JPH0753129Y2

JPH0753129Y2 - 光記録ディスク

Info

Publication number: JPH0753129Y2
Application number: JP1988024161U
Authority: JP
Inventors: 友敬斎藤; 秀樹平田; 勝高山
Original assignee: TDK Corp
Current assignee: TDK Corp
Priority date: 1988-02-25
Filing date: 1988-02-25
Publication date: 1995-12-06
Anticipated expiration: 2003-02-25
Also published as: JPH01133227U

Description

【考案の詳細な説明】〈産業上の利用分野〉本考案は、レーザー光等の熱および光を用いて情報の記
録、再生を行う光磁気記録媒体等の文書ファイル、画像
ファイル、計算機用メモリ、録音・録画用等に用いる光
記録ディスクに関する。

〈従来の技術〉光記録媒体の一つとして、光磁気メモリ用の媒体があ
る。

光磁気メモリの媒体の記録層としては、例えば、GdFe、
TbFe、TbFeCo、GdFeCo等の希土類−遷移金属の非晶質磁
性薄膜層等が知られている。これらは、真空蒸着法やス
パッタリング法等の方法で、透明なディスク状の基板に
薄膜として形成され、光記録ディスクとされている。

この場合、記録および再生は基板裏面側から行ない、片
面記録の場合には記録層上にディスク状の基板を保護板
として密着して接着している。また、両面記録の場合に
は記録層を有する一対の基板を、記録層が内封されるよ
うに密着して接着している（特開昭58−108044号、特開
昭61−217944号等）。

しかし、希土類−遷移金属の非晶質薄膜等を有する光磁
気記録ディスクでは、磁性薄膜層が大気に接したまま保
存されると、大気中の酸素や水により希土類が選択的に
腐食あるいは酸化されてしまい、情報の記録、再生が不
可能となる。

そして、このような腐食現象は、基板同志を貼り合わせ
る片面ないし両面記録ディスクでは、接着部の特に外周
側からの大気の浸入によって発生し、実用上大きな問題
となっている。

そこで、特開昭63−837号公報では、一対の基板上に形
成した記録層同志を密着し、この後両基板の周縁部のみ
を高粘度の接着剤にて接着固定する旨が提案されてい
る。

〈発明が解決しようとする課題〉しかしこのものは、同公報第１図、第２図に示されるよ
うに、ディスク外周側面に接着剤の層が形成され、この
結果外形寸法の精度が悪く、ディスクのドライブに支障
を来たすという問題がある。

なお、このような問題は、他の記録層を有する光磁気デ
ィスクでも、またいわゆる相転移タイプの記録層を有す
る光記録ディスクでも同様である。

本考案の目的は、耐食性、耐候性が良好で、寸法精度の
高い光記録ディスクを提供することにある。

〈課題を解決するための手段〉このような目的は下記の本考案によって達成される。

すなわち本考案は、中央に孔部を有する一対のディスク
状の基板を有し、少なくとも一方の基板上に記録層を有
し、記録層が密着内封されるように前記一対の基板を接
着一体化した光記録ディスクにおいて、前記一対の基板
の接着側主面の外径を外側主面の外径より小径とし、両
基板を接着したとき形成される外周側面のリング状凹部
に、接着された前記両基板を回転させながら接着剤を充
填し硬化させたことを特徴とする光記録ディスクであ
る。

また、本考案においては、前記一対の基板の接着主面の
内周側に溝が形成されており、この溝内に接着剤が充填
されているのが好ましい。

また、本考案においては、前記溝が、１または複数のリ
ング状の溝であるのが好ましい。

また、本考案においては、前記一対の基板が接着層を介
して接着されているのが好ましい。

また、本考案においては、前記溝内に充填された接着剤
により内周部が接着されているのが好ましい。

また、本考案においては、前記記録層が前記少なくとも
一方の基板の接着側主面に円環状に形成されており、こ
の記録層の外周のリング状の領域を非記録領域としたの
が好ましい。

また、本考案においては、前記基板が、前記溝と内径を
導通する少なくとも一つの連通孔を有するのが好まし
い。

〈作用〉本考案によれば、両基板一体化に際して外周部側面にリ
ング状の凹部が形成され、この凹部に接着剤を充填する
ので、耐食性および耐候性はきわめて高いものとなる。
またディスク外周側面に接着がはみださないので、外形
寸法の精度が高い。

〈実施例〉第１図および第２図には、本考案の好適実施例が示され
る。

第１図および第２図に示されるように、本考案の光記録
ディスク１はディスク状で、中央に孔部12を有する一対
の基板21、25を接着一体化して構成される。

基板21、25は、ガラスないし樹脂製、特にアクリル樹
脂、ポリカーボネート樹脂、エポキシ樹脂、ポリメチル
ペンテン樹脂等の樹脂製であって、記録ないし再生光に
対し透明なものである。

また、その寸法は通常、外径50〜300mm程度、厚さ0.5〜
3mm程度とされる。

なお、一方の基板21、25に後述の記録層51、55を形成せ
ずに保護板として用いるときには、一方の基板21、25は
透明でなくてもよい。

本考案の実施例において記録層51、55として用いる磁性
薄膜層４は、変調された熱ビームあるいは変調された磁
界により、情報が磁気的に記録されるものであり、記録
情報は磁気−光変換して再生するものである。

このような磁性薄膜層の材質としては、特に制限はない
が、Gd、Tb、Dy等の希土類金属と好ましくはFe、Co等の
遷移金属の合金をスパッタ、蒸着法等により、非晶質膜
として形成したものであることが好ましい。

このような磁性薄膜層の厚さは、通常、100〜10000Å程
度である。

この他記録層の材質としては、いわゆる相転移タイプの
ものとして、例えば、特公昭54−41902号、特許第10048
35号などに記載のアルコゲン系、特開昭58−54338号、
特許第974257号記載のTe酸化物中に分散されたTe、特許
第974258号、特許第974257号等に記載の酸化テルル系、
Ge−Sn、Si−Sn等の非晶質−結晶質転移を生じる合金Ag
−Zn、Ag−Al−Cu、Cu−Al等の結晶構造変化によって色
変化を生じる合金、In−Sb等の結晶粒径の変化を生じる
合金などがある。

このような記録層51、55の基板21、25側およびそれと反
対側の少なくとも一方には、第１の保護層31、35および
／または第２の保護層61、65を形成することが好まし
い。

保護層としては、各種酸化物、炭化物、窒化物、硫化物
あるいはこれらの混合物の300〜3000Å程度の無機薄膜
から構成すると、耐食性が向上する。

また、第１の保護層31、35と記録層51、55の間には300
〜1500Å程度の各種誘電体物質の層を中間層41、45とし
て設層すると、C/N比向上の点が好ましい。

さらに、これら第１の保護層31、35、中間層41、45、記
録層51、55および第２の保護層61、65を有する積層体上
には、保護コート71、75を設層することが好ましい。

保護コート71、75としては、上記の積層体の全面、すな
わち積層体の上面のみならず、内周側と外周側の側面に
も設けることが好ましい。これにより耐食性が向上す
る。

保護コート材質としては種々の有機系の物質を用いれば
よいが、アクリル系二重結合を有する放射線硬化型化合
物を電子線、紫外線等の放射線で硬化させたものを用い
ることが好ましい。

このような保護コート71、75の厚さは、一般に１〜150
μｍ程度とする。

少なくとも一方がこのような記録層を含む積層体を有す
る一対の基板21、25は記録層51、55が内封されるよう
に、通常、接着層８を介して接着される。

接着層８を構成する接着剤としては、公知の何れの接着
剤であってもよく、例えばホットメルト系接着剤、熱硬
化性接着剤、嫌気性接着剤等種々のものを挙げることが
できる。接着層の厚さは１〜200μｍ程度とする。

このような前提において、基板21、25の接着面側の主面
の外径は、外側主面の外径よりも小さいものとされ、通
常は図示のように、基板21、25の外周側面はテーパー面
211、251とされる。このテーパー面211、251のテーパー
角は、通常、５〜30°程度とすればよい。

このように基板21、25の接着面側主面外径を小径とする
ことにより、両基板21、25を接着層８を介して接着一体
化したとき、ディスク外周側面にはリング状に凹部15が
形成される。

そして、本考案ではこの凹部15に、ディスク貼り合せ体
を回転させながら接着剤９を充填するものである。

用いる接着剤９としては、前述の放射線硬化型化合物を
紫外線や電子線等で硬化したものであることが好まし
い。

この接着剤９の充填により、ディスク接着部の外周側か
らの腐食はきわめて良好に防止される。

なお、接着剤９の充填に際しては、ディスク貼り合わせ
体を回転させながら、その外周リング状凹部15に接着剤
を充填し、光硬化すれば、外形寸法はきわめて精度のよ
いものとなる。

さらに本考案では、基板21、25の接着側主面の内周側に
溝、好ましくは１または複数のリング状の溝、この場合
は２つのリング状の溝213、253、215、255を形成してお
き、このリング状の溝213、253、215、255内にも接着剤
を充填することが好ましい。これにより、接着部の内周
孔部12側からの腐食により一層良好に防止される。

リング状の溝213、253、215、255に充填される接着剤
は、接着層８を構成する接着剤であってもよいが、特に
接着層８をホットメルト系接着剤から構成するときに
は、溝に充填されないので、両基板の接着直前に、溝21
3、253、215、255に接着剤９を充填して接着することが
好ましい。あるいは、第２図に示されるように、内径と
溝を連通し通常は孔部に開孔する連通孔217、257を１つ
以上、通常は、２つ以上設けて接着剤８で接着後、溝21
3、253、215、235に接着剤９充填して硬化させてもよ
い。複数の連通孔は、両基板に設けてもよく、あるいは
一方のみでもよく、そのうちの少なくとも一つが注入
用、他がエア抜き用とされる。

なお溝の深さは、0.05mm以上とし、溝の巾は0.5〜20mm
程度とすればよい。

このような場合、リング状の溝を第１図に示されるよう
に複数、好ましくは２〜３本設けると、耐食性、接着強
度および寸法精度の点で好適である。そして、一方の溝
に接着剤を充填し、この接着剤を２本目の溝に逃がして
液溜まりとすれば、内孔への接着剤のはみ出しを防止で
きる。

なお、上記では接着層８を用いて接着を行う例について
述べてきたが、上記とは異なり、前記と同様に内周側の
リング状溝213、253、215、255に接着剤９を充填したの
ちこれを重ね合わせ、内周部の所定領域を接着剤９にて
接着したのち、外周部の凹部15に接着剤９を充填して接
着一体化を行ってもよい。

さらに、記録層51、55は、基板21、25の主面外周端から
１〜5mm程度内方の位置から、溝215、255から３〜20mm
程度外方の位置におよぶ図示r₀の領域にて円環状に設け
ればよい。

この場合、記録層51、55の外周側１〜5mmのリング状の
領域、あるいはこれに加え内周側１〜10mmのリング状の
領域は非記録領域とし、図示r₁の領域を記録領域とする
と、記録領域の耐食性はより一層高いものとなる。

なお、記録領域における基板主面上には、各種グルー
プ、ピットあるいはセクターマーク等を形成することが
できる。

〈効果〉本考案によれば、接着部外周面側が接着剤によってシー
ルされるので、耐食性、耐候性がきわめて高いものとな
る。

また、接着される一対の基板は主面外径に径差が設けら
れ、この径差によって接着時にはディスク外周部にリン
グ状の凹部が形成され、このリング状凹部内に接着剤が
充填されるので、ディスク外径には変化がなく、きわめ
て高い外径精度を有し、ドライブに何ら支障を生じな
い。

そして、基板内周側主面にリング状の溝を形成し、この
溝内に接着剤を充填すれば、内周側の耐食性が向上し、
耐食性、耐候性はより一層高いものとなる。

さらに、記録層の外周側を非記録領域とすると、耐食
性、耐候性が向上する。

本考案者らは、本考案の効果を確認するために種々実験
を行った。以下にその１例を示す。

実験例直径130mm、孔部径15mm、厚さ1.2mmのビスフェノールＡ
系の光ディスクグレードポリカーボネート樹脂からなる
基板21、25上に、ホウケイ酸ガラスの第１の保護層31、
35を高周波マグネトロンスパッタによって膜厚400Åに
設層し、さらにこの上面に、誘電体層41、45（Si₃N₄）
を高周波マグネトロンスパッタによって膜厚800Åに設
層した。

このような第１の保護層31、35および誘電体層41、45の
上に21at％Tb、68at％Fe、7at％Co、4at％Cr合金薄膜
を、スパッタリングによって厚さ800Åに設層し、磁性
薄膜の記録層51、55とした。

さらに、この記録層51、55上に、前記のホウケイ酸ガラ
スの第２の保護層61、65を高周波マグネトロンスパッタ
により膜厚1000Åに設層した。

なお、記録層51、55は、中心から21〜63mmまでのリング
状に設層した。

この第２の保護層61、65の上面ならびに第１の保護層3
1、35、誘電体層41、45、記録層51、55および第２の保
護層61、65の側面を完全に覆うように、放射線硬化型化
合物として多官能オリゴエステルアクリレートと光増感
剤とを含む塗布組成物を保護コート71、75として、スピ
ンナーコートで設層した。なお、有機保護コート層６の
設層領域は積層体の内周面内側2mmの位置から主面端部
までの位置とした。

このような塗布組成物を設層後、紫外線を15sec照射し
架橋硬化させ、硬化膜とした。膜厚は５μｍあった。

このようにして作製した一対のディスクをホットメルト
系接着剤にて140℃で接着した。接着層８の厚さは30μ
ｍであった。

この光記録ディスクを比較サンプルＡとする。

なお、基板21、25の主面上には、中心から14mmおよび16
mmの位置に、それぞれ深さ0.2mm、巾1mmおよび2mmの２
つのリング状の溝213、215、253、255を形成した。サン
プルＡでは、この溝213、215、253、255にはホットメル
ト系接着剤は充填されていなかった。

次に、本考案の光記録ディスクサンプルＢ、Ｃを作製し
た。

この場合は、基板21、25の外側主面外径130mmとし、基
板21、25の外周側面に14°のテーパー面211、251を形成
した。これ以外はサンプルＡと同様にして一対のディス
クを作製し、これを接着した。

そして、サンプルＢでは、ディスク外周側面のリング状
の凹部15に、前記の多官能オリゴエステルアクリレート
と光増感剤とを含む接着剤９を充填し、これを回転しな
がら前記と同様に硬化した。

また、サンプルＣでは、サンプルＢに加え、予め内周側
のリング状の溝213、253、215、255にも接着剤９を充填
し、一体化後に硬化した。

このようにして作製されたサンプルＢ、Ｃはディスク外
周側、内周側とも接着剤９のはみだしはなく、特に記録
・再生の精度に大きく影響のある光入射面側への接着剤
の回り込みが全くなく、外径および内径精度は0.6mm以
下であった。

なお、サンプルＡ〜Ｃにおいて、記録層51、55の内側30
mm以下および外側61.4mm以上は非記録領域とした。

次にこのようにして作製したサンプルＡ〜Ｃにも耐候性
試験を行った。

試験条件は、80℃、相対温度80％にて、800時間保存し
た。また、0.2N塩酸水溶液に浸漬、保存した。

これらの保存後と初期の記録領域外周部でのEFM信号の
ビットエラーレートを測定した。

結果を表１に示す。

さらに、上記サンプルNo.Cにおいて、リング状凹部15へ
の充填をディスクの回転を行わず固定したままで行な
い、それ以外は上記サンプルNo.Cと同一にしてサンプル
No.D（比較）を作製した。このサンプルNo.Dにおいて
は、特にその外周部において、接着剤の光入射面側への
回り込みが大きく観察され、また上記初期のビットエラ
ーレートを測定したところ、10^-4以上と極めて大きかっ
た。

表１に示される結果から、本考案の効果があきらかであ
る。

【図面の簡単な説明】

第１図および第２図は、それぞれ本考案の実施例を示す
縦断面図である。符号の説明１……光記録ディスク、13……孔部、15……凹部、21、
25……基板、211、215……テーパー面、213、215、25
3、255……リング状溝、217、257……連通孔、31、35…
…第１の保護層、41、45……誘電体層、51、55……記録
層、61、65……第２の保護層、71、75……保護コート、
８……接着層、９……接着剤

フロントページの続き (56)参考文献特開昭62−222447（ＪＰ，Ａ) 実開昭60−23935（ＪＰ，Ｕ) 実開昭60−180329（ＪＰ，Ｕ) 実開昭61−132535（ＪＰ，Ｕ)

Claims

【実用新案登録請求の範囲】

【請求項１】中央に孔部を有する一対のディスク状の基
板を有し、少なくとも一方の基板上に記録層を有し、記
録層が密着内封されるように前記一対の基板を接着一体
化した光記録ディスクにおいて、前記一対の基板の接着
側主面の外径を外側主面の外径より小径とし、両基板を
接着したとき形成される外周側面のリング状凹部に、接
着された前記両基板を回転させながら接着剤を充填し硬
化させたことを特徴とする光記録ディスク。
【請求項２】前記一対の基板の接着主面の内周側に溝が
形成されており、この溝内に接着剤が充填されている請
求項１の光記録ディスク。
【請求項３】前記溝が、１または複数のリング状の溝で
ある請求項２の光記録ディスク。
【請求項４】前記一対の基板が接着層を介して接着され
ている請求項１ないし３のいずれかの光記録ディスク。
【請求項５】前記溝内に充填された接着剤により内周部
が接着されている請求項２または３の光記録ディスク。
【請求項６】前記記録層が前記少なくとも一方の基板の
接着側主面に円環状に形成されており、この記録層の外
周のリング状の領域を非記録領域とした請求項１ないし
５のいずれかの光記録ディスク。
【請求項７】前記基板が、前記溝と外径を導通する少な
くとも一つの連通孔を有する請求項２ないし６のいずれ
かの光記録ディスク。