JPH0753203A - 高α型窒化ケイ素粉末の製造方法 - Google Patents
高α型窒化ケイ素粉末の製造方法Info
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Abstract
も一種を金属ケイ素に対して銅換算で0.05重量%以
上0.5重量%未満添加し、混合度が0.9以上となる
ように混合し、該混合物を窒素又はアンモニアを含む非
酸化性ガス雰囲気中で1,000〜1,500℃の温度
範囲にて窒化することを特徴とする高α型窒化ケイ素粉
末の製造方法。 【効果】 本発明によれば、原料金属ケイ素に微量の銅
又は銅化合物を触媒として添加することにより、α化率
の高い窒化ケイ素粉末を容易かつ安定的に製造でき、し
かも通常の酸処理で銅や銅化合物を効率よく除去し得
て、高純度の焼結体を与える窒化ケイ素粉末を効率よく
低コストで得ることができ、工業的規模の生産において
も十分に適用し得るものである。
Description
の製造方法に関するものである。
イ素焼結体は、高温における材料強度、耐熱衝撃性、耐
食性に優れているために耐熱構造材料としての需要の増
加が期待されている。特に、α型結晶相比率(以下、
“α化率”と記す)が90%(重量%、以下同じ)以上
の窒化ケイ素粉末は、高α型窒化ケイ素粉末と呼ばれ、
この粉末を焼結した焼結体は高温における材料強度が極
めて高いことが知られている。従来、窒化ケイ素の工業
的製造方法としては、(1)直接窒化法、(2)還元窒
化法、(3)ハロゲン化イミド法が良く知られている。
これらのうち、直接窒化法が、価格的にも優れ、最も一
般的な方法として広くその製品が使用されている。
1mol当り176kcalという多量の発熱を伴う反
応であることが知られている。 3Si+2N2→Si3N 4+176kcal
応温度分布を得るために、反応装置としてトンネル炉を
利用するような場合には、トレイへの仕込量を調節した
り、昇温速度を制御することやより均一な反応温度を得
るために特開昭61−97110号,61−26630
5号公報、特開平3−60410号公報等に示されてい
るように回転炉や流動層を反応装置として用いることが
提案されている。
ケイ素のいわゆる気−固系反応であり、見かけ上窒素ガ
スの金属ケイ素内への拡散や生成した窒化ケイ素内への
拡散が反応を律速していると言われている。そこで、通
常であれば拡散速度を早めるために、反応温度を高くす
る方法や反応圧力を高める方法が考えられる。しかしな
がら、窒化ケイ素の生成反応においては、高温になるほ
どβ型窒化ケイ素が生成し、目的とするα型窒化ケイ素
が得られないという問題があり、また圧力の効果は、余
程の高圧でないかぎりその効果はほとんど期待できない
ことが報告されている(表面;24(No.7),36
3,’86)。また、工業的スケールでの実施を勘案す
ると超高圧を維持するための装置を反応装置として使用
することは経済性がなく、工業規模での実施も困難とな
る。
して反応ガスに水素ガスを混合して使用する方法がある
ことは良く知られている。
易に高α型窒化ケイ素粉末を製造する方法も提案されて
いる。例えば、特開昭50−128698号公報では
K,Na,Liの化合物、特開昭51−48800号公
報では酸化マグネシウム、特開昭54−15499号公
報では金属鉄及び鉄化合物、特開昭54−22000号
公報ではアルカリ土類金属のハロゲン化物、特開昭54
−57499号公報では窒化アルミニウム、特開昭54
−58700号公報では酸化パラジウム、特開昭54−
120298号公報ではカルシウム化合物、特開昭59
−92906号公報では銅化合物、特開昭61−256
906号公報ではバナジウム化合物が各々高α型窒化ケ
イ素の製造に効果のあることが開示されている。
鋭意検討した結果、銅又は銅化合物を触媒として使用す
ることにより、他の触媒に比べ遥かに効率的に高α型窒
化ケイ素粉末を製造できることを見い出したが、上記の
特開昭59−92906号公報において提案されている
方法では、銅又は銅化合物の添加量が金属ケイ素に対し
て0.5%〜10%と多量であるため、製品の精製工程
での銅又は銅化合物の除去に問題があった。つまり、通
常当業界で行われる精製は、酸処理が一般的であるが、
多量に銅又は銅化合物を添加する方法では経済的に銅又
は銅化合物を完全に除去することは困難であり、その結
果得られた窒化ケイ素粉末を原料として成形・焼結して
得られる製品では、所定の強度が得られないという問題
点を有していた。また金属ケイ素に対して最大10%の
銅を触媒として添加することは窒化ケイ素の経済的製造
法という観点からも好ましいことではない。
で、窒化ケイ素焼結体の強度を低下させることのない程
度にまで通常の方法で銅又は銅化合物の除去ができる効
率的かつ工業的スケールで経済的な高α型窒化ケイ素粉
末の製造方法を提供することを目的とする。
上記問題点を解決するため鋭意検討を行った結果、特開
昭59−92906号公報で開示されているように銅又
は銅化合物が高α型窒化ケイ素粉末の効率的製造に欠く
ことのできない触媒作用を有していることを確認すると
同時に、当該公報に示されている量より少量の添加量
で、金属ケイ素粉末に銅又は銅化合物を添加し、混合機
で十分に混合した混合物を原料にし、窒素又はアンモニ
アを含む非酸化性雰囲気下、1,000〜1,500℃
で窒化反応させることにより、高α型窒化ケイ素粉末が
効率的に製造でき、銅触媒の効果を十分に発揮させ得る
ことを見い出した。
素粉末を製造するための触媒について種々検討を行った
結果、銅を触媒として用いることで容易にα化率の高い
窒化ケイ素が得られるとの知見を得ることができた。こ
の場合、検討に用いた触媒の内で、銅は、鉄やカルシウ
ム等の他の触媒作用の認められる物質に比較して金属ケ
イ素内での拡散係数が格段に大きいことが前述の他の触
媒効果を有する物質に比較して反応促進により寄与して
いる可能性が高いと考えられる〔E.M.Pell:P
hys.Rev.,119,1014 and 122
2(1960)〕。更に、銅の熱伝導率が他の触媒に比
較して大きいことも反応熱のコントロールに好影響を与
え、高温安定型のβ型窒化ケイ素の生成を抑制している
可能性もある。
cm3(20℃)であり、金属ケイ素の密度2.35g
/cm3(15℃無定形)に比較して大きいので、この
両者を均一に混合するためには困難が伴う。従って、十
分な触媒効果を容易に得るために、従来技術にあるよう
に過剰に添加するという方法が一般的には採用される。
しかし、ここで過剰に添加された銅は、必ずしも均一に
分散せず、窒化生成物中に偏析することになる。直接窒
化法による窒化ケイ素の製造工程では一般的に製品の純
度を確保するために酸による不純物除去工程があり、当
該工程で大方の不純物は許容レベルにまで除去される
が、過剰に添加された銅又は銅化合物は、通常の方法で
は許容レベルにまで除去できず、その結果、当該窒化ケ
イ素粉末を使用した焼結体の強度に悪影響を及ぼしてい
たものである。
ば、銅又は銅化合物を金属ケイ素粉末に対し銅換算で
0.5%未満、より好ましくは0.4%以下の少量を添
加し、混合度が0.9以上になるように均一分散させれ
ば、銅触媒を0.5%以上の多量に添加する場合と同等
の高α化率が達成されると共に、得られた窒化ケイ素は
単に通常の酸処理をするだけで高純度化され、強度の大
きい焼結体を与える高α型窒化ケイ素粉末を効率よく低
コストで、しかも簡単かつ確実に製造し得ることを知見
した。
う効果をより確実に発揮させるために、また特に流動層
や回転炉等の分級を起こし易い反応器を用いる際に、金
属ケイ素粉末に銅又は銅化合物を添加、混合した混合粉
末をポリビニルアルコール、メチルセルロース、セルロ
ース誘導体、でんぷん等の結合剤を用いて、成形又は造
粒したもの、或いは更にアルゴン、ヘリウム等の不活性
ガス雰囲気下(常圧、減圧)や真空下などの不活性雰囲
気下に焼結した成形体あるいは粉末を用いたり、上記混
合粉末を溶融させてケイ素−銅合金を得、これを所定粒
度に粉砕した粉砕物を用いることが有効であることを見
い出し、本発明をなすに至ったものである。
に銅又は銅化合物の少なくとも一種を金属ケイ素に対し
て銅換算で0.05重量%以上0.5重量%未満添加
し、混合度が0.9以上になるように混合し、該混合物
を窒素又はアンモニアを含む非酸化性ガス雰囲気中で
1,000〜1,500℃の温度範囲にて窒化すること
を特徴とする高α型窒化ケイ素粉末の製造方法、(2)
金属ケイ素粉末に銅又は銅化合物の少なくとも一種を金
属ケイ素に対して銅換算で0.05重量%以上0.5重
量%未満添加・混合し、該混合物を結合剤を用いて成形
した成形物又はこの成形物を不活性雰囲気中常圧もしく
は減圧で又は真空中で焼結した焼結物を窒素又はアンモ
ニアを含む非酸化性ガス雰囲気中で1,000〜1,5
00℃の温度範囲にて窒化することを特徴とする高α型
窒化ケイ素粉末の製造方法、及び、(3)金属ケイ素粉
末に銅又は銅化合物の少なくとも一種を金属ケイ素に対
して銅換算で0.05重量%以上0.5重量%未満配合
・溶融させてケイ素−銅合金を作った後、再度所定の粒
度に粉砕した粉砕物を窒素又はアンモニアを含む非酸化
性ガス雰囲気中で1,000〜1,500℃の温度範囲
にて窒化することを特徴とする高α型窒化ケイ素粉末の
製造方法を提供する。
本発明の高α型窒化ケイ素粉末の製造方法は、直接窒化
法によるもので、金属ケイ素粉末を窒素又はアンモニア
を含む非酸化性ガス雰囲気中で1,000〜1,500
℃にて窒化させる際に、銅又は銅化合物を0.5%未満
の少量添加して行うものである。
は、粒度数μ〜149μ、特に数μ〜44μのものを使
用することが好ましい。金属ケイ素粉末の粒度が149
μを越えると窒化反応が遅くなりすぎ、窒化生成物中に
未反応の金属ケイ素が残存する場合が生じる。また、そ
の純度としては、工業スケールで得られる金属ケイ素で
十分であるが、必要に応じて半導体グレードの金属ケイ
素からAl合金用に供される金属ケイ素まで使いわける
ことができる。
銅又は銅化合物を混合したものを使用して直接窒化反応
を行わせるが、金属ケイ素粉末に触媒として添加する銅
又は銅化合物の粒度は、均一性の観点からは使用する金
属ケイ素粒子と同程度の重量をもった粒子の大きさであ
ることが好ましい。しかし、薄膜状の場合には必ずしも
粒径にはこだわらず、比表面積で0.1〜5m2 /g、
好ましくは0.3〜3m2 /gの物性を有していること
が良い。
化合物は、弗化銅、酸化銅、塩化銅、その他の銅化合物
のいずれでも良く、特に限定されるものではない。しか
しながら、殆どの銅化合物は、融点が低く低温で分解
し、その際に生じる副生物が金属ケイ素を侵食し、不純
物として製造される窒化ケイ素中に残存し、窒化ケイ素
焼結体の強度を低下させるおそれがあるために、純度9
9%以上の金属銅を添加することが望ましい。また、銅
の形状についても特に限定されるものではなく、球状、
薄膜状、不定形等、市販されているもので良い。
ケイ素に対して銅換算で0.05%以上0.5%未満、
特に0.1%〜0.4%が好ましい。添加量が0.05
%未満ではもはや添加の効果は認められず、また添加量
が0.5%以上では通常の精製処理をして得られる窒化
ケイ素粉末中には許容レベル以上の銅又は銅化合物が残
存するために当該金属ケイ素粉末を使用した焼結体の強
度に悪影響を及ぼし、本発明の目的を達成し得ない。
素粉末に銅又は銅化合物を混合度が0.9以上、より好
ましくは0.93以上、更に好ましくは0.95以上に
なるように混合することが必要であり、このように混合
度を0.9以上とすることにより、銅又は銅化合物の添
加量を0.5%未満の少量としてもその効果を達成する
ことが可能になるものである。これに対し、混合度が
0.9より小さいと、銅又は銅化合物の添加量を0.5
%以上としないとその効果が有効に達成されない。
から求めた値であり、混合を行うことで1に近づき、完
全混合状態(下記式でxi=x0の場合)で混合度は1で
ある。
は、できるだけ多い方が正確な混合度を測定できるが、
本発明者の検討によればN≧20であれば有意差がない
ものであり、従って、本発明において、上記混合度は、
その混合物からスポットサンプリング法で棒状型又はミ
ゼットスプーン型サンプラーを用いて1〜50gのサン
プルを20個以上採取した場合(N≧20)の値を指
す。
は銅化合物を混合し、均一分散させるものであるが、均
一混合させるための混合機としては、Vブレンダーのよ
うな容器回転型又はスクリュー型、高速剪断型のような
容器固定型の混合機が好適であるが、これに限定される
ものではない。
散されたままの金属ケイ素粉末は、特にトンネル炉形式
等の固定床形式の反応炉に対し好適に用いることがて
き、一度均一に混合された原料はかかる反応炉において
反応工程中もその状態を維持でき、良好な直接窒化反応
を行わせることができる。
件は、混合機の形状、大きさ及び操作条件(回転速度、
粉体装入率等)で大きく異なるが、例えば高速剪断型混
合機である20リットルヘンシェルミキサーを用いた場
合、粉体装入率30%、回転数1000rpmで30分
以上混合を行えば、上記混合度は通常0.9以上とな
る。
の場合のように、原料が均一に混合されていても金属ケ
イ素と銅又は銅化合物の密度差や粒度の差で反応器の中
で分級を起こすおそれがある場合には、予め所定の混合
比率に調整され、好ましくは混合度0.9以上とされた
金属ケイ素粉末と銅又は銅化合物とをポリビニルアルコ
ール、メチルセルロース、セルロース誘導体、でんぷん
等の適当な結合剤を用いて最適の大きさ、好ましくは1
00μm〜30mmに成形させた成形物又は当該成形物
を1,000〜1,400℃の温度範囲で不活性ガス雰
囲気下、不活性ガス雰囲気の減圧下、真空下などの不活
性雰囲気下で熱処理して得られる焼結体を反応原料とし
て使用したり(第2発明)、或いは所定の混合比率に調
整された配合物をいったん溶融させ、ケイ素−銅合金を
つくった上で、再度所定の粒度に粉砕したものを原料と
して用いる(第3発明)ことが推奨される。なお、この
第3発明の場合は、必ずしも混合度を0.9以上としな
くてもよい。
る場合、結合剤を固形物換算で0.5〜10%、好まし
くは1〜3%添加・混合し、押出造粒機等の造粒成形機
を用いて、平均粒子径100μm〜30mm、好ましく
は300μm〜5mmに造粒した後、アルゴン、ヘリウ
ム等の不活性ガス雰囲気中常圧もしくは減圧(好ましく
は100Torr以下)で又は真空中で1,000〜
1,400℃、好ましくは1,200〜1,400℃で
ケイ素同士を軽度に融合させる程度に短時間焼結したも
のを使用することが好ましい。この場合、当該工程にお
いて、造粒時に添加されたポリビニルアルコール等の結
合剤は、除去される。
ではなく、同様の処方でスクリュータイプや油圧タイプ
の押出成形機を用いて、棒状、ブロック状、球状の成形
物にした後、上記記載の方法で、前処理し、トンネル炉
等の固定床炉を用いて窒化させる場合にも有効な方法で
ある。なお、このように成形物を用いて窒化を行った場
合、窒化後に適宜な粒径に粉砕し、窒化ケイ素粉末を得
る。
は、上記の金属ケイ素と銅又は銅化合物との均一混合物
を直接窒化法の通常の方法に従い、窒素又はアンモニア
を含む非酸化性ガス雰囲気下、1,000〜1,500
℃の温度範囲で窒化反応を行わせ、高α型窒化ケイ素粉
末を製造するものである。なお、非酸化性ガスは、窒素
単独か窒素とアンモニア、アルゴン、ヘリウム、水素ガ
スの少なくとも1種以上との混合ガスのいずれを用いる
こともできる。
は、通常α化率90%以上、特に92%以上のものであ
る。
硝酸、弗酸等の酸を用い、常温〜80℃で10分〜3時
間処理した後、常法に従って水洗、乾燥することが好ま
しく、上記酸処理により窒化ケイ素粉末中の主として
鉄、酸素、未反応金属ケイ素等の不純物、更に触媒とし
て用いた銅又は銅化合物が除去されて、高純度の窒化ケ
イ素粉末を得ることができる。この場合、上記酸処理で
窒化ケイ素粉末中の銅分は5ppm以下に低減し、この
ような高純度の窒化ケイ素粉末を用いることにより、常
温焼結強度が900MPa以上の窒化ケイ素焼結体を得
ることができる。
の銅又は銅化合物を触媒として添加することにより、α
化率の高い窒化ケイ素粉末を容易かつ安定的に製造で
き、しかも通常の酸処理で銅や銅化合物を効率よく除去
し得て、高純度の焼結体を与える窒化ケイ素粉末を効率
よく低コストで得ることができ、工業的規模の生産にお
いても十分に適用し得るものである。
的に説明するが、本発明は下記の実施例に制限されるも
のではない。
径2〜3μmの金属ケイ素粉末に平均粒子径35μm
(比表面積0.4m2/g)の銅を表1に示す割合で添
加し、20リットルヘンシェルミキサーを用い、粉体装
入率30%、回転数1000rpmで表1に示す時間混
合を行った。その後、この混合物をミゼットスプーンを
用い、3gづつスポットサンプリング法にてN=30個
サンプリングを行い、上記Roseの式より混合度を求
めた。
200g仕込み、窒素ガス/水素ガス=容量比4/1の
混合ガスを流入させながら、中心反応温度1,300℃
に加熱保持して窒化反応を行わせた。得られた窒化ケイ
素については、X線回折分析を行い、α化率及び反応率
を求めた。
を5リットル湿式粉砕機を用いて平均粒子径0.4〜
0.5μmに粉砕した後、当該スラリーに弗酸及び硝酸
を各々200g加え、80℃で1時間の酸処理を行っ
た。その後、水洗・乾燥を経て製品を得た。この製品に
つき、ICP発光分析法による残存Cu率の測定、常温
での三点曲げ強度測定を行った。
件下で製品化した。以上の結果及び各条件を表1に示
す。
例、比較例と同様の金属ケイ素原料に表2に示す量で銅
を添加し、60分間混合して混合度を0.9以上とした
混合物にポリビニルアルコール水溶液を固形物換算で1
重量%添加・混練し、造粒機で平均粒子径0.5mmに
造粒・成形した。これを150℃で1時間乾燥し、水分
を除去した後、アルゴンガス流通下100mmHg、
1,200℃で1時間処理し、焼結させたものを原料と
した。当該造粒粉末をロータリーキルンに100g/時
間で供給し、窒素ガス/水素ガス=4の混合ガスを流通
下、1,300℃で窒化反応を行わせた。その後、上記
実施例、比較例に示された方法で処理をした。また、比
較のために銅無添加のものを同条件下で製品化した。以
上の結果及び各条件を表2に示す。なお、上記のように
造粒成形せずにロータリーキルンに供給した場合は、キ
ルンの途中で凝集し、反応を継続させることができなか
った。
を、坩堝内で1,600℃に溶融混合させた後、冷却
し、平均粒子径2〜3μmの粉末に粉砕した。当該混合
物を窒化ケイ素製トレイに200g仕込み、窒素ガス/
水素ガス=4の混合ガスを流入させながら中心温度を
1,350℃に加熱保持して窒化反応を行わせた。以
後、実施例3と同様の処理を行った。得られた窒化ケイ
素粉末のα化率は94.3%、反応率は98.5%、残
存銅の含有量は5ppm以下、焼結成形体の三点曲げ強
度は950MPaであった。
Claims (3)
- 【請求項1】 金属ケイ素粉末に銅又は銅化合物の少な
くとも一種を金属ケイ素に対して銅換算で0.05重量
%以上0.5重量%未満添加し、混合度が0.9以上と
なるように混合し、該混合物を窒素又はアンモニアを含
む非酸化性ガス雰囲気中で1,000〜1,500℃の
温度範囲にて窒化することを特徴とする高α型窒化ケイ
素粉末の製造方法。 - 【請求項2】 金属ケイ素粉末に銅又は銅化合物の少な
くとも一種を金属ケイ素に対して銅換算で0.05重量
%以上0.5重量%未満添加・混合し、該混合物を結合
剤を用いて成形した成形物又はこの成形物を不活性雰囲
気中常圧もしくは減圧で又は真空中で焼結した焼結物を
窒素又はアンモニアを含む非酸化性ガス雰囲気中で1,
000〜1,500℃の温度範囲にて窒化することを特
徴とする高α型窒化ケイ素粉末の製造方法。 - 【請求項3】 金属ケイ素粉末に銅又は銅化合物の少な
くとも一種を金属ケイ素に対して銅換算で0.05重量
%以上0.5重量%未満配合・溶融させてケイ素−銅合
金を作った後、再度所定の粒度に粉砕した粉砕物を窒素
又はアンモニアを含む非酸化性ガス雰囲気中で1,00
0〜1,500℃の温度範囲にて窒化することを特徴と
する高α型窒化ケイ素粉末の製造方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP6120674A JP2970400B2 (ja) | 1993-06-11 | 1994-05-10 | 高α型窒化ケイ素粉末の製造方法 |
Applications Claiming Priority (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP5-166183 | 1993-06-11 | ||
JP16618393 | 1993-06-11 | ||
JP6120674A JP2970400B2 (ja) | 1993-06-11 | 1994-05-10 | 高α型窒化ケイ素粉末の製造方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH0753203A true JPH0753203A (ja) | 1995-02-28 |
JP2970400B2 JP2970400B2 (ja) | 1999-11-02 |
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Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR20170076542A (ko) * | 2015-12-24 | 2017-07-04 | 주식회사 엘지화학 | α질화 규소의 제조 방법 |
-
1994
- 1994-05-10 JP JP6120674A patent/JP2970400B2/ja not_active Expired - Fee Related
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KR20170076542A (ko) * | 2015-12-24 | 2017-07-04 | 주식회사 엘지화학 | α질화 규소의 제조 방법 |
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