JPH0739204B2 - 薄膜印刷方法 - Google Patents
薄膜印刷方法Info
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- JPH0739204B2 JPH0739204B2 JP1153123A JP15312389A JPH0739204B2 JP H0739204 B2 JPH0739204 B2 JP H0739204B2 JP 1153123 A JP1153123 A JP 1153123A JP 15312389 A JP15312389 A JP 15312389A JP H0739204 B2 JPH0739204 B2 JP H0739204B2
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- Japan
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- thin film
- printing method
- plate
- film printing
- ink
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Description
本発明は薄膜印刷方法に関するものであり、さらに詳し
くは電子部品に用いられる薄膜を均一で正確な膜厚をも
って容易に所望のパターン形状に印刷形成することを目
的とするものである。
くは電子部品に用いられる薄膜を均一で正確な膜厚をも
って容易に所望のパターン形状に印刷形成することを目
的とするものである。
近年、半導体素子の絶縁被膜や液晶表示素子の配向膜な
ど、種々の電子部品に高分子薄膜や金属酸化物薄膜が必
要とされ用いられている。一般にこれらの薄膜には厚さ
0.01〜0.3μｍのものを形成して使用されるが、その膜
厚の均一性、パターン形状寸法精度は厳しく要求されて
いる。 従来、前記薄膜を形成する方法としては印刷による方法
が考えられている（たとえば特開昭55−37314号公報参
照）。この方法は平版オフセット印刷に用いるオフセッ
ト校正機を用いて凸版を設けたブラケット胴によってガ
ラス板などの表面が平滑な被印刷体の上に高分子溶液を
印刷インキとして用い、高分子薄膜を印刷形成する方法
である。
ど、種々の電子部品に高分子薄膜や金属酸化物薄膜が必
要とされ用いられている。一般にこれらの薄膜には厚さ
0.01〜0.3μｍのものを形成して使用されるが、その膜
厚の均一性、パターン形状寸法精度は厳しく要求されて
いる。 従来、前記薄膜を形成する方法としては印刷による方法
が考えられている（たとえば特開昭55−37314号公報参
照）。この方法は平版オフセット印刷に用いるオフセッ
ト校正機を用いて凸版を設けたブラケット胴によってガ
ラス板などの表面が平滑な被印刷体の上に高分子溶液を
印刷インキとして用い、高分子薄膜を印刷形成する方法
である。
しかし、この方法によれば次のような欠点がある。すな
わち、この目的に用いられる高分子溶液は粘度が10〜20
00cpsの非常に低粘度な溶液であるからオフセット校正
機を用いて印刷するに際しては十分均一な膜厚が得られ
にくい。また、求める厚みの薄膜を安定して印刷するこ
とが困難であった。なぜなら、オフセット校正機におい
てはインキを練り、展色するのにロール練り方法が用い
られるが、一般のオフセット印刷用インキに比べて非常
に低粘度で粘着性の少ない高分子溶液を用いるため均一
に練られず、またロール間のギャップよりインキが流れ
出すため展色を均一にすることができない。さらにロー
ルへインキを定量的に一定して供給することが困難であ
り、よって定量的に安定した展色を行うことができない
からである。
わち、この目的に用いられる高分子溶液は粘度が10〜20
00cpsの非常に低粘度な溶液であるからオフセット校正
機を用いて印刷するに際しては十分均一な膜厚が得られ
にくい。また、求める厚みの薄膜を安定して印刷するこ
とが困難であった。なぜなら、オフセット校正機におい
てはインキを練り、展色するのにロール練り方法が用い
られるが、一般のオフセット印刷用インキに比べて非常
に低粘度で粘着性の少ない高分子溶液を用いるため均一
に練られず、またロール間のギャップよりインキが流れ
出すため展色を均一にすることができない。さらにロー
ルへインキを定量的に一定して供給することが困難であ
り、よって定量的に安定した展色を行うことができない
からである。
本発明者らはかかる従来法における膜厚の均一化および
定量化、安定化の問題点を解消するために種々の研究考
察を重ねた結果、本発明を完成するに至ったものであ
る。すなわち本発明は、深さが３〜50μｍ、開口部の平
均径が１〜500μｍ、開口部面積が１〜80％、1cm2当り
の小孔の合計凹部容積が0.05〜5mm3、小孔間の平均最短
距離が10〜2000μｍであるような小孔群を全面にまたは
必要部分に設けた凹版に、粘度が10〜2000cpsの樹脂ま
たは樹脂前駆体と溶剤とからなるインキあるいは加熱に
より金属酸化物を形成するような金属化合物を含むイン
キを充填した後、平滑頂面を有する凸版を側面に設けた
版胴と前記凹版表面とを圧接し、前記インキを前記凸版
表面に転移し、その後前記版胴と被印刷体表面とを圧接
し、被印刷体表面に薄膜を形成することを特徴とする薄
膜印刷方法である。 以下、本発明を図面に基づいてさらに詳しく説明する。 第１図、第２図および第３図は本発明にかかる薄膜印刷
方法の各工程を示す模式断面図である。１は小孔、２は
凹版、３は凸版、４は版胴、５は被印刷体、６は薄膜を
それぞれ示す。 まず、薄膜６を形成するための低粘度の樹脂または樹脂
前駆体と溶剤とからなるインキを凹版２に充填する。使
用するインキは比較的低粘度のものであり、その粘度は
10〜2000cpsのものを用いる。 使用できる樹脂または樹脂前駆体とは、熱可塑性樹脂ま
たは熱硬化性樹脂前駆体をさす。熱硬化性および光硬化
性樹脂の硬化樹脂前駆体としては、フェノール樹脂、メ
ラミン樹脂、尿素樹脂、イソシアヌレート樹脂、不飽和
ポリエステル樹脂、アルキド樹脂、エポキシ樹脂、ウレ
タン樹脂、シリコン樹脂、架橋ポリエチレンおよび未加
硫ゴムなどがある。熱可塑性樹脂としては、ポリエステ
ル、ポリアミド、ポリイミド、ポリ塩化ビニル、ポリ塩
化ビニリデン、ポリ酢酸ビニル、ポリスチレン、ポリビ
ニルピリドン、ポリビニルアルコール、ポリビニルブチ
ラール、ポリカーボネート、ポリスルホン、ポリエーテ
ルエステル、ポリエーテルスルホン、ポリアクリレー
ト、ポリメチルメタアクリレートなどがある。 以上のような樹脂および樹脂前駆体あるいはそれらの混
合物が本発明において使用できるものであるが、インキ
の粘度が特定されていることから、溶剤に溶液化し得る
目的からして、あまり高分子量のものは不適当であり、
インキ化し得る程度のオリゴマーまたはポリマーを採用
しなければならない。 また、加熱により金属酸化物を形成するような金属化合
物としては、カドミウム、インジウム、スズもしくはア
ンチモンなどの単独または２種以上の鉱酸塩、ハロゲン
化物、酸化物などの無機化合物あるいは有機酸塩、アル
コキシ化合物、有機キレート化合物またはこれらの混合
物を使用することができる。 凹版２はその表面全面にまたは必要部分に多数の小孔１
を有するものである（第１図参照）。この小孔１群は印
刷業界においてはセルと呼ばれるもので、その一個の形
状は逆ピラミッド型など、配列の種類は格子型、斜線型
などがあるので適宜選択する。 小孔１の深さは３〜50μｍ、開口部の平均径が１〜500
μｍ、開口部面積が１〜80％、1cm2当りの合計凹部容積
が0.05〜5mm3、小孔１間の平均最短距離が10〜2000μｍ
である。このような特定は均一な厚さの薄膜６を形成す
るためになされるものである。すなわち前記各範囲より
大きい値の小孔１であれば凹版２に充填されるインキ量
が多すぎるため、凸版３が被印刷体５表面に圧接する際
に凸版３の周囲にインキがはみ出し、その結果、被印刷
体５表面に形成される薄膜６の厚さが一定にならない。
また、小孔１が前記範囲より小さいものであれば、充填
され転移されるインキの量が少なすぎるため、被印刷体
５表面には各小孔１より転移されたインキが各々独立し
て転移される傾向があり、連続した均一な厚さの薄膜６
を形成できない。したがって、前記各範囲の小孔１が形
成された凹版２を用いると均一な薄膜６を形成すること
ができる。 小孔１の深さ、開口部の平均径、開口部面積、小孔１の
合計凹部容積、小孔１間の平均最短距離を適宜設けた凹
版２を選択使用することによって、形成する薄膜６の厚
さを調節することができる。また、形成する薄膜６がパ
ターン状のものであれば、そのパターンと対応した必要
な部分に小孔１群が形成される。さらに、小孔１の深
さ、開口部の平均径、開口部面積の少なくとも１つが部
分的に異なるような凹版２を使用すれば、部分的に異な
る厚さに設計された薄膜６を印刷することができる。な
お、インキを凹版２に充填するに際しては、ドクターな
どを用いるとより正確な分量のインキを供給することが
できる。 なお、凹版２には小孔１群の代わりに適宜な長さの溝群
を設けたものを用いてもよい。この場合、溝の深さは３
〜50μｍ、開口部の平均幅が１〜500μｍ、開口部面積
が５〜80％、1cm2当りの合計凹部容積が0.05〜5mm3、溝
間の平均距離が１〜1000μｍである。 次に版胴４を前記凹版２表面に圧接する（第２図参
照）。版胴４の側面には凸版３が設けられている。この
凸版３はたとえば、ブチルゴムなどのゴムまたはナイロ
ン系樹脂などの樹脂よりなる。あるいは感光性樹脂また
は感光性ゴムよりなるものでもよい。表面粗さはJIS規
格Rz50μｍ以上の平滑性が好ましい。凸版３は形成しよ
うとする薄膜６のパターンを呈するように構成される
が、前記凹版２の小孔１群がパターン状に形成されてい
る場合は必ずしも該パターンと同一のものでなくともよ
い。なお、凸版３の厚さは、0.3〜2.0mm程度が好まし
い。 この圧接によって凸版３表面にインキが転移する。その
後版胴４をガラス板などの被印刷体５表面に圧接するこ
とにより、被印刷体５表面に薄膜６が形成される（第３
図参照）。 本発明は以上のような薄膜印刷方法であるから、凹版２
へのインキの充填が、低粘度のインキであっても、正確
に安定して行うことができるため均一な厚さの薄膜６を
容易に形成でき、正確な膜厚を安定して得ることができ
る。また、所望のパターン形状の寸法精度も正確に得る
ことができるものである。したがって、種々の電子部品
の薄膜６を形成するのに広く利用されることが期待され
る。
定量化、安定化の問題点を解消するために種々の研究考
察を重ねた結果、本発明を完成するに至ったものであ
る。すなわち本発明は、深さが３〜50μｍ、開口部の平
均径が１〜500μｍ、開口部面積が１〜80％、1cm2当り
の小孔の合計凹部容積が0.05〜5mm3、小孔間の平均最短
距離が10〜2000μｍであるような小孔群を全面にまたは
必要部分に設けた凹版に、粘度が10〜2000cpsの樹脂ま
たは樹脂前駆体と溶剤とからなるインキあるいは加熱に
より金属酸化物を形成するような金属化合物を含むイン
キを充填した後、平滑頂面を有する凸版を側面に設けた
版胴と前記凹版表面とを圧接し、前記インキを前記凸版
表面に転移し、その後前記版胴と被印刷体表面とを圧接
し、被印刷体表面に薄膜を形成することを特徴とする薄
膜印刷方法である。 以下、本発明を図面に基づいてさらに詳しく説明する。 第１図、第２図および第３図は本発明にかかる薄膜印刷
方法の各工程を示す模式断面図である。１は小孔、２は
凹版、３は凸版、４は版胴、５は被印刷体、６は薄膜を
それぞれ示す。 まず、薄膜６を形成するための低粘度の樹脂または樹脂
前駆体と溶剤とからなるインキを凹版２に充填する。使
用するインキは比較的低粘度のものであり、その粘度は
10〜2000cpsのものを用いる。 使用できる樹脂または樹脂前駆体とは、熱可塑性樹脂ま
たは熱硬化性樹脂前駆体をさす。熱硬化性および光硬化
性樹脂の硬化樹脂前駆体としては、フェノール樹脂、メ
ラミン樹脂、尿素樹脂、イソシアヌレート樹脂、不飽和
ポリエステル樹脂、アルキド樹脂、エポキシ樹脂、ウレ
タン樹脂、シリコン樹脂、架橋ポリエチレンおよび未加
硫ゴムなどがある。熱可塑性樹脂としては、ポリエステ
ル、ポリアミド、ポリイミド、ポリ塩化ビニル、ポリ塩
化ビニリデン、ポリ酢酸ビニル、ポリスチレン、ポリビ
ニルピリドン、ポリビニルアルコール、ポリビニルブチ
ラール、ポリカーボネート、ポリスルホン、ポリエーテ
ルエステル、ポリエーテルスルホン、ポリアクリレー
ト、ポリメチルメタアクリレートなどがある。 以上のような樹脂および樹脂前駆体あるいはそれらの混
合物が本発明において使用できるものであるが、インキ
の粘度が特定されていることから、溶剤に溶液化し得る
目的からして、あまり高分子量のものは不適当であり、
インキ化し得る程度のオリゴマーまたはポリマーを採用
しなければならない。 また、加熱により金属酸化物を形成するような金属化合
物としては、カドミウム、インジウム、スズもしくはア
ンチモンなどの単独または２種以上の鉱酸塩、ハロゲン
化物、酸化物などの無機化合物あるいは有機酸塩、アル
コキシ化合物、有機キレート化合物またはこれらの混合
物を使用することができる。 凹版２はその表面全面にまたは必要部分に多数の小孔１
を有するものである（第１図参照）。この小孔１群は印
刷業界においてはセルと呼ばれるもので、その一個の形
状は逆ピラミッド型など、配列の種類は格子型、斜線型
などがあるので適宜選択する。 小孔１の深さは３〜50μｍ、開口部の平均径が１〜500
μｍ、開口部面積が１〜80％、1cm2当りの合計凹部容積
が0.05〜5mm3、小孔１間の平均最短距離が10〜2000μｍ
である。このような特定は均一な厚さの薄膜６を形成す
るためになされるものである。すなわち前記各範囲より
大きい値の小孔１であれば凹版２に充填されるインキ量
が多すぎるため、凸版３が被印刷体５表面に圧接する際
に凸版３の周囲にインキがはみ出し、その結果、被印刷
体５表面に形成される薄膜６の厚さが一定にならない。
また、小孔１が前記範囲より小さいものであれば、充填
され転移されるインキの量が少なすぎるため、被印刷体
５表面には各小孔１より転移されたインキが各々独立し
て転移される傾向があり、連続した均一な厚さの薄膜６
を形成できない。したがって、前記各範囲の小孔１が形
成された凹版２を用いると均一な薄膜６を形成すること
ができる。 小孔１の深さ、開口部の平均径、開口部面積、小孔１の
合計凹部容積、小孔１間の平均最短距離を適宜設けた凹
版２を選択使用することによって、形成する薄膜６の厚
さを調節することができる。また、形成する薄膜６がパ
ターン状のものであれば、そのパターンと対応した必要
な部分に小孔１群が形成される。さらに、小孔１の深
さ、開口部の平均径、開口部面積の少なくとも１つが部
分的に異なるような凹版２を使用すれば、部分的に異な
る厚さに設計された薄膜６を印刷することができる。な
お、インキを凹版２に充填するに際しては、ドクターな
どを用いるとより正確な分量のインキを供給することが
できる。 なお、凹版２には小孔１群の代わりに適宜な長さの溝群
を設けたものを用いてもよい。この場合、溝の深さは３
〜50μｍ、開口部の平均幅が１〜500μｍ、開口部面積
が５〜80％、1cm2当りの合計凹部容積が0.05〜5mm3、溝
間の平均距離が１〜1000μｍである。 次に版胴４を前記凹版２表面に圧接する（第２図参
照）。版胴４の側面には凸版３が設けられている。この
凸版３はたとえば、ブチルゴムなどのゴムまたはナイロ
ン系樹脂などの樹脂よりなる。あるいは感光性樹脂また
は感光性ゴムよりなるものでもよい。表面粗さはJIS規
格Rz50μｍ以上の平滑性が好ましい。凸版３は形成しよ
うとする薄膜６のパターンを呈するように構成される
が、前記凹版２の小孔１群がパターン状に形成されてい
る場合は必ずしも該パターンと同一のものでなくともよ
い。なお、凸版３の厚さは、0.3〜2.0mm程度が好まし
い。 この圧接によって凸版３表面にインキが転移する。その
後版胴４をガラス板などの被印刷体５表面に圧接するこ
とにより、被印刷体５表面に薄膜６が形成される（第３
図参照）。 本発明は以上のような薄膜印刷方法であるから、凹版２
へのインキの充填が、低粘度のインキであっても、正確
に安定して行うことができるため均一な厚さの薄膜６を
容易に形成でき、正確な膜厚を安定して得ることができ
る。また、所望のパターン形状の寸法精度も正確に得る
ことができるものである。したがって、種々の電子部品
の薄膜６を形成するのに広く利用されることが期待され
る。
以下本発明の実施例を説明する。 実施例１ 東レ（株）製セミコファインSP−510（商品名）をＮメ
チル−２−ピロリドンで希釈し、樹脂分８％、粘度80cp
sとしたものをインキとして用い、凹版としては、深度3
5μｍ、開口部平均径60μｍ、開口部面積10％、1cm2当
りの凹部容積約0.2mm3となる小孔群を全面に有するグラ
ビア版を用いた。その小孔群にインキを充填し、表面を
鋼製のドクター刃で余分のインキをかき取った後、表面
平滑な凸部を有するブチルゴム製の版胴を圧接して凸部
の頂部に高分子溶液を定量転移し、この凸部を被印刷物
である液晶表示用のガラス板表面に圧接して凸部パター
ン通りの高分子薄膜を印刷し、加熱乾燥の後イミド化の
ため熱処理を行った。 できあがったポリイミド膜の膜厚は0.07〜0.08μｍの範
囲で十分に均一であり、液晶パネルとして組み立てた後
特性テストおよび強制寿命テストを行った結果、液晶配
向膜としては極めて優秀なものであることがわかった。 実施例２ 東レ（株）製セミコファインSP−710（商品名）をＮメ
チル−２−ピロリドンで希釈し、樹脂分５％、粘度25cp
sとしたものをインキとして用い、凹版としては、深度3
0μｍ、開口部平均径および開口部面積がそれぞれ40μ
ｍ・4.5％、60μｍ・10.0％、80μｍ・17.5％、1cm2当
りの凹部容積がそれぞれ約0.1mm3、約0.2mm3、約0.35mm
3である３種の小孔群を必要部分に設けたものを用い
た。その３種の小孔群にインキを充填し、表面を鋼製の
ドクター刃で余分の高分子溶液をかき取った後、表面平
滑な凸部を有するゴム系感光性凸版、旭化成（株）製AP
R・Ｋ−50（商品名）を貼付した版胴を圧接して凸部の
頂部に３種の小孔群より各容積に応じたインキを転移
し、この凸部を被印刷物である液晶表示用のガラス板表
面に圧接して凸部パターンどおりの厚みの異なる３種の
高分子薄膜を印刷し、加熱乾燥の後イミド化のため熱処
理を行った。 できあがったポリイミド膜の膜厚は、それぞれ0.03〜0.
04μｍ、0.05〜0.06μｍ、0.08〜0.09μｍの３種の膜厚
が必要部分に各々十分に均一に作製できており、液晶パ
ネルとして組み立てた後、性能テストを行った結果、１
枚の液晶パネルの中で配向膜の膜厚に応じて駆動電圧の
異なる３種類の特性を有する表示板を得ることができ
た。 実施例３ 凹版として実施例１と同一条件において被印刷物の液晶
表示用ガラス板に形成された透明電極パターンと同一の
パターンの有するナイロン系感光性凸版、東レ（株）製
トレリーフLF−95N（商品名）を作製し、実施例１と同
等のインキを用いて同様の手段にて液晶表示用ガラス板
に形成された透明電極上にのみ見当を合わして印刷し、
加熱乾燥の後イミド化のため熱処理を行った。 できあがった透明電極の上にのみ形成されたポリイミド
膜は、膜厚0.07〜0.08μｍの範囲で十分に均一であり、
液晶パネルとして組み立てた後、品質評価を行った結
果、極めて優秀なものであることが確認できた。
チル−２−ピロリドンで希釈し、樹脂分８％、粘度80cp
sとしたものをインキとして用い、凹版としては、深度3
5μｍ、開口部平均径60μｍ、開口部面積10％、1cm2当
りの凹部容積約0.2mm3となる小孔群を全面に有するグラ
ビア版を用いた。その小孔群にインキを充填し、表面を
鋼製のドクター刃で余分のインキをかき取った後、表面
平滑な凸部を有するブチルゴム製の版胴を圧接して凸部
の頂部に高分子溶液を定量転移し、この凸部を被印刷物
である液晶表示用のガラス板表面に圧接して凸部パター
ン通りの高分子薄膜を印刷し、加熱乾燥の後イミド化の
ため熱処理を行った。 できあがったポリイミド膜の膜厚は0.07〜0.08μｍの範
囲で十分に均一であり、液晶パネルとして組み立てた後
特性テストおよび強制寿命テストを行った結果、液晶配
向膜としては極めて優秀なものであることがわかった。 実施例２ 東レ（株）製セミコファインSP−710（商品名）をＮメ
チル−２−ピロリドンで希釈し、樹脂分５％、粘度25cp
sとしたものをインキとして用い、凹版としては、深度3
0μｍ、開口部平均径および開口部面積がそれぞれ40μ
ｍ・4.5％、60μｍ・10.0％、80μｍ・17.5％、1cm2当
りの凹部容積がそれぞれ約0.1mm3、約0.2mm3、約0.35mm
3である３種の小孔群を必要部分に設けたものを用い
た。その３種の小孔群にインキを充填し、表面を鋼製の
ドクター刃で余分の高分子溶液をかき取った後、表面平
滑な凸部を有するゴム系感光性凸版、旭化成（株）製AP
R・Ｋ−50（商品名）を貼付した版胴を圧接して凸部の
頂部に３種の小孔群より各容積に応じたインキを転移
し、この凸部を被印刷物である液晶表示用のガラス板表
面に圧接して凸部パターンどおりの厚みの異なる３種の
高分子薄膜を印刷し、加熱乾燥の後イミド化のため熱処
理を行った。 できあがったポリイミド膜の膜厚は、それぞれ0.03〜0.
04μｍ、0.05〜0.06μｍ、0.08〜0.09μｍの３種の膜厚
が必要部分に各々十分に均一に作製できており、液晶パ
ネルとして組み立てた後、性能テストを行った結果、１
枚の液晶パネルの中で配向膜の膜厚に応じて駆動電圧の
異なる３種類の特性を有する表示板を得ることができ
た。 実施例３ 凹版として実施例１と同一条件において被印刷物の液晶
表示用ガラス板に形成された透明電極パターンと同一の
パターンの有するナイロン系感光性凸版、東レ（株）製
トレリーフLF−95N（商品名）を作製し、実施例１と同
等のインキを用いて同様の手段にて液晶表示用ガラス板
に形成された透明電極上にのみ見当を合わして印刷し、
加熱乾燥の後イミド化のため熱処理を行った。 できあがった透明電極の上にのみ形成されたポリイミド
膜は、膜厚0.07〜0.08μｍの範囲で十分に均一であり、
液晶パネルとして組み立てた後、品質評価を行った結
果、極めて優秀なものであることが確認できた。
第１図、第２図および第３図は本発明にかかる薄膜印刷
方法の各工程を示す模式断面図である。 １……小孔、２……凹版、３……凸版、４……版胴、５
……被印刷体、６……薄膜。
方法の各工程を示す模式断面図である。 １……小孔、２……凹版、３……凸版、４……版胴、５
……被印刷体、６……薄膜。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (56)参考文献 特開 昭55−37314（ＪＰ，Ａ) 特開 昭53−82513（ＪＰ，Ａ) 特開 昭57−115389（ＪＰ，Ａ) 特公 昭51−14708（ＪＰ，Ｂ１)
Claims (7)
- 【請求項１】深さが３〜50μｍ、開口部の平均径が１〜
500μｍ、開口部面積が１〜80％、1cm2当りの小孔の合
計凹部容積が0.05〜5mm3、小孔間の平均最短距離が10〜
2000μｍであるような小孔群を全面にまたは必要部分に
設けた凹板に、粘度が10〜2000cpsの樹脂または樹脂前
駆体と溶剤とからなるインキあるいは加熱により金属酸
化物を形成するような金属化合物を含むインキを充填し
た後、平滑頂面を有する凸版を側面に設けた版胴と前記
凹版表面とを圧接し、前記インキを前記凸版表面に転移
し、その後前記版胴と被印刷体表面とを圧接し、被印刷
体表面に薄膜を形成することを特徴とする薄膜印刷方
法。 - 【請求項２】小孔の深さ、開口部の平均径、開口部面
積、単位面積当りの小孔の合計凹部容積、小孔間の平均
最短距離の少なくとも１つが部分的に異なるような小孔
群を設けた凹版を用いることを特徴とする特許請求の範
囲第１項記載の薄膜印刷方法。 - 【請求項３】版胴の側面に設けた凸版がブチルゴムより
なることを特徴とする特許請求の範囲第１項記載の薄膜
印刷方法。 - 【請求項４】版胴の側面に設けた凸版がナイロン系樹脂
よりなることを特徴とする特許請求の範囲第１項記載の
薄膜印刷方法。 - 【請求項５】版胴の側面に設けた凸版が感光性樹脂より
なることを特徴とする特許請求の範囲第１項記載の薄膜
印刷方法。 - 【請求項６】版胴の側面に設けた凸版が感光性ゴムより
なることを特徴とする特許請求の範囲第１項記載の薄膜
印刷方法。 - 【請求項７】深さが３〜50μｍ、開口部の平均幅が１〜
500μｍ、開口部面積が５〜80％、1cm2当りの溝の合計
凹部容積が0.05〜5mm3、溝間の平均距離が１〜1000μｍ
であるような溝群を設けた凹版を用いることを特徴とす
る特許請求の範囲第１項記載の薄膜印刷方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1153123A JPH0739204B2 (ja) | 1989-06-15 | 1989-06-15 | 薄膜印刷方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1153123A JPH0739204B2 (ja) | 1989-06-15 | 1989-06-15 | 薄膜印刷方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0236978A JPH0236978A (ja) | 1990-02-06 |
| JPH0739204B2 true JPH0739204B2 (ja) | 1995-05-01 |
Family
ID=15555483
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP1153123A Expired - Lifetime JPH0739204B2 (ja) | 1989-06-15 | 1989-06-15 | 薄膜印刷方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0739204B2 (ja) |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP6135159B2 (ja) * | 2013-02-06 | 2017-05-31 | 凸版印刷株式会社 | 凸版印刷装置及び有機ｅｌ素子形成方法 |
Family Cites Families (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5114708A (ja) * | 1974-07-26 | 1976-02-05 | Wakachiku Constr | Suiheikutsusakuyogurabubaketsuto |
| JPS5382513A (en) * | 1976-12-27 | 1978-07-21 | Toppan Printing Co Ltd | Thick film printing method |
| JPS5537314A (en) * | 1978-09-08 | 1980-03-15 | Hitachi Ltd | Method of forming high molecular organic thin film |
| JPS57115389A (en) * | 1981-01-09 | 1982-07-17 | Micro Gijutsu Kenkyusho:Kk | Printing method for minute pattern |
-
1989
- 1989-06-15 JP JP1153123A patent/JPH0739204B2/ja not_active Expired - Lifetime
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0236978A (ja) | 1990-02-06 |
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