JPH075410Y2 - Ｓｏ▲下２▼分析計用前処理装置 - Google Patents
Ｓｏ▲下２▼分析計用前処理装置Info
- Publication number
- JPH075410Y2 JPH075410Y2 JP1987041189U JP4118987U JPH075410Y2 JP H075410 Y2 JPH075410 Y2 JP H075410Y2 JP 1987041189 U JP1987041189 U JP 1987041189U JP 4118987 U JP4118987 U JP 4118987U JP H075410 Y2 JPH075410 Y2 JP H075410Y2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- analyzer
- sample gas
- gas
- heating tube
- vanadium pentoxide
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Lifetime
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- Investigating Or Analyzing Non-Biological Materials By The Use Of Chemical Means (AREA)
- Investigating, Analyzing Materials By Fluorescence Or Luminescence (AREA)
- Sampling And Sample Adjustment (AREA)
Description
【考案の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本考案は、SO2分析計用前処理装置の改良に関する。
SO2（二酸化イオウ）を分析する方法の一つに紫外螢光
法がある。この紫外螢光法は、サンプルガスに紫外線を
照射すると、サンプルガス中に含まれるSO2が螢光を発
し、この螢光の強さを測定することにより、SO2濃度を
測定するようにしたものである。
法がある。この紫外螢光法は、サンプルガスに紫外線を
照射すると、サンプルガス中に含まれるSO2が螢光を発
し、この螢光の強さを測定することにより、SO2濃度を
測定するようにしたものである。
ところで、エチルベンゼン，キシレン，ナフタレン等の
芳香族炭化水素は、例えば大気中には極僅かしか含まれ
ていないが、この芳香族炭化水素もSO2と同様に、紫外
線の照射を受けると螢光を発することが知られており、
従って、紫外螢光法によるSO2の測定において干渉ガス
として作用する芳香族炭化水素を除去する必要がある。
芳香族炭化水素は、例えば大気中には極僅かしか含まれ
ていないが、この芳香族炭化水素もSO2と同様に、紫外
線の照射を受けると螢光を発することが知られており、
従って、紫外螢光法によるSO2の測定において干渉ガス
として作用する芳香族炭化水素を除去する必要がある。
そこで、紫外螢光法によるSO2の測定においては、一般
に、第２図に示すように、SO2分析計１の前段に前処理
装置２を設けて上記干渉ガスを除去するようにしてお
り、例えば、サンプルガスＧを、pt,pd等の酸化触媒３
を充填した加熱管４内を通過させるようにすると共に、
この加熱管４を所定の温度に加熱することにより、サン
プルガスＧ中に含まれる干渉ガスを酸化又は吸着して干
渉ガスを除去するようにしていた。尚、第２図におい
て、５はフィルタ、６は流量計、７はニードルバルブ、
８はサンプルガスを吸引するための吸引手段としてのポ
ンプである。
に、第２図に示すように、SO2分析計１の前段に前処理
装置２を設けて上記干渉ガスを除去するようにしてお
り、例えば、サンプルガスＧを、pt,pd等の酸化触媒３
を充填した加熱管４内を通過させるようにすると共に、
この加熱管４を所定の温度に加熱することにより、サン
プルガスＧ中に含まれる干渉ガスを酸化又は吸着して干
渉ガスを除去するようにしていた。尚、第２図におい
て、５はフィルタ、６は流量計、７はニードルバルブ、
８はサンプルガスを吸引するための吸引手段としてのポ
ンプである。
しかしながら、上記Pt,Pd等の酸化触媒３は酸化能力が
大きいため、干渉ガスのみならず測定対象成分であるSO
2も酸化又は吸着されてしまい、これによってサンプル
ガスＧ中のSO2に損失が生じ、正確な測定が困難である
という問題点があった。また、加熱管４内にPt,Pd等の
酸化触媒を充填した場合、サンプルガスを流過させる際
に圧力損失が伴い易く、ポンプ８に大きな出力が要求さ
れ、かつ外部から測定対象外の成分ガスを吸入し易いた
め非常にタイトなシールを施さなければならず装置がコ
スト高になるという難点があった。これに対して、ガラ
ス状炭素を酸化触媒として用いたり、オゾンによる酸化
を利用すること等が試みられているが、これらは何れも
寿命が短く、メンテナンスが面倒である他、オゾンによ
る場合はオゾンが紫外線を吸収する性質を有するため、
過剰のオゾンによりSO2分析計に測定上の悪影響が及ぼ
され、そのため、オゾン分解器を設ける必要がある等構
成が複雑になると共に高価になるといった欠点がある。
大きいため、干渉ガスのみならず測定対象成分であるSO
2も酸化又は吸着されてしまい、これによってサンプル
ガスＧ中のSO2に損失が生じ、正確な測定が困難である
という問題点があった。また、加熱管４内にPt,Pd等の
酸化触媒を充填した場合、サンプルガスを流過させる際
に圧力損失が伴い易く、ポンプ８に大きな出力が要求さ
れ、かつ外部から測定対象外の成分ガスを吸入し易いた
め非常にタイトなシールを施さなければならず装置がコ
スト高になるという難点があった。これに対して、ガラ
ス状炭素を酸化触媒として用いたり、オゾンによる酸化
を利用すること等が試みられているが、これらは何れも
寿命が短く、メンテナンスが面倒である他、オゾンによ
る場合はオゾンが紫外線を吸収する性質を有するため、
過剰のオゾンによりSO2分析計に測定上の悪影響が及ぼ
され、そのため、オゾン分解器を設ける必要がある等構
成が複雑になると共に高価になるといった欠点がある。
本考案は、上述の事柄に留意してなされたもので、その
目的とするところは、圧力損失が少なく、かつSO2を損
失させることなく干渉ガスを確実に除去することがで
き、しかも安価でメンテナンスが容易で測定精度が高い
SO2分析計用前処理装置を提供することにある。
目的とするところは、圧力損失が少なく、かつSO2を損
失させることなく干渉ガスを確実に除去することがで
き、しかも安価でメンテナンスが容易で測定精度が高い
SO2分析計用前処理装置を提供することにある。
上述の目的を達成するため、本考案に掛かるSO2分析計
用前処理装置は、SO2分析計の上流側に配置され、そのS
O2分析計の下流側に設けた吸引手段によって吸引される
サンプルガスを導入させるようにしたSO2分析計用前処
理装置であって、そのサンプルガスが導入される加熱管
内に、粉体状の五酸化バナジウムを圧損の少ないウール
状保持体に分散的に保持させた状態として設け、前記加
熱管を300〜400℃で加熱することにより前記サンプルガ
ス中の干渉ガスを除去するようにした点に特徴がある。
用前処理装置は、SO2分析計の上流側に配置され、そのS
O2分析計の下流側に設けた吸引手段によって吸引される
サンプルガスを導入させるようにしたSO2分析計用前処
理装置であって、そのサンプルガスが導入される加熱管
内に、粉体状の五酸化バナジウムを圧損の少ないウール
状保持体に分散的に保持させた状態として設け、前記加
熱管を300〜400℃で加熱することにより前記サンプルガ
ス中の干渉ガスを除去するようにした点に特徴がある。
上記構成によれば、五酸化バナジウムは300〜400℃の範
囲においては、SO2を酸化させたり吸着することが少な
く、酸化触媒としての機能を維持し続けるので、干渉ガ
スである芳香族炭化水素は五酸化バナジウムによって完
全に酸化される。又、加熱管内に、ウール状保持体に分
散的に保持させた状態で粉体状の五酸化バナジウムを設
けているので、加熱管内の圧力損失が少なく、サンプル
ガスを加熱管内にスムーズにゆき渡らせて流過させるこ
とができ、良好な接触反応を得ることができる。しか
も、圧力損失が少ないことにより、吸収手段の出力が小
さくて済み、かつ測定成分外の成分ガスの吸入を阻止す
るための特に高価なシールは不要である。
囲においては、SO2を酸化させたり吸着することが少な
く、酸化触媒としての機能を維持し続けるので、干渉ガ
スである芳香族炭化水素は五酸化バナジウムによって完
全に酸化される。又、加熱管内に、ウール状保持体に分
散的に保持させた状態で粉体状の五酸化バナジウムを設
けているので、加熱管内の圧力損失が少なく、サンプル
ガスを加熱管内にスムーズにゆき渡らせて流過させるこ
とができ、良好な接触反応を得ることができる。しか
も、圧力損失が少ないことにより、吸収手段の出力が小
さくて済み、かつ測定成分外の成分ガスの吸入を阻止す
るための特に高価なシールは不要である。
以下、本考案の一実施例を、図面に基づいて説明する。
第１図は本考案に係るSO2分析計用前処理装置の一例を
示し、11はアルミニウム又はステンレス等の熱伝導性に
優れた金属よりなる加熱ブロックで、その略中央に貫通
孔12が略水平に開設されており、この貫通孔12内には石
英等耐熱性に優れた材料よりなる加熱管13が挿通配置し
てある。
示し、11はアルミニウム又はステンレス等の熱伝導性に
優れた金属よりなる加熱ブロックで、その略中央に貫通
孔12が略水平に開設されており、この貫通孔12内には石
英等耐熱性に優れた材料よりなる加熱管13が挿通配置し
てある。
この加熱管13の一方の開口13aは図外のフィルタの出口
に接続してあり、他方の開口13bは図外のSO2分析計の入
口に接続してある。そして、加熱管13の内部には、酸化
触媒としての粉体状の五酸化バナジウム14が、例えば石
英よりなるウール状保持体15の全体（全周及び内部）に
亘って分散的に保持させた状態で設けられている。又、
加熱管13の開口13a,13bの近傍には五酸化バナジウム14
の加熱管13外への飛散を防止するための石英ウール等の
ウール状栓体16,16が設けてある。
に接続してあり、他方の開口13bは図外のSO2分析計の入
口に接続してある。そして、加熱管13の内部には、酸化
触媒としての粉体状の五酸化バナジウム14が、例えば石
英よりなるウール状保持体15の全体（全周及び内部）に
亘って分散的に保持させた状態で設けられている。又、
加熱管13の開口13a,13bの近傍には五酸化バナジウム14
の加熱管13外への飛散を防止するための石英ウール等の
ウール状栓体16,16が設けてある。
17,17は加熱ブロック体11に埋設されたヒータで、貫通
孔12の近傍（図示例では上下）に設けられたヒータ挿入
穴18,18内に挿入配置されている。このヒータ17,17とし
て自己温度制御式の所謂PTCヒータ〔例えば村田製作所
製のポジスタ（商品名）〕を用いることができる。尚、
19,19は電源コードである。
孔12の近傍（図示例では上下）に設けられたヒータ挿入
穴18,18内に挿入配置されている。このヒータ17,17とし
て自己温度制御式の所謂PTCヒータ〔例えば村田製作所
製のポジスタ（商品名）〕を用いることができる。尚、
19,19は電源コードである。
20は加熱ブロック体11の外周を被覆する断熱材である。
而して、上記構成のSO2分析計用前処理装置の作動を説
明すると、加熱管13内に、五酸化バナジウム14をウール
状保持体15によって保持させた状態で設け、サンプルガ
スＧの導入に先立ってヒータ17,17を通電状態にしてお
き、加熱管13内の温度が300〜400℃になるようにしてお
く。この状態において、開口13a側からサンプルガスＧ
を導入する。
明すると、加熱管13内に、五酸化バナジウム14をウール
状保持体15によって保持させた状態で設け、サンプルガ
スＧの導入に先立ってヒータ17,17を通電状態にしてお
き、加熱管13内の温度が300〜400℃になるようにしてお
く。この状態において、開口13a側からサンプルガスＧ
を導入する。
ここで、五酸化バナジウム14は300〜400℃といった高温
に加熱されているから、この五酸化バナジウム14に接触
したサンプルガスＧに含まれる干渉ガスである芳香族炭
化水素は完全に酸化される。そして、この場合、五酸化
バナジウム14は上記温度範囲においては、SO2を酸化さ
せたり吸着することが少なく、従って、SO2の損失を殆
ど生ずることがなく、酸化触媒としての機能を維持し続
けることができる。
に加熱されているから、この五酸化バナジウム14に接触
したサンプルガスＧに含まれる干渉ガスである芳香族炭
化水素は完全に酸化される。そして、この場合、五酸化
バナジウム14は上記温度範囲においては、SO2を酸化さ
せたり吸着することが少なく、従って、SO2の損失を殆
ど生ずることがなく、酸化触媒としての機能を維持し続
けることができる。
又、加熱管13内に、ウール状保持体15に分散的に保持さ
せた状態で粉体状の五酸化バナジウム14を設けているの
で、加熱管13内の圧力損失が少なく、サンプルガスＧが
加熱管13内にスムーズにゆき渡って移動し、良好な接触
反応が得られる。また、圧力損失が少ないことによっ
て、サンプルガスを吸引するポンプ（第２図参照）の出
力が小さくて済み、かつ特にタイトなシール構造を要さ
ずコスト安となる。
せた状態で粉体状の五酸化バナジウム14を設けているの
で、加熱管13内の圧力損失が少なく、サンプルガスＧが
加熱管13内にスムーズにゆき渡って移動し、良好な接触
反応が得られる。また、圧力損失が少ないことによっ
て、サンプルガスを吸引するポンプ（第２図参照）の出
力が小さくて済み、かつ特にタイトなシール構造を要さ
ずコスト安となる。
上述のように、五酸化バナジウム14で充分に接触されて
加熱管13から導出されたサンプルガスＧは、他方の開口
13b側においては、SO2を損なうことなくしかもSO2の測
定に有害な干渉ガスを殆ど含まない状態の前処理後のサ
ンプルガスＧ′となり、このサンプルガスＧ′は図外の
SO2分析計に供給される。
加熱管13から導出されたサンプルガスＧは、他方の開口
13b側においては、SO2を損なうことなくしかもSO2の測
定に有害な干渉ガスを殆ど含まない状態の前処理後のサ
ンプルガスＧ′となり、このサンプルガスＧ′は図外の
SO2分析計に供給される。
尚、上述の実施例においては、石英によりウール状保持
体15を形成しているが、これをガラスからなるウール状
保持体としてもよい。
体15を形成しているが、これをガラスからなるウール状
保持体としてもよい。
以上説明したように、本考案に係るSO2分析計用前処理
装置は、サンプルガスが導入される加熱管内に、ウール
状保持体に分散的に保持させた状態で粉体状の五酸化バ
ナジウムを設け、前記加熱管を300〜400℃で加熱するこ
とにより前記サンプルガス中の干渉ガスを除去するよう
にしているので、加熱管内の圧力損失が少なく、吸引手
段の出力が小さくて済み、サンプルガスが加熱管内にス
ムーズにゆき渡って移動し、良好な接触反応が得られ、
サンプルガス中に含まれる干渉ガスは完全に除去され、
しかも測定対象成分であるSO2の損失は殆どないから、S
O2分析計において正確な測定を行うことができる。しか
も、圧力損失が少ないことによって、吸引手段の出力が
小さくて済み、かつ測定成分外の成分ガスの吸入を阻止
するための特に高価なシールは不要であり、装置をコス
ト安に形成できる利点がある。
装置は、サンプルガスが導入される加熱管内に、ウール
状保持体に分散的に保持させた状態で粉体状の五酸化バ
ナジウムを設け、前記加熱管を300〜400℃で加熱するこ
とにより前記サンプルガス中の干渉ガスを除去するよう
にしているので、加熱管内の圧力損失が少なく、吸引手
段の出力が小さくて済み、サンプルガスが加熱管内にス
ムーズにゆき渡って移動し、良好な接触反応が得られ、
サンプルガス中に含まれる干渉ガスは完全に除去され、
しかも測定対象成分であるSO2の損失は殆どないから、S
O2分析計において正確な測定を行うことができる。しか
も、圧力損失が少ないことによって、吸引手段の出力が
小さくて済み、かつ測定成分外の成分ガスの吸入を阻止
するための特に高価なシールは不要であり、装置をコス
ト安に形成できる利点がある。
又、従来技術におけるPt,Pd等の酸化触媒は、珪藻土等
の担体にPt又はPdをコーティングするようにしたもので
あるため高価であったが、本考案においては、粉体状の
五酸化バナジウムを酸化触媒としているので、極めて安
価であると共に、寿命が長いため交換頻度が少なくて済
み、メンテナンスが容易である。
の担体にPt又はPdをコーティングするようにしたもので
あるため高価であったが、本考案においては、粉体状の
五酸化バナジウムを酸化触媒としているので、極めて安
価であると共に、寿命が長いため交換頻度が少なくて済
み、メンテナンスが容易である。
このように、本考案によれば、SO2分析計の長期的なド
リフトや汚染を未然に防止することができる。
リフトや汚染を未然に防止することができる。
第１図は本考案に係るSO2分析計用前処理装置の一例を
示す断面図、第２図は一般的なSO2分析装置の構成を示
す図である。 13…加熱管、14…五酸化バナジウム、15…ウール状保持
体、Ｇ…サンプルガス。
示す断面図、第２図は一般的なSO2分析装置の構成を示
す図である。 13…加熱管、14…五酸化バナジウム、15…ウール状保持
体、Ｇ…サンプルガス。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)考案者 三笠 元 京都府京都市南区吉祥院宮の東町２番地 株式会社堀場製作所内 (56)参考文献 実開 昭55−126933（ＪＰ，Ｕ)
Claims (1)
- 【請求項１】SO2分析計の上流側に配置され、そのSO2分
析計の下流側に設けた吸引手段によって吸引されるサン
プルガスを導入させるようにしたSO2分析計用前処理装
置であって、そのサンプルガスが導入される加熱管内
に、粉体状の五酸化バナジウムを圧損の少ないウール状
保持体に分散的に保持させた状態として設け、前記加熱
管を300〜400℃で加熱することにより前記サンプルガス
中の干渉ガスを除去するようにしたことを特徴とするSO
2分析計用前処理装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1987041189U JPH075410Y2 (ja) | 1987-03-20 | 1987-03-20 | Ｓｏ▲下２▼分析計用前処理装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1987041189U JPH075410Y2 (ja) | 1987-03-20 | 1987-03-20 | Ｓｏ▲下２▼分析計用前処理装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS63148854U JPS63148854U (ja) | 1988-09-30 |
| JPH075410Y2 true JPH075410Y2 (ja) | 1995-02-08 |
Family
ID=30855960
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP1987041189U Expired - Lifetime JPH075410Y2 (ja) | 1987-03-20 | 1987-03-20 | Ｓｏ▲下２▼分析計用前処理装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH075410Y2 (ja) |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP5877540B2 (ja) * | 2012-03-28 | 2016-03-08 | 京都電子工業株式会社 | 水銀濃度測定装置及び前処理器 |
Family Cites Families (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS55126933U (ja) * | 1980-01-31 | 1980-09-08 |
-
1987
- 1987-03-20 JP JP1987041189U patent/JPH075410Y2/ja not_active Expired - Lifetime
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS63148854U (ja) | 1988-09-30 |
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