JPH0747587B2 - リセルゴール誘導体の製造方法 - Google Patents

リセルゴール誘導体の製造方法

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JPH0747587B2
JPH0747587B2 JP60173963A JP17396385A JPH0747587B2 JP H0747587 B2 JPH0747587 B2 JP H0747587B2 JP 60173963 A JP60173963 A JP 60173963A JP 17396385 A JP17396385 A JP 17396385A JP H0747587 B2 JPH0747587 B2 JP H0747587B2
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    • C07ORGANIC CHEMISTRY
    • C07DHETEROCYCLIC COMPOUNDS
    • C07D457/00Heterocyclic compounds containing indolo [4, 3-f, g] quinoline ring systems, e.g. derivatives of ergoline, of the formula:, e.g. lysergic acid
    • C07D457/02Heterocyclic compounds containing indolo [4, 3-f, g] quinoline ring systems, e.g. derivatives of ergoline, of the formula:, e.g. lysergic acid with hydrocarbon or substituted hydrocarbon radicals, attached in position 8

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  • Nitrogen Condensed Heterocyclic Rings (AREA)
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Description

【発明の詳細な説明】 本発明はリセルゴール誘導体、特に10α−メトキシ−ル
ミリセルゴール、1−メチル−10α−メトキシ−ルミリ
セルゴール及び以下の式(I) (式中のR1は水素又はメチル基及び−OR2はヒドロキシ
ル基若しくはエステル化されたヒドロキシル基を表わ
す) で表わされるそのエステル類の製造方法に関する。例え
ば、そのR2の部分は水素、若しくはアルカン基若しくは
アレーンスルホニル基若しくはRはハロゲン置換若しく
は不置換のアルキル基、アリール基又はアルキルアリー
ル基であるR−CO基である。
R1及びR2は水素又はR1はメチル基であり及びR2は水素で
あるところの式(I)の化合物は知られており、そして
その製造方法はイタリア特許願No.22011A/78の文献に述
べられている。しかしながら、先に提案したそのいろい
ろの方法は全体としての収率又は製品の純度又はこの両
方の理由から満足すべきものではなかつた。
例えば、メタノール/硫酸中でのリセルゴールの光化学
反応及びその次に、このようにして得られた10α−メト
キシ−ルミリセルゴールのインドールの窒素を、ジメチ
ルスルホキシド中で水酸化カリウムの存在のもとでヨウ
化メチルを用いて反応経路A に従つてメチル化することが述べられている。
その収率は第一段階では80%であるが、(III)の化合
物より(IV)の化合物に移る時に70%の収率となり、そ
のために全体としての収率は1−メチル−10α−メトキ
シ−ルミリセルゴールはほんの56%となる。
イタリア特許願No.20242A/84(欧州特許願No.85302101.
2)、のこの特許願の特許請求の範囲及び記載されてい
る他の方法によると、リセルゴールエステル類はそのイ
ンドールのNが液体アンモニア中でカリウム及びヨウ化
メチルでアルキル化され、続いて硫酸中で光化学反応に
よりメタノールが附加反応し、そしてその後でそのエス
テル基が加水分解されている。その製品、即ち1−メチ
ル−10α−メトキシ−ルミリセルゴール(IV)、は最初
の方法よりずつと大きな収率が得られるが、しかし一工
程若しくはそれ以上の工程の骨の折れる精製が必要とな
る。
出発原料としてリセルゴールではなく、そのエステル
(最も好ましくは8−メタンスルホニル誘導体)を用い
て、これから述べるように非常に特殊な反応条件のもと
で、メタノール/硫酸中で光化学反応を行わせると、10
α−メトキシ−ルミリセルゴールが高純度且つ94%若し
くはそれ以上の収率で得られることが見出された。
思いがけなくも、この反応条件のもとでエステル類は安
定であり、実質的にエーテルのような副反応物を生せず
又はアルコール基の脱離反応を起こさないで、この反応
が起こることを見い出したのである。本発明によれば、
低い温度、好ましくは−10℃〜−30℃の温度の間で酸性
に調製されているメタノール中のリセルゴールエステル
類に、300nm〜370nmの波長、好ましくは330nmの波長の
紫外線を照射してこの反応は達成される。
メタノールのこの付加反応が完了した時に、そのエステ
ル基よりアシル基を取り去るために反応混合物の温度を
室温に戻すことだけが必要となり、そして現実に10α−
メトキシ−ルミリセルゴール(III)が定量的な収率で
得られる。
本発明の方法に従うと、既に述べたやり方により(好ま
しくはメタンスルホン酸エステル)得られた10α−メト
キシエステル類を単離して用いることが出来、そしてこ
れを液体アンモニア中でN−アルキル化して、対応する
1−メチル−10α−メトキシ−ルミリセルゴール(1a)
のエステル類を得る。これらのエステル類は最終的に
は、特殊な治療上重要なエステル類(1b)即ち1−メチ
ル−10α−ルミリセルゴールにエステル交換し得る。
従つて本発明によつて、10%(W/V)以下の硫酸を含有
するメタノール中で0℃以下の温度で式(VII) (式中の−OR3はエステル化されたヒドロキシル基を表
わす) のリセルゴールエステルに光化学反応をうけさせて式
(VIII) の10α−メトキシルミリセルゴールエステルを作り、そ
してこの得られた式(VIII)の10α−メトキシルミリセ
ルゴールエステルを以下の一又は二以上の任意の工程を
適当な順序で実施することにより: (a)N−メチル化反応; (b)OR2基を有する化合物を加水分解してヒドロキシ
ル基にする; (c)化合物のOR2基がヒドロキシル基になつている化
合物をエステル化してエステル化されたヒドロキシル基
とする; (d)OR2基がエステル化されたヒドロキシル基である
化合物をエステル交換する 式(I)の化合物 (式中のR1は水素又はメチル基、及び−OR2はヒドロキ
シル基又はエステル化されたヒドロキシル基を表わす) に変換することを特徴とする前記式(I)のリセルゴー
ル誘導体の製造方法を提供するものである。
好ましくは、その光化学反応は2%〜10%(W/V)の硫
酸、最も好ましくは3%(W/V)の硫酸を含有するメタ
ノール中で実施されるのがよい(X%の表示はXg/100ml
を意味する)。
本発明による反応の好ましい具体例は次の反応経路Bに
要約される。
この上記の反応経路において、R2及びR3は上述のように
規定されるが、R3は好ましくは低級アルカノイル基、最
も好ましくはホルミル基、アセチル基、又はアルカンス
ルホニル基又はベンゼンスルホニル基、p−トルエンス
ルホニル基のようなアレーンスルホニル基、又は好まし
くはメタンスルホニル基を表わす。R2はR3とは異なるア
シル基を表わし、好ましくは5−ブロモピリジン−3−
カルボニル基を表わす。R3に包含するものの中から、脱
離し易い基であつて特に(1a)の化合物と適当なカルボ
ン酸塩とでエステル交換して(1b)のエステル類を得る
と云う観点から、アセチル基、メタンスルホニル基、ト
シル基及び同様のアルカンスルホニル基又はアレーンス
ルホニル基が好適である。
ここで云う、アルキル基及びアルカノイル基は好ましく
は炭素数4以下の低級アルキル基及び低級アルカノイル
基を含む。
その出発物質である式(VII)のリセルゴールエステル
は公知の方法で作ることが出来る。即ち、天然物質であ
るリセルゴールをピリジン中でカルボン酸クロライド又
はスルホン酸クロライドと反応させるか又は他の適当な
方法で作ることが出来る。
式(VII)の化合物から式(VIII)の化合物に変える光
化学反応は、酸濃度は10%W/V以下であるところのメタ
ノール/硫酸中で温度は0℃以下、好ましくは−10℃〜
−30℃の間の温度で実現される。その後の、N−メチル
化反応は、好ましくは式(VIII)の化合物をアルキルハ
ライド、好ましくはヨウ化メチルのようなヨウ化アルキ
ルとをナトリウム又はこの同じ反応媒体中で作られるカ
リウムアミドの存在下で液体アンモニア中で接触させて
行われる。
最後に、そのエステル交換反応は、ジメチルホルムアミ
ド又はジメチルスルホキシドのような非プロトン性溶媒
中で、得ようとするそのエステルの対応する酸の塩と反
応させて都合よく実施出来る。
本発明を以下の実施例で説明するが、これだけに限定さ
れるものではない。
実施例1. 10−メトキシ−ルミリセルゴール 10gのリセルゴール−8−メタンスルホン酸エステルを
前もつて−30℃に冷やしてある濃硫酸を3%W/V含有す
るメタノール混合物の250mlに溶かした。この溶液を窒
素雰囲気のもとで−20℃に保持しながら、330nmのUVラ
ンプでもつて2時間照射した。この反応が終了した時
に、この反応混合物を250mlの水で稀めて、苛性ソーダ
でpH8.5のアルカリ性にし、そして150mlのメチレンクロ
ライドで3回抽出した。10α−メトキシルミリセルゴー
ルメタンスルホン酸エステルを含有するこの有機相を真
空下乾燥して濃縮し、この濃縮物を5gの酢酸カリウムを
含有する100mlの無水ジメチルホルムアミドに溶解し
た。この反応混合物を窒素雰囲気のもとで50℃に4時間
保持した後、室温迄冷却し、10%の水酸化カリウムのメ
タノール溶液20mlを加えた。1時間後、5%のNaCl水溶
液500mlを加えて、そしてその沈澱した生成物をロ過分
離してから乾燥した。アセトニトリルから結晶を作つた
ところ、次のような化学特性及び物理特性を有する純粋
な8gの10α−メトキシ−ルミリセルゴールを得た: m.p.180〜182℃;▲〔α〕20 D▼(メタノール)=+8.9
5;M+:286 実施例2. 2.96gのリセルゴール−8−酢酸エステルを濃硫酸を4.5
%W/V含有するメタノール混合物の前もつて−30℃に冷
やしてある100mlに溶かした。この溶液を窒素雰囲気の
もとで−20℃に保持しながら、330nmのUVランプでもつ
て約2時間照射した。この反応が終つた時、この冷却を
やめ、そしてこの溶液の温度をゆつくり+30℃にして3
時間保持した。この反応混合物を150mlの水で稀めて、
アンモニア水でpH8.5のアルカリ性にした。
この水性メタノール溶液を50mlのメチレンクロライドで
6回抽出した。この有機相は、Na2SO4で脱水してから、
真空乾燥濃縮され、残存物をメタノールより結晶化す
る。この反応物は2.75gの純粋な10α−メトキシルミリ
セルゴールであり、以下のような化学的及び物理的特性
を有していた: m.p.:180〜182℃;▲〔α〕20 D▼(メタノール)=+8.
95;M+:286 実施例3. 1−メチル−10α−メトキシ−ルミリセルゴール−8−
メタンスルホン酸エステル (a)10gのリセルゴール−8−メタンスルホン酸エス
テルに実施例1に述べたようにして紫外線を照射し、温
度を約−20℃に保ちながら2時間紫外線を照射してか
ら、250gの氷を加え、この混合物をNH4OHでpH8.5にし
た。この得られた溶液を塩化メチレンの100mlで6回抽
出した;この抽出混合物をNa2SO4で乾燥し、そして濃縮
乾燥した。この生成物は8.5gの10−メトキシルミリセル
ゴール−8−メタンスルホン酸エステルであり、次の反
応のためには充分な純度である。(b)500mlの多口フ
ラスコの中の−60℃に冷却してある250mlの液体アンモ
ニアに0.78gの金属カリウム及び0.04gの硝酸第二鉄を溶
かした。溶解が完了した時に、3.5gの10−メトキシ−ル
ミリセルゴール−8−メタンスルホン酸エステル及び1.
45gのヨウ化メチルを加えた。この同じ温度で3時間の
間反応を続行した。しかる後、1.5gの塩化アンモニウム
を加え、そしてアンモニアの蒸留が始った。この残存物
を1%の酢酸を含有した冷たいメタノールの20mlに溶か
した。この溶液を25mlの水で稀め、そしてpH8.5のアル
カリ性に調整した。それから、メチレンクロライドの20
mlで2回抽出した。
この塩化メチレンの抽出物を乾燥濃縮して、残存物をア
セトニトリルより再結晶して、3.3gの純粋生成物を得
た。
実施例4. 1−メチル−10α−メトキシ−ルミリセルゴール−8−
(5−ブロモ−ニコチン酸エステル 実施例2で得られた1−メチル−10α−メトキシ−ルミ
リセルゴール−8−メタンスルホン酸エステルの3.85g
を20mlのジメチルホルムアミドに溶かした;5gの5−ブ
ロモ−ニコチン酸カリウムをこの溶液に加え、この混合
物をかきまぜながら40℃に4時間保持した。この溶液を
砕いた氷に注いだところ、懸濁物が得られ、この懸濁物
を塩化メチレンで抽出した。この抽出した有機相をジメ
チルホルムアミドを除くために注意深く水で洗浄してか
ら、濃縮して体積を小さくした。この生成物をエーテル
より再結晶した。この生成物は4.7gの1−メチル−10α
−メトキシ−ルミリセルゴール−8−(5−ブロモニコ
チン酸エステル)であり、以下の特性を有する: m.p.:138〜139℃▲〔α〕20 D▼=−20(c=1,Py);+
20(c=5,CHCl3

Claims (11)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】10%(W/V)以下の硫酸を含有するメタノ
    ール中で、0℃以下の温度で式(VII) (式中の−OR3はエステル化されたヒドロキシ基を表わ
    す) のリセルゴールエステルを光化学反応に付して式(VII
    I) の10α−メトキシルミリセルゴールエステルを作り、そ
    してこの得られた式(VIII)の10α−メトキシルミリセ
    ルゴールエステルを以下の一又は二以上の任意の工程を
    適当な順序で実施することにより: (a)N−メチル化反応; (b)OR2基を有する化合物を加水分解してヒドロキシ
    ル基にする; (c)化合物のOR2基がヒドロキシル基になつている化
    合物をエステル化してエステル化されたヒドロキシル基
    とする; (d)OR2基がエステル化されたヒドロキシル基である
    化合物をエステル交換する 式(I)の化合物 (式中のR1は水素又はメチル基、及び−OR2はヒドロキ
    シル基又はエステル化されたヒドロキシル基を表わす) に変換することを特徴とする前記式(I)のリセルゴー
    ル誘導体を製造する方法。
  2. 【請求項2】光化学反応は300〜370nmの波長の紫外線、
    好ましくは330nmの波長の紫外線を照射して行う特許請
    求の範囲第1項記載の方法。
  3. 【請求項3】工程(a)に先だつて、OR3はエステル化
    されたヒドロキシル基である式(VIII)の化合物を0℃
    以下の温度で塩基により中和し、水で稀めてそして溶媒
    で抽出することにより分離する特許請求の範囲第1項又
    は特許請求の範囲第2項記載の方法。
  4. 【請求項4】式(VIII)の化合物を−10℃以下の温度で
    分離することを特徴とする特許請求の範囲第3項記載の
    方法。
  5. 【請求項5】工程(a)に於いて、得られた式(VIII)
    の化合物を液体アンモニア中でヨウ化メチル及びカリウ
    ムと接触させることにより実施される特許請求の範囲第
    1〜第4項のいずれかに記載の方法。
  6. 【請求項6】R2及びR3はアルキル基、若しくはアリール
    スルホン基又はハロゲン置換若しくは不置換のアルキル
    基、アリール基若しくはアルキルアリール基であるR−
    CO基である特許請求の範囲第1項〜第5項のいずれかに
    記載の方法。
  7. 【請求項7】前記光化学反応は−10℃〜−30℃の間の温
    度で実施されることを特徴とする特許請求の範囲第1項
    〜第6項のいずれかに記載の方法。
  8. 【請求項8】メタノール中の硫酸の濃度は2〜10W/V%
    であることを特徴とする特許請求の範囲第1項〜第7項
    のいずれかに記載の方法。
  9. 【請求項9】そのエステル交換反応はジメチルホルムア
    ミド若しくはジメチルスルホキシド中でカルボン酸のア
    ルカリ金属塩を用いて実施することを特徴とする特許請
    求の範囲第1項〜第8項のいずれかに記載の方法。
  10. 【請求項10】R3はメタン−スルホニル基であることを
    特徴とする特許請求の範囲第1項〜第9項のいずれかに
    記載の方法。
  11. 【請求項11】R2は5−ブロモ−ニコチンカルボニル基
    であることを特徴とする特許請求の範囲第1項〜第10項
    のいずれかに記載の方法。
JP60173963A 1984-08-07 1985-08-07 リセルゴール誘導体の製造方法 Expired - Lifetime JPH0747587B2 (ja)

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JPS6147481A JPS6147481A (ja) 1986-03-07
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