JPH0740929Y2 - 貯湯式給湯装置 - Google Patents
貯湯式給湯装置Info
- Publication number
- JPH0740929Y2 JPH0740929Y2 JP1988139862U JP13986288U JPH0740929Y2 JP H0740929 Y2 JPH0740929 Y2 JP H0740929Y2 JP 1988139862 U JP1988139862 U JP 1988139862U JP 13986288 U JP13986288 U JP 13986288U JP H0740929 Y2 JPH0740929 Y2 JP H0740929Y2
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- Japan
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- hot water
- temperature
- water
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- Instantaneous Water Boilers, Portable Hot-Water Supply Apparatuses, And Control Of Portable Hot-Water Supply Apparatuses (AREA)
Description
【考案の詳細な説明】 産業上の利用分野 本考案は、温水を貯湯槽に貯留して、おの貯湯槽からの
温水を給湯する貯湯式給湯装置に関する。
温水を給湯する貯湯式給湯装置に関する。
従来の技術 このような貯湯式給湯装置では、温水が貯留されている
貯湯槽の上部から温水を取出して給湯を行い、加熱され
るべき水を貯湯槽の下部に供給する。貯湯槽内で、上部
と下部で温度差の明確な薄い層を形成して、希望する温
度を有する温水を使用に供することができるようにする
ことが望まれる。
貯湯槽の上部から温水を取出して給湯を行い、加熱され
るべき水を貯湯槽の下部に供給する。貯湯槽内で、上部
と下部で温度差の明確な薄い層を形成して、希望する温
度を有する温水を使用に供することができるようにする
ことが望まれる。
考案が解決すべき課題 本考案の目的は、貯湯槽内に明確な温度差の大きい層を
形成して、希望する温度を有する温水を使用することが
できるようにした貯湯式給湯装置を提供することであ
る。
形成して、希望する温度を有する温水を使用することが
できるようにした貯湯式給湯装置を提供することであ
る。
課題を解決するための手段 本考案は、温水を上層域、中層域および下層域に分けて
貯留する貯湯槽と、 上層域から開閉弁を介し、または下層域から直接温水を
吸引し、上層域に加熱温水を供給する加熱循環装置と、 下層域に水位調整弁を介して水を供給する給水管と、 上層域から温水を取出す給湯管と、 上層域と中層域および中層域と下層域の境界にそれぞれ
配置され、下層域から中層域および中層域から上層域へ
の温水の流れを層流とするための整流板と、 前記開閉弁が下層域の温水温度がある一定の温度以下の
ときに開くように制御する処理装置とを含むことを特徴
とする貯湯式給湯装置である。
貯留する貯湯槽と、 上層域から開閉弁を介し、または下層域から直接温水を
吸引し、上層域に加熱温水を供給する加熱循環装置と、 下層域に水位調整弁を介して水を供給する給水管と、 上層域から温水を取出す給湯管と、 上層域と中層域および中層域と下層域の境界にそれぞれ
配置され、下層域から中層域および中層域から上層域へ
の温水の流れを層流とするための整流板と、 前記開閉弁が下層域の温水温度がある一定の温度以下の
ときに開くように制御する処理装置とを含むことを特徴
とする貯湯式給湯装置である。
作用 本考案に従えば、温水を貯留する貯湯槽を整流板によつ
て上層域、中層域および下層域に分け、給水管を水位調
整弁を介して下層域に接続し、上層域に給湯管を接続
し、給水、給湯時の貯湯槽内の撹拌を防ぐ。また、貯湯
温水を加熱する加熱循環装置に、上層域から開閉弁を介
し、また下層域から直接温水を供給し、この開閉弁を下
層域の温度によつて開閉するようにしたので、加熱循環
装置に常に一定量以上の温水が循環され、直接接触式温
水ヒータなどの加熱手段の極部過熱を防ぐとともに速や
かに一定温度の給湯を行うことができる。
て上層域、中層域および下層域に分け、給水管を水位調
整弁を介して下層域に接続し、上層域に給湯管を接続
し、給水、給湯時の貯湯槽内の撹拌を防ぐ。また、貯湯
温水を加熱する加熱循環装置に、上層域から開閉弁を介
し、また下層域から直接温水を供給し、この開閉弁を下
層域の温度によつて開閉するようにしたので、加熱循環
装置に常に一定量以上の温水が循環され、直接接触式温
水ヒータなどの加熱手段の極部過熱を防ぐとともに速や
かに一定温度の給湯を行うことができる。
実施例 第１図は、本考案の一実施例の断面図である。ケーシン
グ１内には、水を加熱するための加熱装置である直接接
触式温水ヒータ２が設けられ、この直接接触式温水ヒー
タ２からの温水はケーシング１の下部に設けられた貯湯
槽３に貯留される。温水ヒータ２は、鉛直軸線を有する
直円筒状の本体４に、バーナ５を備える燃焼層６を形成
し、この燃焼層６の上方に、吸熱材７が充填されている
吸熱層８が形成される。吸熱材７は、上方に凸の円錐状
の多孔板９によつて支持される。吸熱層８の上方には、
下方に開口した水供給端10から加熱されるべき水が落下
され、この水10は水分散部材11によつて吸熱層８の上方
で全面に亘つて水が分散されて流下される。水分散部材
11は、水供給端10からの水を貯留して多数の通過孔から
均一な流量分布で落下させる構成を有する。
グ１内には、水を加熱するための加熱装置である直接接
触式温水ヒータ２が設けられ、この直接接触式温水ヒー
タ２からの温水はケーシング１の下部に設けられた貯湯
槽３に貯留される。温水ヒータ２は、鉛直軸線を有する
直円筒状の本体４に、バーナ５を備える燃焼層６を形成
し、この燃焼層６の上方に、吸熱材７が充填されている
吸熱層８が形成される。吸熱材７は、上方に凸の円錐状
の多孔板９によつて支持される。吸熱層８の上方には、
下方に開口した水供給端10から加熱されるべき水が落下
され、この水10は水分散部材11によつて吸熱層８の上方
で全面に亘つて水が分散されて流下される。水分散部材
11は、水供給端10からの水を貯留して多数の通過孔から
均一な流量分布で落下させる構成を有する。
バーナ５には、管路12から開閉弁13を介してガス燃料が
供給され、またフアン14から燃焼用空気が供給される。
吸熱層８で燃焼ガスによつて昇温された水は、燃焼層６
において本体４の内周面に沿つて水膜15を形成して流下
する。こうして水供給端10からの水は、バーナ５の燃焼
ガスに直接接触して加熱されて温水が得られる。この温
水は、本体４の底16に形成されている温水排出孔17から
上下に延びる管路18を経て、横に開口した温水供給端19
から貯湯槽３の上層域に供給される。貯湯槽３は、密閉
されており、その上層域は、管18に上述のように接続さ
れる。
供給され、またフアン14から燃焼用空気が供給される。
吸熱層８で燃焼ガスによつて昇温された水は、燃焼層６
において本体４の内周面に沿つて水膜15を形成して流下
する。こうして水供給端10からの水は、バーナ５の燃焼
ガスに直接接触して加熱されて温水が得られる。この温
水は、本体４の底16に形成されている温水排出孔17から
上下に延びる管路18を経て、横に開口した温水供給端19
から貯湯槽３の上層域に供給される。貯湯槽３は、密閉
されており、その上層域は、管18に上述のように接続さ
れる。
貯湯槽３において、この貯湯槽３の下層域に開口した水
供給孔20を有する給水管21が設けられる。給水管21で
は、水位調整弁22が設けられ、浮子23の上下の変位に応
じて弁開度が制御され、貯湯槽３内の水位が一定に保た
れる。この給水管21には、たとえば水道水が圧送され
る。
供給孔20を有する給水管21が設けられる。給水管21で
は、水位調整弁22が設けられ、浮子23の上下の変位に応
じて弁開度が制御され、貯湯槽３内の水位が一定に保た
れる。この給水管21には、たとえば水道水が圧送され
る。
貯湯槽３には、上下に延びる給湯管24が設けられる。こ
の給湯管24の温水取出し孔25は、貯湯槽３の上層域であ
つて、水位調整弁22によつて調整される水位よりも下方
に開口している。給湯管24は、ポンプ27に接続され、給
湯管26を介して水栓28に湯水が供給される。
の給湯管24の温水取出し孔25は、貯湯槽３の上層域であ
つて、水位調整弁22によつて調整される水位よりも下方
に開口している。給湯管24は、ポンプ27に接続され、給
湯管26を介して水栓28に湯水が供給される。
貯湯槽３の下層域には、水取出孔29に管30が接続され
る。また上層域には、温水取出孔25と略同一の高さの水
取出孔31に管32が接続される。管30は直接、管32は電磁
弁などの開閉弁33を介して、循環ポンプ35が接続され、
さらに循環管34が接続されるとともに、水の圧力を検出
する圧力検出手段36および水の流量を制御する流量制御
弁37が介在される。循環管34は、管38に接続され、この
管38からの水は前記水供給端10から水が落下される。
る。また上層域には、温水取出孔25と略同一の高さの水
取出孔31に管32が接続される。管30は直接、管32は電磁
弁などの開閉弁33を介して、循環ポンプ35が接続され、
さらに循環管34が接続されるとともに、水の圧力を検出
する圧力検出手段36および水の流量を制御する流量制御
弁37が介在される。循環管34は、管38に接続され、この
管38からの水は前記水供給端10から水が落下される。
貯湯槽３内には、水供給孔20の近傍でその上方位置の下
層域と中層域との境界に整流板40が、また温水供給孔19
の近傍でその下方位置の上層域と中層域との境界に整流
板41が、それぞれ設けられる。整流板40,41は、たとえ
ば多数の透孔を有するパンチングメタルなどで構成さ
れ、これによつて貯湯槽３を高温の上層域、中温の中層
域、低温の下層域に分けて貯留する。したがつて水栓28
からは、高温の上層域の温水を使用することができる。
層域と中層域との境界に整流板40が、また温水供給孔19
の近傍でその下方位置の上層域と中層域との境界に整流
板41が、それぞれ設けられる。整流板40,41は、たとえ
ば多数の透孔を有するパンチングメタルなどで構成さ
れ、これによつて貯湯槽３を高温の上層域、中温の中層
域、低温の下層域に分けて貯留する。したがつて水栓28
からは、高温の上層域の温水を使用することができる。
整流板40,41との間に、さらに整流板を配置してもよ
い。整流板40,41は、その他の構成を有してもよい。
い。整流板40,41は、その他の構成を有してもよい。
第２図は、直接接触式温水ヒータ２の底16付近の断面図
である。本体４の内周面の近傍には、堰部材43が設けら
れ、この堰部材43内に、水膜15を形成して落下する水が
貯留され、この温水の温度は、堰部材43によつて囲まれ
た空間に配置された温度検出器44によつて検出される。
堰部材43の下部には、排水孔45が形成される。
である。本体４の内周面の近傍には、堰部材43が設けら
れ、この堰部材43内に、水膜15を形成して落下する水が
貯留され、この温水の温度は、堰部材43によつて囲まれ
た空間に配置された温度検出器44によつて検出される。
堰部材43の下部には、排水孔45が形成される。
第３図を参照して、温度検出手段44の出力は、処理回路
46に与えられ、その検出温度と予め定める第１温度たと
えば60℃との差が零となるように、流量制御弁37の弁開
度を制御する。たとえば温度検出手段44によつて検出さ
れる温度が前記予め定める第１温度未満であつて低いと
きには、流量制御弁37の弁開度を小さくする。
46に与えられ、その検出温度と予め定める第１温度たと
えば60℃との差が零となるように、流量制御弁37の弁開
度を制御する。たとえば温度検出手段44によつて検出さ
れる温度が前記予め定める第１温度未満であつて低いと
きには、流量制御弁37の弁開度を小さくする。
貯湯槽３の下部には、もう一つの温度検出手段48が設け
られる。この温度検出手段48の出力は、処理回路46に与
えられる。処理回路46は、温度検出手段48によつて検出
される温度が予め定める第２の温度たとえば10℃以上で
開閉弁33を閉じ、その検出温度が前記予め定める第２の
温度未満で開閉弁33を開く。
られる。この温度検出手段48の出力は、処理回路46に与
えられる。処理回路46は、温度検出手段48によつて検出
される温度が予め定める第２の温度たとえば10℃以上で
開閉弁33を閉じ、その検出温度が前記予め定める第２の
温度未満で開閉弁33を開く。
動作中、ポンプ35が回転駆動されることによつて、圧力
検出手段36によつて検出される水圧が上昇し、この信号
により、フアン14が駆動されるとともに、ガスバーナ５
にガス燃料を供給するための開閉弁13が開かれて、直接
接触式温水ヒータ２の運転が開始される。
検出手段36によつて検出される水圧が上昇し、この信号
により、フアン14が駆動されるとともに、ガスバーナ５
にガス燃料を供給するための開閉弁13が開かれて、直接
接触式温水ヒータ２の運転が開始される。
温度検出器44によつて検出される温度が前記予め定める
第１の温度になるように、流量制御弁37の開度が制御さ
れ、この検出温度が高くなつたとき、流量制御弁37の弁
開度が大きくされる。これとは逆に、温度検出手段44の
検出温度が低いときには、流量制御弁37が絞られ、した
がつて水供給端10からの水の流量が小さくなり、そのた
め水膜15を形成して流下する水が途切れる恐れがある。
この問題を解決するために、温度検出手段48によつて検
出される温度が前記予め定める第２の値未満となつたと
きには、電磁弁33を開く。これによつて下層域の取出し
孔29だけでなく、上層域の取出し孔31からの水もポンプ
35で循環管34に導かれ、循環管34に供給される水の温度
が、上昇することになる。そのため温度検出手段44によ
つて検出される温度が前記予め定める第１の値となるよ
うにするために必要な流量制御弁37の弁開度が大きくな
り、水供給端10からの水の流量が増大される。こうして
温水ヒータ２において、燃焼ガスによつて吸熱材７およ
び筒状本体４の内周面が異常に高い温度に過熱されるこ
とが防がれるとともに、上層域の水温を速やかに第１温
度に加熱することができる。
第１の温度になるように、流量制御弁37の開度が制御さ
れ、この検出温度が高くなつたとき、流量制御弁37の弁
開度が大きくされる。これとは逆に、温度検出手段44の
検出温度が低いときには、流量制御弁37が絞られ、した
がつて水供給端10からの水の流量が小さくなり、そのた
め水膜15を形成して流下する水が途切れる恐れがある。
この問題を解決するために、温度検出手段48によつて検
出される温度が前記予め定める第２の値未満となつたと
きには、電磁弁33を開く。これによつて下層域の取出し
孔29だけでなく、上層域の取出し孔31からの水もポンプ
35で循環管34に導かれ、循環管34に供給される水の温度
が、上昇することになる。そのため温度検出手段44によ
つて検出される温度が前記予め定める第１の値となるよ
うにするために必要な流量制御弁37の弁開度が大きくな
り、水供給端10からの水の流量が増大される。こうして
温水ヒータ２において、燃焼ガスによつて吸熱材７およ
び筒状本体４の内周面が異常に高い温度に過熱されるこ
とが防がれるとともに、上層域の水温を速やかに第１温
度に加熱することができる。
温度検出手段48によつて検出される温度が前記予め定め
る第２の値未満であるときには、電磁弁33を閉じ、水取
出し孔29からの比較的低い温度を有する水のみを循環管
34に供給して、水供給管10から落下させ、こうして高効
率で、水を温水ヒータ２で加熱することができる。
る第２の値未満であるときには、電磁弁33を閉じ、水取
出し孔29からの比較的低い温度を有する水のみを循環管
34に供給して、水供給管10から落下させ、こうして高効
率で、水を温水ヒータ２で加熱することができる。
考案の効果 以上のように本考案によれば、貯湯槽内を上層域、中層
域および下層域に分けて温水を貯湯することができ、こ
れによつて高温の上層域の温水を給湯することができ
る。また、加熱循環装置に供給する温水を、下層域の温
水の温度が低いときには、上層域と下層域とから供給で
きるので、加熱循環装置に供給する温水量を増やし、直
接接触式温水ヒータなどの加熱手段の過熱を防ぎ、上層
域の温水の温度を速やかに規定温度に加熱できる。
域および下層域に分けて温水を貯湯することができ、こ
れによつて高温の上層域の温水を給湯することができ
る。また、加熱循環装置に供給する温水を、下層域の温
水の温度が低いときには、上層域と下層域とから供給で
きるので、加熱循環装置に供給する温水量を増やし、直
接接触式温水ヒータなどの加熱手段の過熱を防ぎ、上層
域の温水の温度を速やかに規定温度に加熱できる。
第１図は本考案の一実施例の断面図、第２図は直接接触
式温水ヒータ２の底16付近の一部の断面図、第３図は温
度検出手段44,48に関連する構成を示すブロツク図であ
る。 １……ケーシング、２……直接接触式温水ヒータ、３…
…貯湯槽、４……本体、５……ガスバーナ、６……燃焼
層、８……吸熱層、10……水供給端、20……水供給孔、
21……給水管、24……給湯管、25……温水取出し孔、28
……水栓、29,31……水取出し孔、33……開閉弁、34…
…循環管、35……ポンプ、36……圧力検出手段、37……
流量制御弁、40,41……整流板、44,48……温度検出手段
式温水ヒータ２の底16付近の一部の断面図、第３図は温
度検出手段44,48に関連する構成を示すブロツク図であ
る。 １……ケーシング、２……直接接触式温水ヒータ、３…
…貯湯槽、４……本体、５……ガスバーナ、６……燃焼
層、８……吸熱層、10……水供給端、20……水供給孔、
21……給水管、24……給湯管、25……温水取出し孔、28
……水栓、29,31……水取出し孔、33……開閉弁、34…
…循環管、35……ポンプ、36……圧力検出手段、37……
流量制御弁、40,41……整流板、44,48……温度検出手段
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)考案者 大塚 正治 長野県上水内郡豊野町大字大倉2358番１号 (72)考案者 原 純夫 長野県飯山市大字飯山3321 (56)参考文献 実開 昭56−175662（ＪＰ，Ｕ) 実開 昭62−184350（ＪＰ，Ｕ)
Claims (1)
- 【請求項１】温水を上層域、中層域および下層域に分け
て貯留する貯湯槽と、 上層域から開閉弁を介し、または下層域から直接温水を
吸引し、上層域に加熱温水を供給する加熱循環装置と、 下層域に水位調整弁を介して水を供給する給水管と、 上層域から温水を取出す給湯管と、 上層域と中層域および中層域と下層域の境界にそれぞれ
配置され、下層域から中層域および中層域から上層域へ
の温水の流れを層流とするための整流板と、 前記開閉弁が下層域の温水温度がある一定の温度以下の
ときに開くように制御する処理装置とを含むことを特徴
とする貯湯式給湯装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1988139862U JPH0740929Y2 (ja) | 1988-10-26 | 1988-10-26 | 貯湯式給湯装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1988139862U JPH0740929Y2 (ja) | 1988-10-26 | 1988-10-26 | 貯湯式給湯装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0262356U JPH0262356U (ja) | 1990-05-09 |
| JPH0740929Y2 true JPH0740929Y2 (ja) | 1995-09-20 |
Family
ID=31403514
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP1988139862U Expired - Fee Related JPH0740929Y2 (ja) | 1988-10-26 | 1988-10-26 | 貯湯式給湯装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0740929Y2 (ja) |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2012026601A (ja) * | 2010-07-21 | 2012-02-09 | Orion Machinery Co Ltd | 貯湯タンクおよび貯湯式温水器 |
Family Cites Families (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS56175662U (ja) * | 1980-05-29 | 1981-12-25 | ||
| JPS62184350U (ja) * | 1986-05-14 | 1987-11-24 |
-
1988
- 1988-10-26 JP JP1988139862U patent/JPH0740929Y2/ja not_active Expired - Fee Related
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0262356U (ja) | 1990-05-09 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |