JPH0745672A - 半導体検査装置 - Google Patents

半導体検査装置

Info

Publication number
JPH0745672A
JPH0745672A JP20866593A JP20866593A JPH0745672A JP H0745672 A JPH0745672 A JP H0745672A JP 20866593 A JP20866593 A JP 20866593A JP 20866593 A JP20866593 A JP 20866593A JP H0745672 A JPH0745672 A JP H0745672A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
ink
wafer
semiconductor
inspection
stage
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP20866593A
Other languages
English (en)
Inventor
Kazutoshi Arita
和稔 有田
Hiroyuki Ataishi
博幸 阿多石
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Sony Corp
Original Assignee
Sony Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Sony Corp filed Critical Sony Corp
Priority to JP20866593A priority Critical patent/JPH0745672A/ja
Publication of JPH0745672A publication Critical patent/JPH0745672A/ja
Pending legal-status Critical Current

Links

Landscapes

  • Testing Or Measuring Of Semiconductors Or The Like (AREA)
  • Container, Conveyance, Adherence, Positioning, Of Wafer (AREA)

Abstract

(57)【要約】 【目的】本発明は、インクの付着後、速やかにインクを
固形化することができる半導体検査装置を提案しようと
するものである。 【構成】加熱処理することによりインクを固形化する固
形化領域6を半導体機能検査装置1上に設け、各半導体
ウエハ2のプローブ検査及びバツドマークのインク付け
終了後、固形化領域6上において半導体ウエハ2上のイ
ンクを加熱して固形化することにより、インクの固形化
に要する時間を短縮することができる。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【目次】以下の順序で本発明を説明する。 産業上の利用分野 従来の技術 発明が解決しようとする課題 課題を解決するための手段 (図1) 作用 実施例 図1〜図3 発明の効果
【0002】
【産業上の利用分野】本発明は半導体検査装置に関し、
特に半導体ウエハ上に形成された個々の半導体装置の機
能検査装置に適用して好適なものである。
【0003】
【従来の技術】従来、半導体装置のウエハ製造工程終了
時には、半導体機能検査装置によつて半導体ウエハ上に
形成された半導体装置の機能を検査する工程が設けられ
ている。この検査にはプローバが用いられ、プローバに
よる検査の結果、装置の機能が不良であると判定された
半導体装置の上にはバツドマークとしてインクが付着さ
れるようになされている。これにより良品と不良品とを
識別できるようになされている。
【0004】このように半導体装置上に付着されたイン
クは、固形化させるために加熱処理する必要がある。従
来では、例えば1ロツト25枚分の半導体ウエハ全てに
ついてプローブ検査及びそれに伴うインク付けが終了し
た時点で、これらを一括して半導体機能検査装置とは別
装置でなる恒温槽に運び、高温雰囲気の中で所定時間の
間これを放置することによりインクを固形化している。
【0005】
【発明が解決しようとする課題】ところが従来のよう
に、インク固形化の処理を1ロツトの半導体ウエハ2全
てのインク付けを終了させた後に一括して開始する方法
では、最後の半導体ウエハ2のインク付けが終了するま
での間、それ以前にインク付けを終了させた半導体ウエ
ハ2はインクを付けたときの状態のままで放置されるこ
とになる。固形化前のインクは他に付着するおそれがあ
り、またこれと同様の問題がインク付けの処理を終えた
半導体ウエハ2を一括して恒温槽に運ぶ際にもある。従
つて恒温槽に運ぶ際には、ウエハ2の取扱には十分な注
意が必要とされる。また恒温槽を用いて半導体ウエハ2
上に付着されたインクを固形化させる方法では、インク
の固形化には冷却時間を含めて約1時間余りの時間を必
要とし、処理時間が比較的長いという問題があつた。
【0006】本発明は以上の点を考慮してなされたもの
で、インクの付着後、速やかにインクを固形化すること
ができる半導体検査装置を提案しようとするものであ
る。
【0007】
【課題を解決するための手段】かかる課題を解決するた
め本発明においては、半導体ウエハ2を供給カセツト3
より搬出する第1の搬送手段1Aと、第1の搬送手段1
Aによつて所定位置に位置決めした後、上記半導体ウエ
ハ2上に形成された半導体装置の機能を検査する検査領
域1Bと、検査領域1Bにおける検査結果に基づいて、
半導体装置上のうち不良と判定された半導体装置上に目
印のインクを塗布するインク塗布手段と、目印のインク
を加熱して固形化する固形化領域6と、半導体ウエハ2
を収納カセツト5へ搬入する第2の搬送手段1Cとを設
けたことを特徴とする半導体検査装置1。
【0008】
【作用】加熱処理することによりインクを固形化する固
形化領域6を半導体検査装置1に設け、各半導体ウエハ
2のプローブ検査及びインク付け終了後、固形化領域6
において半導体ウエハ2上のインクの固形化を加熱して
固形化することにより、インクの固形化処理に要する時
間を短縮することができる。
【0009】
【実施例】以下図面について、本発明の一実施例を詳述
する。
【0010】図1において、1は全体として半導体機能
検査装置を示し、ウエハ2を供給カセツト3から取り出
し検査ステージ4へと送り出す搬入部1Aと、ウエハ2
上の半導体装置の機能検査とバツドマークのインク付け
をする検査領域1Bと、インク付けの終了したウエハ2
を収納カセツト5へと送り込む搬出部1Cとさらに、検
査領域内に設けられたインク固形化領域1Dとから構成
されている。このインク固形化領域1Dは図2に示すよ
うな固形化ステージ6でなる。
【0011】搬入部1Aは、供給カセツト3の下側に供
給カセツト3に収納されている最下段のウエハ2に裏面
から接する位置に配置された搬送ベルト7Aと、搬送ベ
ルト7Aに中央部を隣接させて直角方向に配置された搬
送ベルト7Bと、ウエハ2のオリエンテーシヨンフラツ
トを利用してウエハ2の方向を決めるプリアライメント
ステージ8と、X−Yステージでなる移動ステージ9と
により構成されている。これにより供給カセツト3内に
収納されている最下段に位置するウエハ2が順次、搬送
ベルト7Aにより取り出され、搬送ベルト7Bによりプ
リアライメントステージ8へと搬送されるようになされ
ている。さらにウエハ2は搬入部に設置されたベルヌー
イチヤツク10Aによりプリアライメントステージ8か
らローデイング位置Pの移動ステージ9上へと搬送され
る。
【0012】この移動ステージ9は、ローデイング位置
Pから光学系の変位センサ11のある位置、さらに検査
ステージ4へと移動し、インク付け終了後搬送領域にあ
るアンローデイング位置Qに移動した後、再びローデイ
ング位置Pに戻るといつた経路を移動する。ウエハ2を
上に載せて変位センサ11のある位置に移動した移動ス
テージ9は、ここで検査ステージ4のプローバ(図示せ
ず)位置に対して位置決めされている変位センサ11に
より、プローバ位置に対するウエハ2の正確な位置合せ
をするようになされている。
【0013】検査領域1Bには、半導体装置の機能検査
をするプローバと不良半導体装置に対しバツドマークの
インクを付けるインカーとが設置されている。さらにこ
の検査領域内には、バツドマークのインクの固形化をす
る固形化領域として固形化ステージ6が設置されてい
る。また検査領域1B内においては、検査ステージ4か
ら固形化ステージ6へウエハ2を搬送するロボツトアー
ム12Aと固形化ステージ6から搬出部1C内にあるア
ンローデイング位置Qに移動した移動ステージ9へウエ
ハ2を搬送するロボツトアーム12Bとが設置されてい
る。
【0014】搬出部1Cは、アンローデイング位置Qか
ら縦に連続して2台並んだ搬送ベルト7C及び搬送ベル
ト7Dと搬送ベルト7Dの中央部に隣接して収納カセツ
ト5の下側の位置に直角方向に配置された搬送ベルト7
Eとからなり、これによりアンローデイング位置Qから
搬送ベルト7C上に搬送されてくるウエハ2を順次収納
カセツト5へと送り込むようになされている。ここでア
ンローデイング位置Qの移動ステージ9から搬出部1C
の搬送ベルト7Cへのウエハ2の搬送は、搬出部1Cに
設置されているベルヌーイチヤツク10Bによつてなさ
れる。
【0015】以上の構成において、供給カセツト3内に
収納されていたウエハ2は、搬送ベルト7Aにより取り
出され、さらに搬送ベルト7Bによりプリアライメント
・ステージ6上に搬送される。プリアライメントステー
ジ8上においてウエハ2は、オリエンテーシヨンフラツ
トを利用して、検査ステージ4の検査位置に対するウエ
ハ2の大まかな方向を決められて後、ベルヌーイチヤツ
ク10Aにより吸引され移動ステージ9上に搬送され
る。ウエハ2は移動ステージ9上に搬送されてくると、
移動ステージ9上に真空吸着により固定された状態で変
位センサ11の下へ移動される。ここで変位センサ11
により検査ステージ4のプローバ位置に対するウエハ2
上の半導体装置の正確な位置合せがなされる。
【0016】位置合せのなされたウエハ2は、移動ステ
ージ9が検査ステージ4上へ所定距離平行移動すること
により検査ステージ4上に搬送され、ここでX−Yステ
ージである移動ステージ9が各半導体装置のプローブ検
査及びインク付け終了毎にステツプ移動することによ
り、ウエハ2上の個々の半導体装置のプローブ検査及び
インク付けが順次なされることになる。ウエハ2のプロ
ーブ検査及びインク付けが全て終了すると、ウエハ2は
ロボツトアーム12Aにより半導体機能検査装置1上の
固形化ステージ6上に搬送される。ここでステージ表面
を所定時間の間所定温度(約150 〔°C 〕) に加熱する
ことにより、ステージ表面に裏面を直に接触させ載せら
れているウエハ2は、短時間にて高温に達し、これによ
り数分間にてウエハ2上のバツドマークのインクの固形
化をなし得る。バツドマークのインクの固形化が終了し
たウエハ2は、数分間の冷却期間を経て固形化ステージ
6上における処理を終了する。
【0017】ここで例えば、1枚目のウエハ2がプロー
ブ検査及びインク付けを終了して、ロボツトアーム12
Aにより固形化ステージ6上に搬送されると、移動ステ
ージ9は位置合せ領域のローデイング位置Pに移動し
て、ここで2枚目のウエハ2を載せてこれを検査ステー
ジ4上に搬送する。これにより2枚目のウエハ2のプロ
ーブ検査及びインク付けが、検査ステージ4上において
開始される。
【0018】一方固形化ステージ6上においてなされる
1枚目のウエハ2のバツドマークのインクの固形化は、
2枚目のウエハ2がプローブ検査及びインク付けをして
いる間に終了し、これが終了すると1枚目のウエハ2は
ロボツトアーム12Bによりアンローデイング位置Q上
方に搬送され、ロボツトアーム12Bに保持された状態
で移動ステージ9がアンローデイング位置Qに移動され
てくる迄の間この状態が維持されることになる。
【0019】次に2枚目のウエハ2のプローブ検査及び
インク付けが終了すると、1枚目のウエハ2と同様にロ
ボツトアーム12Aにより固形化ステージ6上に搬送さ
れ、ウエハ2上のバツドマークのインクの固形化がなさ
れることになる。このとき2枚目のウエハ2が固形化ス
テージ6上に搬送されると、検査ステージ4上の移動ス
テージ9は搬送領域の搬出部隣のアンローデイング位置
Qに移動して、インク固形化を終了しロボツトアーム1
2Bに保持されアンローデイング位置Q上方で待機して
いた1枚目のウエハ2をその上に載せることができる。
【0020】移動ステージ9上に載せられた1枚目のウ
エハ2は、ベルヌーイチヤツク10Bにより吸引されて
搬送ベルト7C上に搬送され、ここからさらに搬送ベル
ト7Dを経由して搬送ベルト7Eのある位置まで搬送さ
れ、さらに搬送ベルト7Eによつて収納カセツト12内
へと送り込まれることになる。ここで1枚目のウエハ2
が、アンローデイング位置Qにおいて移動ステージ9上
から搬送ベルト7C上に搬送されると、移動ステージ9
はローデイング位置Pに移動し、その上へベルヌーイチ
ヤツク10Aにより搬送されてくる新たにプローブ検査
及びインク付けをする3枚目のウエハ2が載せられるこ
とになる。こうして3枚目のウエハ2に対して1枚目及
び2枚目のウエハ2と同様にプローブ検査、バツドマー
クのインク付け及びインク固形化がなされることにな
る。
【0021】以下同様の手順により供給カセツト3に収
められた所定枚数のウエハ2のプローブ検査、バツドマ
ークのインク付け及びインク固形化がなされ、順次収納
カセツト12に収められていくことになる。このように
して次のウエハ2のプローブ検査及びインク付けとその
前にインク付けを終了したウエハ2のインク固形化とが
同時に並行処理されることにより、供給カセツト3から
送り出されるウエハ2のプローブ検査及びインク付けの
処理は連続してなされ、所定枚数のウエハ2を処理する
のに要する全体の時間は、それぞれのウエハ2のプロー
ブ検査及びインク付けの所要時間の合計に最後の1枚の
ウエハ2のインク固形化に要する時間を加えたものとな
る。
【0022】これを従来の場合、すなわち全てのウエハ
2のプローブ検査及びインク付けを終了した後、それら
を一括して恒温槽により処理した場合と比較すると、そ
の全体の所要時間の差は、本実施例の場合の最後の1枚
を固形化ステージ6上において固形化するに要する数分
と、従来の場合における恒温槽により固形化するに要す
る約1時間余りとの差ということになり、殆ど1時間近
くの処理時間が短縮され得る。
【0023】以上の構成によれば、プローブ検査により
インク付けされたウエハ上のインク固形化を、別装置か
らなる恒温槽を用いずに半導体機能検査装置上のインク
固形化領域においてなすことにより、インク固形化前の
ウエハを運搬する工程が一つ省かれ、その分省力化とな
すことができる。さらにインク固形化をするウエハ2を
インク固形化ステージ上において直に高温にて加熱する
ことにより、インク固形化に要する時間を大幅に短縮す
ることができる。またこれによりインク固形化の処理を
連続して次ウエハ2のプローブ検査及びインク付けの間
にできることとなり、全体の処理に要する時間を約1時
間短縮することができ、これによりウエハ2の生産効率
を上げることができる。それと同時に、インク付けの終
了したウエハが直ちにインク固形化の処理がされること
により、ウエハ2をインク固形化前の状態で取り扱う期
間を殆ど無くすことができ、これにより固形化前のイン
クが他に付着するおそれを従来に比較して格段と低減す
ることができる。また恒温槽に搬送する工程を1つ省く
ことにより、その分省力化をなし得る。
【0024】なお上述の実施例においては、半導体機能
検査装置上に設けた固形化ステージは1箇所のみの場合
について述べたが、本発明はこれに限らず、図3(A)
に示すように固形化ステージを2箇所設けることによ
り、例えばどちらか一方を加熱専用にして、もう一方を
冷却専用としてもよい。この場合、加熱専用のステージ
上でインク固形化のための所定時間の加熱を終了したウ
エハ2を冷却専用のステージに移すことにより、本実施
例のように移動ステージ9がアンローデイング位置Qに
移動される迄の間、ロボツトアーム12Bにてウエハ2
を保持せずとも、検査ステージ4の位置にある移動ステ
ージ9が、上に載せられていたウエハ2が加熱専用のス
テージ上に搬送された後、アンローデイング位置Qに移
動されてきたとき、冷却専用のステージ上のウエハ2を
移動ステージ9上に搬送させることができ、本実施例の
ように2本のロボツトアーム12A及び12Bを用いず
とも1本のロボツトアームにてウエハ2を搬送すること
もできる。
【0025】また上述の実施例においては、インク固形
化のための領域を固形化ステージとして新たに設定して
いるが、半導体機能検査装置上の既存の装置例えば、図
3(B)に示すように搬送ベルトの部分を利用して、こ
れを固形化ステージとしても良い。
【0026】
【発明の効果】上述のように本発明によれば、半導体機
能検査装置内に固形化領域を設けたことにより、インク
固形化に要する時間を大幅に短縮し得るインク固形化装
置を容易に実現し得る。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明による半導体機能検査装置の一実施例を
示す平面図である。
【図2】固形化ステージを示す上面図及び側面図であ
る。
【図3】他の実施例の説明にに供す上面図及び側面図で
ある。
【符号の説明】
1……半導体機能検査装置、2……ウエハ、3……供給
カセツト、4……検査ステージ、5……収納カセツト、
6……固形化ステージ、7A、7B、7C、7D、7E
……搬送ベルト、8……プリアライメントステージ、9
……移動ステージ、10A、10B……ベルヌーイチヤ
ツク、11……変位センサ、12A、12B……ロボツ
トアーム。

Claims (4)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】半導体ウエハを供給カセツトより搬出する
    第1の搬送手段と、上記第1の搬送手段によつて所定位
    置に位置決めした後、半導体ウエハ上半導体装置の機能
    を検査する検査領域と、 上記検査領域における検査結果に基づいて、上記半導体
    装置上のうち不良と判定された半導体装置上に目印のイ
    ンクを塗布するインク塗布手段と、 上記目印のインクを加熱して固形化する固形化領域と、 上記半導体ウエハを収納カセツトへ搬入する第2の搬送
    手段とを具えることを特徴とする半導体検査装置。
  2. 【請求項2】上記固形化領域は加熱用の台座を有し、当
    該台座上に載置された上記半導体ウエハの裏面を直接加
    熱して上記インクを熱硬化させることを特徴とする請求
    項1に記載の半導体検査装置。
  3. 【請求項3】上記検査領域以降の作業領域に上記固形化
    領域を設けることを特徴とする請求項1に記載の半導体
    検査装置。
  4. 【請求項4】上記第2の搬送手段は上記半導体ウエハを
    搬送するベルト手段を上記固形化領域とすることを特徴
    とする請求項1に記載の半導体検査装置。
JP20866593A 1993-07-30 1993-07-30 半導体検査装置 Pending JPH0745672A (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP20866593A JPH0745672A (ja) 1993-07-30 1993-07-30 半導体検査装置

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP20866593A JPH0745672A (ja) 1993-07-30 1993-07-30 半導体検査装置

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JPH0745672A true JPH0745672A (ja) 1995-02-14

Family

ID=16560027

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP20866593A Pending JPH0745672A (ja) 1993-07-30 1993-07-30 半導体検査装置

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JPH0745672A (ja)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2006172232A (ja) * 2004-12-16 2006-06-29 Sato Corp Icタグ検品装置

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2006172232A (ja) * 2004-12-16 2006-06-29 Sato Corp Icタグ検品装置

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US5177514A (en) Apparatus for coating a photo-resist film and/or developing it after being exposed
JP3583665B2 (ja) レジスト処理装置及び測定方法
TWI298186B (en) Centering mechanism, centering unit, semiconductor manufacturing apparatus, and centering method
JP3916473B2 (ja) 基板処理装置および基板処理方法
KR940020507A (ko) 처리 시스템(process system)
KR101169839B1 (ko) 도포막형성 장치
WO2008059684A1 (fr) Equipement de transport de substrat
JP2000235949A (ja) 塗布現像処理装置及び塗布現像処理方法
JPH03289152A (ja) プローブ装置
JP2519096B2 (ja) 処理装置及びレジスト処理装置及び処理方法及びレジスト処理方法
JPH0745672A (ja) 半導体検査装置
JP3107310B2 (ja) 処理装置
JP2005010068A (ja) 被検査品の外観検査装置及び外観検査方法
JP3898401B2 (ja) 部品供給装置
JPS62262438A (ja) ウエハ処理装置
JPH0529437A (ja) 処理装置
JPH11220005A (ja) 基板処理装置
JP2926703B2 (ja) 基板処理方法及び装置
KR20090010633A (ko) 웨이퍼 이송 장치 및 이의 구동 방법
JP3080845B2 (ja) 検査装置及びその方法
JP2926593B2 (ja) 基板処理装置及びレジスト処理装置及び基板処理方法及びレジスト処理方法
JP3116302B2 (ja) ワークの処理装置
JP2926213B2 (ja) 基板処理装置
JP2877744B2 (ja) 半導体基板のレジスト処理装置
WO2024122079A1 (ja) ワーク搬送装置及びワーク検査装置