JPH0753522A - N−置換ピラゾールの製法 - Google Patents
N−置換ピラゾールの製法Info
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Abstract
IIIの化合物とを、触媒の存在中で、200〜550
℃の温度で、かつ0.001〜50バールの圧力で、反
応させて下記一般式IのN−置換ピラゾールを製造する
場合に、触媒として、不均一系触媒を用いる。 【化1】
Description
もしくはエーテルとを、不均一系触媒の存在下で、高め
た温度で反応させることによる、N−置換ピラゾールの
製法に関する。
07号明細書からピラゾールのN−アルキル化法が公知
であり、ここでは、N−非置換ピラゾールを強塩基、例
えばナトリウムメチラート又はアルカリ金属、例えばナ
トリウムを用いて、相当する塩に変え、かつ引続きハロ
ゲン化アルキル又は硫酸ジアルキルを用いて、アルキル
化する。この方法の欠点は、高価な出発物質及び高い付
随的塩生成である。
etters)575〜578(1992)から、ピラ
ゾールのN−アルキル化法が公知であり、ここでは、N
−非置換ピラゾールとアルコールとを、ルテニウム−、
ロジウム−又はイリジウム−亜燐酸トリアルキル−錯体
の触媒量の存在下で反応させる。
は、前記の欠点を除去することである。
I:
C7〜C20−フェニルアルキルを表わし、R2,R3,R4
は、相互に無関係に水素、C1〜C12−アルキル、フェ
ニル、C7〜C20−アルキルフェニル又はC7〜C20−フ
ェニルアルキルを表す]のN−置換ピラゾールの製法
を、一般式II:
有する]のピラゾールと、一般式III:
R5は、水素又はR1を表す]の化合物とを触媒の存在中
で、200〜550℃の温度で、かつ0.001〜50
バールの圧力で反応させることにより、実施する際に、
新規改良製法が発見され、これは、触媒として不均一系
触媒を使用することを特徴とする。
ことができる:反応は、不均一系触媒の存在下で、20
0〜550℃、有利には250〜450℃、特に有利に
は280〜400℃の温度で、0.001〜50バー
ル、有利には0.01〜5バール、殊に有利には0.1
〜1.5バールの圧力で、一般に常圧(大気圧)でか
つ、場合により不活性ガス、例えば窒素及びアルゴン中
で、ピラゾールIIと化合物IIIとの接触反応によ
り、実施することができる。反応が、有利な気相で起こ
るよう、温度及び圧力条件を選択するべきである。触媒
としては、不均一系触媒、殊に酸性の中心をもつもの、
例えば酸化アルミニウム、二酸化珪素、二酸化チタン及
び/又は二酸化ジルコンが好適であり、場合により燐酸
1〜30、殊に5〜15重量%を共に配量し、γ−酸化
アルミニウム及び二酸化ケイ素が有利である。燐酸は、
全て又は一部分、五酸化燐、正燐酸、ピロ燐酸又はポリ
燐酸として、例えば五酸化燐72〜88重量%として存
在してよく、燐酸又は無水燐酸の実際の組成に関係無
く、それらをこの場合燐酸と見なす。
は一般に、0.01:1〜1.1:1、有利には0.
1:1〜1:1、殊に有利には0.8:1〜0.95:
1である。
反応温度まで加熱された出発物質IIとIIIとを、固
体層反応器中の反応温度まで加熱された触媒上に導くよ
うに実施することができる。反応空間から出る混合物を
濃縮し、かつ分留することができる。
は、簡単で、かつ経済的な方法で、N−置換ピラゾール
を生じる。
R2,R3,R4,R5は、次の意味を有する: R1,R2,R3,R4,R5は相互に無関係に、 −C1〜C12−アルキル、有利にはC1〜C8−アルキ
ル、例えば、メチル、エチル、n−プロピル、イソプロ
ピル、n−ブチル、イソブチル、s−ブチル、t−ブチ
ル、n−ペンチル、イソペンチル、s−ペンチル、ネオ
ペンチル、1,2−ジメチルプロピル、n−ヘキシル、
イソヘキシル、s−ヘキシル、n−ヘプチル、i−ヘプ
チル、n−オクチル、イソオクチル、殊に有利にはC1
〜C4−アルキル、例えば、メチル、エチル、n−プロ
ピル、イソプロピル、n−ブチル、イソブチル、s−ブ
チル及びt−ブチル、 −フェニル、 −C7〜C20−アルキルフェニル、有利にはC7〜C12−
アルキルフェニル、例えば2−メチルフェニル、3−メ
チルフェニル、4−メチルフェニル、2,4−ジメチル
フェニル、2,5−ジメチルフェニル、2,6−ジメチ
ルフェニル、3,4−ジメチルフェニル、3,5−ジメ
チルフェニル、2,3,4−トリメチルフェニル、2,
3,5−トリメチルフェニル、2,3,6−トリメチル
フェニル、2,4,6−トリメチルフェニル、2−エチ
ルフェニル、3−エチルフェニル、4−エチルフェニ
ル、2−n−プロピルフェニル、3−n−プロピルフェ
ニル及び4−n−プロピルフェニル、 −C7〜C20−フェニルアルキル、有利にはC7〜C12−
フェニルアルキル、例えばベンジル、1−フェネチル、
2−フェネチル、1−フェニル−プロピル、2−フェニ
ル−プロピル、3−フェニル−プロピル、1−フェニル
−ブチル、2−フェニル−ブチル、3−フェニルブチル
及び4−フェニル−ブチル、殊に有利にはベンジル、1
−フェネチル及び2−フェネチル、 R2,R3,R4,R5は、 −相互に無関係に、 −水素。
例えば、ピラゾール、3−メチルピラゾール、4−メチ
ルピラゾール、3,4−ジメチルピラゾール、3,5−
ジメチルピラゾール、3−エチルピラゾール、4−エチ
ルピラゾール、3−フェニルピラゾール、4−フェニル
ピラゾール、3,4−ジフェニルピラゾール、3,5−
ジフェニルピラゾール及び3−メチル−4−フェニルピ
ラゾールが、好適である。
ル、例えば、メタノール、エタノール、n−プロパノー
ル、イソプロパノール及びn−ブタノール、並びにエー
テル、例えば、ジメチルエーテル、ジエチルエーテル、
ジ−n−プロピルエーテル及びジイソプロピルエーテル
が好適である。
ピラゾールIは、染料、医薬品及び植物保護剤の製造の
際に非常に重要な出発物質である。
タノール10.9重量%及びトルオール81.6重量%
から成る混合物65.6gを気化させ、かつ、窒素10
Nl/hと共に、蒸留缶方式(in Sumpffah
rweise)で、380℃まで加熱された固体層反応
器に導通させる。固体層反応器は、γ−酸化アルミニウ
ム80重量%及び二酸化珪素20重量%から成る触媒5
0mlで、充填されている。反応気体を引続き凝縮させ
る。毎時、1−メチル−3,5−ジフェニルピラゾール
9.0重量%を含有する有機相55.7gが得られる
(使用された3,5−ジフェニルピラゾールに対して、
理論量の96%)。
タノール10.9重量%及びトルオール81.6重量%
から成る混合物65.6gを気化させ、かつ窒素10N
l/hと共に蒸留缶方式で、410℃まで加熱された固
体層反応器に導通させる。固体層反応器は、γ−酸化ア
ルミニウム80重量%及び二酸化珪素20重量%から成
る触媒50mlで充填されている。反応気体を引続き凝
縮させる。毎時、1−メチル−3,5−ジフェニルピラ
ゾール8.6重量%を含有する有機相57.3gが得ら
れる(使用された3,5−ジフェニルピラゾールに対し
て、理論量の94%)。
タノール12.5重量%及びトルオール81.5重量%
から成る混合物87.0gを気化させ、かつ窒素10N
l/hと共に蒸留缶方式で、410℃まで加熱された固
体層反応器に導通させる。固体層反応器は、γ−酸化ア
ルミニウム80重量%及び二酸化珪素20重量%から成
る触媒50mlで充填されている。反応気体を引続き凝
縮させる。毎時、1−メチル−3,5−ジフェニルピラ
ゾール1.4重量%及び1−エチル−3,5−ジフェニ
ルピラゾール5.9重量%を含有する有機相74.4g
が得られる(使用された3,5−ジフェニルピラゾール
に対して、理論量の94%)。
タノール12.5重量%及びトルオール81.5重量%
から成る混合物87.0gを気化させ、かつ窒素10N
l/hと共に蒸留缶方式で、450℃まで加熱された固
体層反応器に導通させる。固体層反応器は、γ−酸化ア
ルミニウム80重量%及び二酸化珪素20重量%から成
る触媒50mlで充填されている。反応気体を引続き凝
縮させる。毎時、1−メチル−3,5−ジフェニルピラ
ゾール2.3重量%及び1−エチル−3,5−ジフェニ
ルピラゾール5.0重量%を含有する有機相72.9g
が得られる(使用された3,5−ジフェニルピラゾール
に対して、理論量の92%)。
ール27.2重量%及びトルオール60.6重量%から
成る混合物25.5gを気化させ、かつ窒素10Nl/
hと共に蒸留缶方式で、410℃まで加熱された固体層
反応器に導通させる。固体層反応器は、γ−酸化アルミ
ニウム80重量%及び二酸化珪素20重量%から成る触
媒50mlで充填されている。反応気体を引続き凝縮さ
せる。毎時、1−メチル−3−フェニルピラゾール/1
−メチル−5−フェニルピラゾール16.9重量%を含
有する有機相19.0gが得られる(使用された3−フ
ェニル−ピラゾールに対して、理論量の95%)。
から成る混合物22.5gを気化させ、かつ窒素10N
l/hと共に蒸留缶方式で、300℃まで加熱された固
体層反応器に導通させる。固体層反応器は、γ−酸化ア
ルミニウム95重量%及び、燐酸5重量%から成る触媒
100mlで充填されている。反応気体を引続き凝縮さ
せる。毎時、1−メチルピラゾール62.2重量%を含
有する凝縮物17.0gが得られる(使用されたピラゾ
ールに対して、理論量の99%)。
6重量%から成る混合物22.5gを気化させ、かつ窒
素10Nl/hと共に蒸留缶方式で、450℃まで加熱
された固体層反応器に導通させる。固体層反応器は、γ
−酸化アルミニウム95重量%及び燐酸5重量%から成
る触媒100mlで充填されている。反応気体を引続き
凝縮させる。毎時、1−メチルピラゾール41.8重量
%(使用されたピラゾールに対し、理論量の68%)及
び1,4−ジメチルピラゾール11.7重量%(使用さ
れたピラゾールに対し、理論量の16%)を含有する凝
縮物18.4gが得られる。
ール33.9重量%から成る混合物21.5gを気化さ
せ、かつ窒素10Nl/hと共に蒸留缶方式で、400
℃まで加熱された固体層反応器に導通させる。固体層反
応器は、二酸化珪素90重量%及びγ−酸化アルミニウ
ム10重量%から成る触媒100mlで充填されてい
る。反応気体を引続き、凝縮させる。毎時、1,4−ジ
メチルピラゾール52.3重量%を含有する凝縮物1
5.5gが得られる(使用された4−メチルピラゾール
に対し、理論量の95%)。
ール46.1重量%から成る混合物111.3gを気化
させ、かつ窒素10Nl/hと共に蒸留缶方式で、40
0℃まで加熱された固体層反応器に導通させる。固体層
反応器は、γ−酸化アルミニウム90重量%及び二酸化
珪素10重量%から成る触媒100mlで、充填されて
いる。反応気体を引続き、凝縮させる。毎時、4−メチ
ルピラゾール3.2重量%及び1,4−ジメチルピラゾ
ール57.0重量%を含有する凝縮物91.7gが得ら
れる(使用された4−メチルピラゾールに対して、理論
量の87%)。
0重量%から成る混合物43.8gを気化させ、かつ窒
素10Nl/hと共に蒸留缶方式で、400℃まで加熱
された固体層反応器に導通させる。固体層反応器は、γ
−酸化アルミニウム90重量%及び二酸化珪素10重量
%から成る触媒100mlで充填されている。反応気体
を引続き凝縮させる。毎時、ピラゾール0.2重量%及
び1−エチルピラゾール62.2重量%を含有する凝縮
物31.7gが得られる(使用されたピラゾールに対
し、理論量の97%)。
46.1重量%から成る混合物66.4gを気化させ、
かつ窒素10Nl/hと共に蒸留缶方式で、400℃ま
で加熱された固体層反応器に導通させる。固体層反応器
は、γ−酸化アルミニウム90重量%及び二酸化珪素1
0重量%から成る触媒100mlで充填されている。反
応気体を引続き凝縮させる。毎時、3−メチルピラゾー
ル1.0重量%及び1,3−ジメチルピラゾール56.
7重量%を含有する凝縮物53.4gが得られる(使用
された3−メチルピラゾールに対し、理論量の84
%)。
ゾール31.3重量%から成る混合物21.3gを気化
させ、かつ窒素10Nl/hと共に蒸留缶方式で、30
0℃まで加熱された固体層反応器に導通させる。固体層
反応器は、γ−酸化アルミニウム90重量%及び二酸化
珪素10重量%から成る触媒100mlで充填されてい
る。反応気体を引続き凝縮させる。毎時、3−メチルピ
ラゾール20.2重量%及び1−イソプロピル−3−メ
チルピラゾール/1−イソプロピル−5−メチルピラゾ
ール60.8重量%を含有する凝縮物8.6gが得られ
る(使用された3−メチルピラゾールに対し、理論量の
67%)。
ゾール27.0重量%から成る混合物39.0gを気化
させ、窒素10Nl/hと共に蒸留缶方式で、400℃
まで加熱された固体層反応器に導通させる。固体層反応
器は、γ−酸化アルミニウム90重量%及び二酸化珪素
10重量%から成る触媒100mlで充填されている。
反応気体を引続き凝縮させる。3−メチルピラゾール
3.3重量%及び1−エチル−3−メチルピラゾール/
1−エチル−5−メチルピラゾール58.1重量%を含
有する凝縮物20.3gが得られる(使用された3−メ
チルピラゾールに対し、理論量の96%)。
Claims (1)
- 【請求項1】 一般式I: 【化1】 [式中、R1は、C1〜C12−アルキル又はC7〜C20−
フェニルアルキルを表わし、 R2,R3,R4は、相互に無関係に、水素、C1〜C12−
アルキル、フェニル、C7〜C20−アルキルフェニル又
はC7〜C20−フェニルアルキルを表す]のN−置換ピ
ラゾールの製法において、 一般式II: 【化2】 [式中、R2,R3,R4は、前記の意味を有する]のピ
ラゾールと、一般式III: 【化3】 [式中、R1は、前記の意味を有し、かつR5は水素又は
R1を表す]の化合物とを触媒の存在下で、200〜5
50℃の温度で、かつ0.001〜50バールの圧力で
反応させる場合に、触媒として不均一系触媒を使用する
ことを特徴とする、N−置換ピラゾールの製法。
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Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
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