するステ
ップが、前記ストレス電圧が低電圧レベルに設定される
場合に実施されることを特徴とする方法。 - 【請求項10】 集積回路におけるメモリアレイと共に
使用されるデコーダ及び周辺回路のストレステスト方法
において、 複数個の列デコード回路の入力を同時的に第一共通電圧
レベルへ設定し、尚前記メモリアレイ内の複数個のビッ
ト線及び相補的ビット線は所定の時間期間の間選択状態
とされ、 前記集積回路へストレス電圧を印加し、 前記複数個の列デコード回路の入力を同時的に第二共通
電圧レベルへ設定し、尚前記メモリアレイ内の複数個の
ビット線及び相補的ビット線は非選択状態とされ、 前記集積回路へストレス電圧を印加する、上記各ステッ
プを有することを特徴とする方法。 - 【請求項11】 請求項10において、更に、前記複数
個の列デコード回路の入力を同時的に第一共通電圧レベ
ルへ設定するステップを実施する前に、前記集積回路を
テスト又は特別動作モードとさせるステップを有するこ
とを特徴とする方法。 - 【請求項12】 請求項10において、前記複数個の列
デコード回路の入力を同時的に第一共通電圧レベルへ設
定するステップが、更に、複数個の行デコード回路の入
力を同時的に前記第一共通電圧レベルへ設定するステッ
プを有しており、尚前記メモリアレイ内の複数個の行が
所定の時間期間の間選択状態とされることを特徴とする
方法。 - 【請求項13】 請求項12において、ビットライン対
のビットライン負荷が、前記複数個の行の選択期間中に
ターンオフされることを特徴とする方法。 - 【請求項14】 請求項13において、前記ビットライ
ン負荷がターンオフされた後に接地へ引かれることを特
徴とする方法。 - 【請求項15】 請求項12において、前記複数個の列
デコード回路の入力を同時的に第二共通電圧レベルへ設
定するステップが、更に、複数個の行デコード回路の入
力を同時的に前記第二共通電圧レベルへ設定するステッ
プを有しており、尚前記メモリアレイ内の複数個の行が
非選択状態とされることを特徴とする方法。 - 【請求項16】 請求項10において、前記複数個の列
デコード回路の入力を同時的に第一共通電圧レベルへ設
定するステップが、前記複数個の列デコード回路の入力
を同時的に高電圧レベルへ設定することを特徴とする方
法。 - 【請求項17】 請求項16において、前記複数個の列
デコード回路の入力を同時的に第二共通電圧レベルへ設
定するステップが、前記複数個の列デコード回路の入力
を同時的に低電圧レベルへ設定することを特徴とする方
法。 - 【請求項18】 請求項12において、複数個の行デコ
ード回路又は列デコード回路の入力を設定する前記ステ
ップが、前記ストレス電圧が低電圧レベルに設定される
場合に実施されることを特徴とする方法。 - 【請求項19】 集積回路におけるメモリアレイと共に
使用されるデコーダ及び周辺回路のストレステスト方法
において、 複数個の行デコード回路の入力を同時的に第一共通電圧
レベルへ設定し、尚前記メモリアレイ内の複数個の行は
所定の時間期間の間選択状態とされ、 複数個の列デコード回路の入力を同時的に第二共通電圧
レベルへ設定し、尚前記メモリアレイ内の複数個のビッ
ト線及び相補的ビット線は前記所定の時間期間の間選択
状態とされ、 前記集積回路へストレス電圧を印加し、 前記複数個の行デコード回路の入力を同時的に第三共通
電圧レベルへ設定し、尚前記メモリアレイ内の前記複数
個の行は非選択状態とされ、 前記複数個の列デコード回路の入力を同時的に第四共通
電圧レベルへ設定し、尚前記メモリアレイ内の前記複数
個のビット線及び相補的ビット線は非選択状態とされ、 前記集積回路へストレス電圧を印加する、上記各ステッ
プを有することを特徴とする方法。 - 【請求項20】 請求項19において、更に、前記複数
個の行デコード回路の入力を同時的に第一共通電圧レベ
ルへ設定するステップを実施する前に、前記集積回路を
テスト又は特別動作モードとさせるステップを有するこ
とを特徴とする方法。 - 【請求項21】 請求項19において、前記複数個の行
デコード回路の入力を同時的に第一共通電圧レベルへ設
定するステップが、複数個の行デコード回路の入力を同
時的に低電圧レベルへ設定することを特徴とする方法。 - 【請求項22】 請求項19において、前記複数個の列
デコード回路の入力を同時的に第二共通電圧レベルへ設
定するステップが、複数個の列デコード回路の入力を同
時的に低電圧レベルへ設定することを特徴とする方法。 - 【請求項23】 請求項19において、前記複数個の行
デコード回路の入力を同時的に第三共通電圧レベルへ設
定するステップが、複数個の行デコード回路の入力を同
時的に高電圧レベルへ設定することを特徴とする方法。 - 【請求項24】 請求項19において、前記複数個の列
デコード回路の入力を同時的に第四共通電圧レベルへ設
定するステップが、複数個の列デコード回路の入力を同
時的に高電圧レベルへ設定することを特徴とする方法。 - 【請求項25】 請求項19において、ビットライン対
のビットライン負荷が、複数個の行を選択する期間中タ
ーンオフされることを特徴とする方法。 - 【請求項26】 請求項25において、前記ビットライ
ン負荷がターンオフされた後に接地へ引かれることを特
徴とする方法。 - 【請求項27】 請求項19において、前記複数個の行
デコード回路又は列デコード回路の入力を設定するステ
ップが、前記ストレス電圧が低電圧レベルに設定される
場合に実施されることを特徴とする方法。
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
US56376 | 1993-04-30 | ||
US08/056,376 US5341336A (en) | 1993-04-30 | 1993-04-30 | Method for stress testing decoders and periphery circuits |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH0757473A true JPH0757473A (ja) | 1995-03-03 |
Family
ID=22003982
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP6092222A Pending JPH0757473A (ja) | 1993-04-30 | 1994-04-28 | デコーダ及び周辺回路のストレステスト方法 |
Country Status (4)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US5341336A (ja) |
EP (1) | EP0622809B1 (ja) |
JP (1) | JPH0757473A (ja) |
DE (1) | DE69419656D1 (ja) |
Families Citing this family (21)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5530674A (en) * | 1994-04-29 | 1996-06-25 | Sgs-Thomson Microelectronics, Inc. | Structure capable of simultaneously testing redundant and non-redundant memory elements during stress testing of an integrated circuit memory device |
US5627787A (en) * | 1995-01-03 | 1997-05-06 | Sgs-Thomson Microelectronics, Inc. | Periphery stress test for synchronous RAMs |
US5592422A (en) * | 1995-06-07 | 1997-01-07 | Sgs-Thomson Microelectronics, Inc. | Reduced pin count stress test circuit for integrated memory devices and method therefor |
US5619462A (en) * | 1995-07-31 | 1997-04-08 | Sgs-Thomson Microelectronics, Inc. | Fault detection for entire wafer stress test |
US5745420A (en) * | 1995-07-31 | 1998-04-28 | Sgs-Thomson Microelectronics, Inc. | Integrated memory circuit with sequenced bitlines for stress test |
US5861660A (en) * | 1995-08-21 | 1999-01-19 | Stmicroelectronics, Inc. | Integrated-circuit die suitable for wafer-level testing and method for forming the same |
US5808947A (en) * | 1995-08-21 | 1998-09-15 | Sgs-Thomson Microelectronics, Inc. | Integrated circuit that supports and method for wafer-level testing |
US5557573A (en) * | 1995-08-21 | 1996-09-17 | Sgs-Thomson Microelectronics, Inc. | Entire wafer stress test method for integrated memory devices and circuit therefor |
US5689467A (en) * | 1995-11-30 | 1997-11-18 | Texas Instruments Incorporated | Apparatus and method for reducing test time of the data retention parameter in a dynamic random access memory |
US5745432A (en) * | 1996-01-19 | 1998-04-28 | Sgs-Thomson Microelectronics, Inc. | Write driver having a test function |
US5691950A (en) * | 1996-01-19 | 1997-11-25 | Sgs-Thomson Microelectronics, Inc. | Device and method for isolating bit lines from a data line |
US5845059A (en) * | 1996-01-19 | 1998-12-01 | Stmicroelectronics, Inc. | Data-input device for generating test signals on bit and bit-complement lines |
US5848018A (en) * | 1996-01-19 | 1998-12-08 | Stmicroelectronics, Inc. | Memory-row selector having a test function |
US5802004A (en) * | 1996-01-19 | 1998-09-01 | Sgs-Thomson Microelectronics, Inc. | Clocked sense amplifier with wordline tracking |
US5883838A (en) * | 1996-01-19 | 1999-03-16 | Stmicroelectronics, Inc. | Device and method for driving a conductive path with a signal |
US6072719A (en) | 1996-04-19 | 2000-06-06 | Kabushiki Kaisha Toshiba | Semiconductor memory device |
US5859442A (en) * | 1996-12-03 | 1999-01-12 | Micron Technology, Inc. | Circuit and method for configuring a redundant bond pad for probing a semiconductor |
US5877993A (en) * | 1997-05-13 | 1999-03-02 | Micron Technology, Inc. | Memory circuit voltage regulator |
US6081466A (en) * | 1998-10-30 | 2000-06-27 | Stmicroelectronics, Inc. | Stress test mode entry at power up for low/zero power memories |
US6535014B2 (en) | 2000-01-19 | 2003-03-18 | Lucent Technologies, Inc. | Electrical parameter tester having decoupling means |
US7405585B2 (en) * | 2006-02-14 | 2008-07-29 | Taiwan Semiconductor Manufacturing Co., Ltd. | Versatile semiconductor test structure array |
Family Cites Families (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
EP0101107A2 (en) * | 1982-07-19 | 1984-02-22 | Motorola, Inc. | Method of testing a semiconductor memory array |
JPS59107493A (ja) * | 1982-12-09 | 1984-06-21 | Ricoh Co Ltd | テスト回路付きepromメモリ装置 |
JP2603205B2 (ja) * | 1987-03-16 | 1997-04-23 | シーメンス、アクチエンゲゼルシヤフト | 多段集積デコーダ装置 |
EP0413347A3 (en) * | 1989-08-18 | 1991-06-05 | Hitachi, Ltd. | Semiconductor nonvolatile memory device |
US5208776A (en) * | 1990-07-31 | 1993-05-04 | Texas Instruments, Incorporated | Pulse generation circuit |
-
1993
- 1993-04-30 US US08/056,376 patent/US5341336A/en not_active Expired - Lifetime
-
1994
- 1994-04-28 JP JP6092222A patent/JPH0757473A/ja active Pending
- 1994-04-28 EP EP94303083A patent/EP0622809B1/en not_active Expired - Lifetime
- 1994-04-28 DE DE69419656T patent/DE69419656D1/de not_active Expired - Lifetime
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
EP0622809B1 (en) | 1999-07-28 |
US5341336A (en) | 1994-08-23 |
EP0622809A1 (en) | 1994-11-02 |
DE69419656D1 (de) | 1999-09-02 |
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