JPH0747298A - 流動層噴流粉砕法および流動層噴流粉砕装置 - Google Patents

流動層噴流粉砕法および流動層噴流粉砕装置

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JPH0747298A
JPH0747298A JP5321787A JP32178793A JPH0747298A JP H0747298 A JPH0747298 A JP H0747298A JP 5321787 A JP5321787 A JP 5321787A JP 32178793 A JP32178793 A JP 32178793A JP H0747298 A JPH0747298 A JP H0747298A
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    • B02CRUSHING, PULVERISING, OR DISINTEGRATING; PREPARATORY TREATMENT OF GRAIN FOR MILLING
    • B02CCRUSHING, PULVERISING, OR DISINTEGRATING IN GENERAL; MILLING GRAIN
    • B02C19/00Other disintegrating devices or methods
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  • Crushing And Grinding (AREA)
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Abstract

(57)【要約】 【目的】 噴流によって導入された運動エネルギをより
良好に使用するために、流動層粉砕に使用されるガス噴
流または蒸気噴流への、粉砕材料の負荷を高くする。 【構成】 ノズルから出る時の噴流パルスの大きさを、
ノズル横断面の周囲範囲では、最小値と最大値との間で
少なくとも2回だけ変化させ、ノズル横断面のコア範囲
では、周囲範囲の前記最小値と等しくするか、または該
最小値よりも小さくする。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、ノズルから出る高速の
ガス噴流または蒸気噴流を、粒子状材料から成る流動層
に導入する、流動層噴流粉砕法に関する。
【0002】さらに本発明は、この方法を実施するため
の流動層噴流粉砕装置に関する。
【0003】
【従来の技術】噴流の周囲に位置する粒子は、高速に加
速されて、静止状態またはこの粒子に向かって飛ぶ粒子
に吹き当てられると粉砕されるようになっている。特に
微粉砕に適したこのような方法は、例えばドイツ連邦共
和国特許第598421号明細書に基づき既に公知であ
る。
【0004】しかしながら、この公知の方法において
は、噴流によって導入された運動エネルギが、粉砕のた
めに一部しか使用されないという欠点がある。図1で概
略的に示したように、この噴流は、均一な速度分布2を
有する流出横断面1を介して、材料層3に流入する。こ
の噴流における圧力が材料層に対して負圧であるので、
すぐに粒子4は材料層から噴流に吸い込まれて、加速さ
れる。このことは、2つの粒子4の間の間隔が増大する
ことによって顕著になる。しかしながら、このようなパ
ルス変化は噴流の外縁部範囲、つまりほぼ、この縁部範
囲の周壁ラインと考えられるライン5,6の間でしか生
じないことが確認できた。この公知の方法の場合、噴流
速度も、この噴流が前進すると著しく減少する。このこ
とは噴流横断面1a,1b,1cにおける速度分布2
a,2b,2cから認識できる。この噴流のコア範囲7
は事実上、粉砕材料から隔離されているので、この範囲
における噴流運動エネルギは広くは使用されないままで
あり、このことから粉砕時の不満足な効率が生じてしま
う。
【0005】すでに、ドイツ連邦共和国特許出願公開2
040519号明細書において、粉砕材料を機械的なフ
ィード手段により側方から噴流に圧送されることが開示
されている。しかしながらこのような手段は、機械的か
つエネルギ的に著しい手間を必要とする。さらに、フィ
ード手段に著しい摩耗を計算に入れなければならない。
例えば米国特許第1935344号明細書に基づき公知
のインジェクタ式の噴流粉砕装置も同様の欠点を有して
いる。この噴流粉砕装置の場合には、粉砕材料が噴流形
成の前に、加速ノズルにおいてガスまたは蒸気と混合さ
れる。
【0006】
【発明が解決しようとする課題】従って本発明の課題
は、噴流によって導入された運動エネルギをより良好に
使用するために、流動層粉砕に使用されるガス噴流また
は蒸気噴流への、粉砕材料の負荷を高くすることであ
る。特に、粉砕材料を噴流のコア範囲に運んで、これに
よりこの場所に提供された運動エネルギを最適に使用で
きる可能性が与えられることが望ましい。
【0007】
【課題を解決するための手段】この課題を解決するため
に本発明においては、吹当て粉砕のために、流動化され
た粉砕材料層に導入された高速のガス噴流または蒸気噴
流において、公知のノズルの流出横断面積を維持しつ
つ、噴流パルスの大きさを局所的に変化させ、この場
合、噴流パルスの高い区域と低い区域とが生じるように
し、さらに、これらの区域を次のように、すなわち、噴
流パルスの大きさが、流出横断面の周囲範囲では、最小
値と最大値との間で少なくとも2回だけ変化し、横断面
のコア範囲では、前記最小値に等しいか、または該最小
値よりも小さいように配置した。
【0008】
【発明の効果】これにより低い噴流パルスを有する範囲
では、噴流がノズルから流出した後すぐに、流れ方向に
対して横方向の流れ通路が、噴流の周囲からコア範囲へ
の圧力降下によって形成されるので、この流れ通路にお
いて、粉砕材料の粒子は噴流中心部にまで吸い込まれる
ことが分かった。噴流がさらに進む経過で、個々の噴流
範囲のオーバラップに基づく混合動作によって、噴流横
断面にわたる噴流パルスの均一化が生じ、単純な噴流
(図1に相当する)において得られるような、噴流横断
面にわたる速度分布が形成されると、粒子は、この粒子
の粉砕のために必要な吹当て速度に加速される。噴流の
コア範囲に粉砕材料を吸い込むことによって、単純な噴
流において得られるよりも著しく高い材料量が捕えら
れ、これらの材料粒子はより高速に加速される。
【0009】このことを実現させる可能性は、例えば、
ノズル内部において、つまり噴流がノズルから流出する
前に局所的に吸い取られることにある。
【0010】本発明の有利な手段は、請求項2以下に記
載されている。請求項2〜4は、噴流パルスおよび噴流
区域の大きさの特性に関するもので、請求項5〜8は、
個々の噴流区域における噴流方向に関するものである。
これらの解決手段は、噴流の開角に影響を与えるか、も
しくは、標準化された速度分布を備えた噴流横断面を噴
流方向に移動して、これにより、粉砕室の大きさもしく
は粉砕材料特性に適合させるために噴流の形を変化させ
ることができる。
【0011】
【実施例】以下に本発明の実施例を図面につき詳しく説
明する。
【0012】技術的に極めて簡単で有利な手段は、流出
横断面にわたって均一に分配された流出開口を使用する
ことである。構成され、かつテストされたノズルとし
て、例えば保持装置に挿入可能なノズル部材が使用され
る。このノズル部材は、円形の横断面を有する4つの流
出開口8を備えていて、これらの流出開口8のそれぞれ
の中心が1つの円を成すように配置されており、この円
の直径は1つの流出開口の直径のほぼ2.5倍に相当す
る。この場合、各流出開口から出た流れは、中心ノズル
軸線9における共通の点に向けられている。図2は、流
出横断面10と噴流横断面11cにおける流れ特性を、
概略的に示した斜視図である。この噴流横断面11cに
は、図1に示した噴流横断面1cにおけるように、標準
的な速度分布が既に形成されている。この場合、コア範
囲に対する吸込み作用は最適である。
【0013】図3には、中心ノズル軸線9と、2つの流
出開口8の間の真ん中とに置かれた平面13内に生じる
流れ特性が示されている。流出横断面10の各2つの流
出開口8の間に直接、半径方向に向けられた流れ通路が
形成される。これらの流れ通路は、噴流方向に、噴流横
断面11(速度分布12を備えた)にまで達する。この
噴流横断面11では個々の噴流範囲がオーバラップし始
める。図3では、噴流横断面11a,11b,11cに
おける速度分布12a,12b,12cが更なる噴流経
過を示している。図2における矢印14は、上に述べた
流れ通路によって形成された横方向流を示している。こ
の横方向流は中心ノズル軸線9にまで粒子4を搬送す
る。
【0014】まず標準のノズル部材を流動層向流粉砕装
置に装備し、次いで本発明により構成されたノズル部材
を流動層向流粉砕装置に装備して粉砕比較すると、他の
点では運転パラメータが同じであり、しかも固有エネル
ギ消費量(kWh/t)がほぼ同じである場合、本発明
のように装備された粉砕装置の方が、標準的に装備され
た粉砕装置に比べて、同じ粉砕細度で、2倍以上の処理
量が得られた。つまり、粉砕効率は、殆ど2.5倍だけ
改善された。
【図面の簡単な説明】
【図1】従来技術による流動層噴流粉砕装置における噴
流の速度分布を示した図である。
【図2】本発明による流動層噴流粉砕装置の流れ特性を
示した概略図である。
【図3】本発明による流動層噴流粉砕装置における速度
分布を示した図である。
【符号の説明】
1 流出横断面、 1a,1b,1c 噴流横断面、
2a,2b,2c 速度分布、 3 材料層、 4 粒
子、 5,6 ライン、 7 コア範囲、 8流出開
口、 9 中心ノズル軸線、 10 流出横断面、 1
1,11a,11b,11c 噴流横断面、 12,1
2a,12b,12c 速度分布、 13 平面、 1
4 矢印

Claims (11)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 ノズルから出る少なくとも1つの高速の
    ガス噴流または蒸気噴流を、流動化された粉砕材料層に
    導入する方法において、ノズルから出る時の噴流パルス
    の大きさを、ノズル横断面の周囲範囲では、最小値と最
    大値との間で少なくとも2回だけ変化させ、ノズル横断
    面のコア範囲では、周囲範囲の前記最小値と等しくする
    か、または該最小値よりも小さくすることを特徴とす
    る、流動層噴流粉砕法。
  2. 【請求項2】 噴流パルスの大きさを、前記最小値の個
    所でゼロの値にする、請求項1記載の流動層噴流粉砕
    法。
  3. 【請求項3】 最大噴流パルスと最小噴流パルスとを有
    する前記ノズル横断面のすべての部分範囲を、互いにほ
    ぼ同じ大きさにする、請求項1または2記載の流動層噴
    流粉砕法。
  4. 【請求項4】 噴流パルスの最小値から最大値への移行
    を不連続的に行なう、請求項1から3までのいずれか1
    項記載の流動層噴流粉砕法。
  5. 【請求項5】 ノズル横断面の各部分範囲において流出
    する流れを、中心ノズル軸線(9)に対して平行にす
    る、請求項1から4までのいずれか1項記載の流動層噴
    流粉砕法。
  6. 【請求項6】 ノズル横断面の各部分範囲において流出
    する流れを、中心ノズル軸線(9)から離れる方向に向
    ける、請求項1から4までのいずれか1項記載の流動層
    噴流粉砕法。
  7. 【請求項7】 ノズル横断面の各部分範囲において流出
    する流れを、中心ノズル軸線(9)に向かって方向付け
    る、請求項1から4までのいずれか1項記載の流動層噴
    流粉砕法。
  8. 【請求項8】 ノズル横断面の各部分範囲から流出する
    流れを、中心ノズル軸線(9)における共通の点に向け
    る、請求項7記載の流動層噴流粉砕法。
  9. 【請求項9】 請求項1から8までのいずれか1項記載
    の流動層噴流粉砕法を実施する装置であって、保持部材
    に挿入可能な、噴流形成のためのノズル部材が設けられ
    ていて、該ノズル部材が、ノズル部材の横断面にわたっ
    て均一に分配された少なくとも2つの流出開口(8)を
    備えていて、該流出開口が種々異なる形と大きさとを有
    していることを特徴とする流動層噴流粉砕装置。
  10. 【請求項10】 流出開口(8)が、該流出開口(8)
    を取り囲む、反曲点の無い包絡曲線を成す制限部を有す
    る範囲内に配置されている、請求項9記載の流動層噴流
    粉砕装置。
  11. 【請求項11】 流出開口(8)が円形横断面で形成さ
    れている、請求項9または10記載の流動層噴流粉砕装
    置。
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