JPH074592B2 - 超純水の製造方法 - Google Patents

超純水の製造方法

Info

Publication number
JPH074592B2
JPH074592B2 JP2093896A JP9389690A JPH074592B2 JP H074592 B2 JPH074592 B2 JP H074592B2 JP 2093896 A JP2093896 A JP 2093896A JP 9389690 A JP9389690 A JP 9389690A JP H074592 B2 JPH074592 B2 JP H074592B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
pure water
water
membrane
primary pure
ultrapure water
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired - Fee Related
Application number
JP2093896A
Other languages
English (en)
Other versions
JPH03293087A (ja
Inventor
秀夫 東
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Organo Corp
Original Assignee
Organo Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Organo Corp filed Critical Organo Corp
Priority to JP2093896A priority Critical patent/JPH074592B2/ja
Publication of JPH03293087A publication Critical patent/JPH03293087A/ja
Publication of JPH074592B2 publication Critical patent/JPH074592B2/ja
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Fee Related legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C02TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
    • C02FTREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
    • C02F2103/00Nature of the water, waste water, sewage or sludge to be treated
    • C02F2103/02Non-contaminated water, e.g. for industrial water supply
    • C02F2103/04Non-contaminated water, e.g. for industrial water supply for obtaining ultra-pure water

Description

【発明の詳細な説明】 <産業上の利用分野> 本発明は半導体製造用および医薬製造用等に用いられる
超純水の製造方法に関するものであり、特に一次系純水
製造装置から得られる一次純水を更に処理して超純水を
得る方法に関するものである。
<従来技術> 半導体製造および医薬製造に用いられる水には電解質、
微粒子、生菌等が極めて少ない高度に精製された超高度
純水、いわゆる超純水が必要とされている。
近年、これらの工業技術が高度化されるに従い、要求さ
れる水質も高くなってきており、更に高度に精製した超
純水の製造が必要になっている。
超純水は従来から下記のようなシステムの組合せで製造
されるのが一般的である。まず凝集装置、濾過装置等で
原水中のコロイド状物質の除去を行い、次に純水装置、
逆浸透装置、脱気装置、ミックスベッドポリシャー等で
大半の電解質、微粒子、生菌等の除去を行い、このよう
な一次系純水製造装置から得られる一次純水を更に殺菌
およびまたは有機物分解をするための紫外線照射装置、
ポリシャー装置、膜分離装置等からなる二次系純水製造
装置で、前記一次純水に僅かに残留している極微量の不
純物の除去を最終的に行い超純水を製造するのである。
上記の一連の装置により製造された超純水は各ユースポ
イントまで供給されるが、供給配管内での汚染を防止す
るために二次系純水製造装置は一次系純水製造装置とは
離れてユースポイント近傍に設置されることが多い。
二次系純水製造装置に用いられる膜分離装置は限外濾過
膜や逆浸透膜から選択される透過膜を内蔵するものであ
り、特に超純水中への微細な非イオン性物質の混入を防
止するために、二次系純水製造装置においては当該膜分
離装置の設置が必須であるとされており、二次系純水製
造装置の末端に設置される(例えば特開昭61−111190号
公報)。
しかし、この二次系純水製造装置に用いられる膜分離装
置は透過膜表面で一次系システムで除去できなかった微
粒子、あるいは配管材等より溶出した有機物等の微細な
非イオン物質を捕捉すると、これが膜表面に付着して圧
力損失が増大して超純水の生産量が減少してくる。
このため、従来からこのように圧力損失が増大して超純
水の生産量が減少した透過膜は洗浄を行い圧力損失の回
復が計られる。透過膜の洗浄は圧力損失が所定の値に達
すると行われるが、この洗浄工程では薬品が用いられる
場合が多く、システムを薬品でよごすため系列内では洗
浄しないのが普通である。したがって、圧力損失が増大
した透過膜は別に設置した専用の洗浄設備で、洗浄に適
した薬品で洗浄が行われるが、系列内に設置し直す前に
洗浄に用いた薬品を更に洗浄する必要があり大量の超純
水が消費される。また設置し直した後に二次系純水製造
装置全体をクリーンアップする必要があるなど、透過膜
の洗浄は非常に高度の技術と多額の費用を必要とする。
更に、洗浄を繰り返すことにより透過膜の膜劣化も懸念
されることになる。
<発明が解決しようとする問題点> 本発明は上述した従来の二次系純水製造装置に用いられ
る膜分離装置の圧力損失の増大を防止することができる
超純水の製造方法を提供することを目的とするものであ
る。
更に膜分離装置の圧力損失の増大を防止することによ
り、前記薬品洗浄の回数を減少させて、洗浄に要する超
純水の消費を大幅に低下させることを目的とするもので
ある。
<問題点を解決するための手段> 上述目的を達成するためになされた本発明よりなる超純
水の製造方法は、一次純水製造装置から得られる一次純
水を更に処理して超純水を得るに当たり、当該一次純水
を紫外線照射装置、イオン交換樹脂が充填されたポリシ
ャー装置の順に、あるいはイオン交換樹脂が充填された
ポリシャー装置、紫外線照射装置の順に処理し、次いで
プラス荷電を有する精密濾過膜を内蔵したカートリッジ
型精密濾過器、更に限外濾過膜を内蔵したクロスフロー
型の膜分離装置の順に処理するようにしたところにあ
る。
以下に本発明を詳細に説明する。
超純水製造工程では前述したごとく上水、井水、河川水
等を原水として一次系純水製造装置で一次純水を製造す
るが、まず原水の水質に応じて前処理が行なわれる。前
処理装置としては凝集処理、濾過処理、活性炭処理等を
組み合わせて実施される。
そして前処理を通過した原水は、通常の純水製造に適用
されるたとえば2床3塔式の純水装置およびまたは混床
式純水装置、更に逆浸透膜装置で処理される。あるい
は、逆浸透膜装置を先に置き次に2床3塔式の純水装置
およびまたは混床式純水装置の順で処理される場合もあ
る。
このような一次系純水製造装置で原水中の大部分の電解
質、微粒子、生菌類等が除去され、通常比抵抗が10〜15
MΩ・cm、微粒子数が100〜500個/ml、生菌数10個/ml以
下程度の一次純水が得られる。
一次系純水製造装置で得られた一次純水は次いで本発明
の二次系純水製造装置で更に処理され、一次系純水製造
装置で除去され得なかった電解質、微粒子、生菌類等が
更に除去され超純水のユースポイントに供給される。
第一図は本発明の実施態様の一例の二次系純水製造装置
のフローを示す説明図である。
ユースポイント7における水質を維持するため、二次系
純水製造装置の末端に設置される膜分離装置6の透過水
は循環ライン8を使い常に循環させるシステムとする。
なお図に記載していないが、膜分離装置6の非透過水は
一次純水製造装置に戻し回収する。
図中1は一次純水槽で一次系純水製造装置(図示せず)
で製造された一次純水を一旦貯蔵するもので、当該一次
純水は送水ポンプ2でまず紫外線照射装置3に導入され
る。
紫外線照射装置では紫外線の殺菌効果を利用して一次純
水中のバクテリア等の生菌を殺菌するために紫外線が照
射される。波長としては254nm付近、照射量として50000
μワット・秒/cm2程度が採用される。なお254nm付近の
波長は一般に殺菌線と言われるもので、主に殺菌の目的
で使用されるが、185nm付近の波長も含まれており、当
該波長は特に水中の有機物の分解に効果があるので、殺
菌とともに水中の有機物も分解される。また当該紫外線
照射装置で185nm付近の紫外線を主に照射して水中の有
機物の分解を主目的とし、そこに含まれる254nm付近の
波長で同時に殺菌することもできる。
紫外線照射された純水は引続いてポリシャー装置4に導
入される。
ポリシャー装置4はほぼ完全に再生された強塩基性陰イ
オン交換樹脂と強酸性陽イオン交換樹脂の混合層からな
っている。通常ポリシャー用樹脂の強塩基性陰イオン交
換樹脂と強酸性陽イオン交換樹脂を系外で再生し混合状
態にしてカートリッジ式のイオン交換塔に充填して用い
る。
上述のポリシャー装置4から流出する純水はプリーツ
状、平板状等の0.1〜1μmの孔径をもつカートリッジ
濾過体(精密濾過膜)を内蔵するカートリッジ型精密濾
過器5に供給され、その全量をいわゆる直行流型で濾過
し、その濾過水を続いてポリアクリロニトリル、ポリア
ミド、ポリスルフォン等を主体とした限外濾過膜からな
る透過膜を内蔵した膜分離装置6に供給される。当該膜
分離装置6により、その上流の諸処理により除去できな
かった特に微細な非イオン性物質が除去され、得られる
透過水である高度に精製された超高純度純水は超純水と
してユースポイント7に供給される。この超純水の水質
は比抵抗16〜18MΩ・cm、微粒子数20〜50個/ml以下、生
菌数1個/ml以下である。
従来の二次系純水製造装置では、限外濾過膜内蔵の膜分
離装置6への流入水をその前段でカートリッジ型精密濾
過器で処理することは行われてなく、したがって前述し
たごとく比較的短期間で圧力損失が増大するが、本発明
のように当該膜分離装置6の前段でその流入水をカート
リッジ型精密濾過器5で処理すると膜分離装置6の圧力
損失の上昇傾向は大幅に軽減される。またカートリッジ
型精密濾過器自身の圧力損失も比較的長期間使用しても
ほとんど上昇しない。
<作用> このように二次系純水製造装置において、本発明のごと
くカートリッジ型精密濾過器を通過させた高純度純水を
膜分離装置に供給すると、如何なる理由により膜分離装
置の圧力損失の上昇傾向を大幅に軽減出来るのかは明確
には解明されていないが、微細な非イオン性物質はカー
トリッジ型濾過器を通過する際に、内蔵するカートリッ
ジ濾過体により、電気的に吸着除去されるものと考えら
れる。なお本発明に用いるカートリッジ型濾過器に使用
するカートリッジ濾過体としてはプリーツ状、平板状等
いずれの形態でもよく、またその材質はポリスルフォ
ン、66−ナイロン、ポリプロピレン、ポリエステル等い
ずれでも良いが、特にプラス荷電を有するカートリッジ
濾過体を用いた方が後段の膜分離装置の圧力損失の上昇
傾向を効果的に抑制することができる。なお通水流速は
0.7〜2.9m3/m2・hr付近が採用される。
また第1図に示した実施態様は紫外線照射装置をポリシ
ャー装置の前段に設置した例を示したが、ポリシャー装
置、紫外線照射装置、カートリッジ型精密濾過器、膜分
離装置の順で処理しても本発明の効果は同じである。
次に実施例を挙げて本発明を説明するが、本発明は次の
実施例に限定されるものではない。
実施例1 工業用水(工水)に凝集剤を添加し、濾材としてアンス
ラサイトと砂を2層に充填した凝集濾過器に通水をした
あと、強酸性陽イオン交換樹脂、アンバーライト(登録
商標、以下同様)IR−124を充填した陽イオン交換塔、
遊離炭酸を除去する脱炭酸塔を経て、弱塩基性陰イオン
交換樹脂アンバーライトIRA−94および強塩基性陰イオ
ン交換樹アンバーライトIRA−400を充填した陰イオン交
換塔に順次通水を行い、次いで逆浸透膜SC−1200(東レ
株式会社製)を装備した逆浸透装置で操作圧20kg/cm2
回収率85%で処理し、さらにアンバーライト200Cとアン
バーライトIRA−900が1:1の割合の混合樹脂層からなる
ミックスベッドポリシャーに通水して処理を行いその流
出水を一次純水とした。
当該一次純水の平均水質は第1表のようであった。
上述の一次純水を第1図に示される本発明によるフロー
からなる二次系純水製造装置により超純水の製造を行っ
た。
一次純水は一旦FRP製の一次純水貯槽に貯蔵した後、送
水ポンプで供給するようにした。
一次系純水製造装置と二次系純水製造装置の距離は約20
0mであった。
二次系純水製造装置は生菌対策としてまず紫外線照射装
置を設け、UV光253.7nmを利用し、系内の生菌数を出来
るだけ少なくした。
紫外線照射装置の後段には外部で特別のコンデショニン
グおよび再生を行った強酸性陽イオン交換樹脂と強塩基
性陰イオン交換樹脂とを1:1の割合で混合したカートリ
ッジ式のカラムに充填したポリシャー装置を設置し、前
記紫外線照射装置の処理水を通水した。なお通水流速は
SV30hr-1とした。
ポリシャー装置に続いて目開き0.2μm、プラス荷電を
有するプリーツ状カートリッジ濾過体を内蔵するカート
リッジ型精密濾過器を設置し、前記ポリシャー装置の処
理水を全量、直行流で通水した。また濾過流速は約0.6m
3/m2・hrとした。
膜分離装置としては限外濾過膜FCV−3010(旭化成工業
株式会社製)を装着したものを用い、前記カートリッジ
型精密濾過器の濾過水を通水した。なお入口圧力3.0kg/
cm2、透過水回収率90%で運転した。
上述のような本発明の二次系純水製造装置において超純
水を製造した時の、膜分離装置の差圧の上昇を第2図A
(実線)に示した。
第2図Aに示すごとく実施例1においては通水日数が10
0日を経ても膜分離装置の差圧は初期差圧を保ってお
り、透過膜の薬品洗浄は全く必要がなかった。なおカー
トリッジ型精密濾過器の差圧も通水日数が100を経ても
ほとんど上昇しなかった。
比較例1 実施例1のフローにおいて、カートリッジ型精密濾過器
を設置しないで従来の処理方法、すなわち紫外線照射装
置、ポリシャー装置、膜分離装置の順に処理した時の膜
分離装置の差圧の上昇を第2図C(点線)に示した。な
お第2図においてグラフCに矢印が付している部分は薬
品洗浄操作を示している。
この比較例1においては通水日数が約27日を経過すると
差圧が2.2kg/cm2に上昇し、薬品洗浄の必要が生じた。
薬品洗浄を実施すると差圧は回復するが、ほぼ同様なピ
ッチで差圧が上昇し、約27日間の周期で薬品洗浄の必要
が生じた。
比較例2 カートリッジ型精密濾過器に用いるカートリッジ濾過体
として目開き0.2μm、荷電を有しないプリーツ状カー
トリッジ濾過体を用いる他は実施例1と同一条件とし
て、膜分離装置の差圧の上昇を測定した。その結果を第
2図B(一点鎖線)に示した。
この比較例2においては、通水日数が80日を越えたあた
りから膜分離装置の差圧がやや上昇する傾向を示した。
但し通水日数が100日を越えても比較例1に比べれば、
膜分離装置の薬品洗浄を必要とする程には差圧の上昇は
なかった。なお、カートリッジ型精密濾過器の差圧は、
実施例1と同様に通水日数が100日を越えても上昇しな
かった。
<発明の効果> 以上の実施例の説明で明らかな通り、一次純水製造装置
から得られる一次純水を更に処理して超純水を得るに当
たり、当該一次純水を紫外線照射装置、イオン交換樹脂
が充填されたポリシャー装置の順に、あるいはイオン交
換樹脂が充填されたポリシャー装置、紫外線照射装置の
順に処理し、次いでプラス荷電を有する精密濾過膜を内
蔵したカートリッジ型精密濾過器、更に限外濾過膜を内
蔵したクロスフロー型の膜分離装置の順に処理するよう
にした本発明方法によれば、カートリッジ型精密濾過器
を前段に設けていない従来例に比べれば、二次純水製造
装置の末端に配置される膜分離装置に内蔵された限外濾
過膜の圧力損失の上昇傾向を劇的に軽減させることがで
き、また非荷電のカートリッジ型精密濾過膜を用いた場
合に比べても明らかに限外濾過膜の圧力損失の上昇傾向
を軽減させることができ、これによって膜分離装置の濾
過能力を回復させる洗浄回数を少なくできて、洗浄工程
に要する超純水の消費量を大幅に減少することができる
という効果が得られる。
また、洗浄回数の減少により膜自体の寿命を長期化させ
ることができるという効果も得られる。
【図面の簡単な説明】
第1図は本発明の実施態様の一例のフローを示す図であ
る。 第2図は実施例1、比較例1、比較例2における膜分離
装置の差圧の上昇変化を示すグラフであり、縦軸は透過
膜の差圧(kg/cm2)を横軸は通水日数(日)を示す。 1…一次純水貯槽、2…送水ポンプ 3…紫外線殺菌装置、4…ポリシャー装置 5…カートリッジ型精密濾過器 6…膜分離装置、7…ユースポイント 8…循環ライン

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】一次純水製造装置から得られる一次純水を
    更に処理して超純水を得るに当たり、当該一次純水を紫
    外線照射装置、イオン交換樹脂が充填されたポリシャー
    装置の順、あるいはイオン交換樹脂が充填されたポリシ
    ャー装置、紫外線照射装置の順に処理し、次いでプラス
    荷電を有する精密濾過膜を内蔵したカートリッジ型精密
    濾過器、更に限外濾過膜を内蔵したクロスフロー型の膜
    分離装置の順に処理することを特徴とする超純水の製造
    方法。
JP2093896A 1990-04-11 1990-04-11 超純水の製造方法 Expired - Fee Related JPH074592B2 (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2093896A JPH074592B2 (ja) 1990-04-11 1990-04-11 超純水の製造方法

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2093896A JPH074592B2 (ja) 1990-04-11 1990-04-11 超純水の製造方法

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPH03293087A JPH03293087A (ja) 1991-12-24
JPH074592B2 true JPH074592B2 (ja) 1995-01-25

Family

ID=14095248

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2093896A Expired - Fee Related JPH074592B2 (ja) 1990-04-11 1990-04-11 超純水の製造方法

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JPH074592B2 (ja)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US20230295027A1 (en) * 2022-03-21 2023-09-21 Taiwan Semiconductor Manufacturing Company Systems and methods for producing ultrapure water for semiconductor fabrication processes

Families Citing this family (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP5135654B2 (ja) * 2001-07-02 2013-02-06 栗田工業株式会社 二次純水製造装置
EP1593488B1 (de) * 2004-04-06 2008-06-11 Bayer MaterialScience AG Laminatfolie und Verfahren zur ihrer Herstellung
JP6634918B2 (ja) * 2016-03-25 2020-01-22 栗田工業株式会社 超純水製造システム

Family Cites Families (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS60119993U (ja) * 1984-01-19 1985-08-13 株式会社クラレ 無菌水供給装置

Non-Patent Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Title
大矢晴彦編「逆浸透法・限外▲ろ▼過法▲II▼応用膜利用技術ハンドブック」(昭53−6−30)(株)幸書房P.189−203(特に図3.4.7,図3.4.11)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US20230295027A1 (en) * 2022-03-21 2023-09-21 Taiwan Semiconductor Manufacturing Company Systems and methods for producing ultrapure water for semiconductor fabrication processes

Also Published As

Publication number Publication date
JPH03293087A (ja) 1991-12-24

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JPH0490885A (ja) 純水製造装置及び製造方法
JP6634918B2 (ja) 超純水製造システム
JP2020507466A (ja) 超純水を製造するための方法
JP4599803B2 (ja) 脱塩水製造装置
TWI461370B (zh) Production method and apparatus for pure water, method and apparatus for manufacturing ozone water, and method and apparatus for cleaning the same
JPH0760291A (ja) パイロジエンフリーの超純水の製造方法
WO2018096700A1 (ja) 超純水製造システム及び超純水製造方法
CN214571340U (zh) 一种去离子水处理系统
JP2012225755A (ja) 放射性汚染水処理システムおよび艀型放射性汚染水処理施設ならびに放射性汚染水処理方法および艀上放射性汚染水処理方法
JPS62110795A (ja) 高純度水の製造装置
JPH074592B2 (ja) 超純水の製造方法
JP2001170630A (ja) 純水製造装置
JPH09253638A (ja) 超純水製造装置
JP5135654B2 (ja) 二次純水製造装置
JP2002336886A (ja) 超純水製造装置及び超純水製造方法
JP3732903B2 (ja) 超純水製造装置
CN212954669U (zh) 一种多级过滤净水系统及净水器
JP6924300B1 (ja) 排水処理方法、超純水製造方法及び排水処理装置
JP2005246126A (ja) 純水又は超純水の製造装置及び製造方法
GB2197860A (en) Apparatus for and the method of water purification
JP2002336887A (ja) 超純水製造装置及び超純水製造方法
JP3429808B2 (ja) 電気式脱イオン水製造装置を組込んだサブシステム
JP3613376B2 (ja) 純水製造装置及び純水製造方法
JP3231606B2 (ja) 超純水製造装置
JP4383091B2 (ja) 復水脱塩方法及び装置

Legal Events

Date Code Title Description
R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20090125

Year of fee payment: 14

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20090125

Year of fee payment: 14

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20100125

Year of fee payment: 15

LAPS Cancellation because of no payment of annual fees