JPH0775907B2 - 印刷方法 - Google Patents
印刷方法Info
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- JPH0775907B2 JPH0775907B2 JP23394989A JP23394989A JPH0775907B2 JP H0775907 B2 JPH0775907 B2 JP H0775907B2 JP 23394989 A JP23394989 A JP 23394989A JP 23394989 A JP23394989 A JP 23394989A JP H0775907 B2 JPH0775907 B2 JP H0775907B2
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Description
この発明は、銅貼基板の銅箔やガラス基板上のITOなど
の各種薄膜のエッチングレジストなど平滑なインキ皮膜
を形成することのできる印刷方法に関するものである。
の各種薄膜のエッチングレジストなど平滑なインキ皮膜
を形成することのできる印刷方法に関するものである。
一般に、硬質の被印刷体に薄膜の印刷を行う方法として
は平版オフセット印刷法が知られている。平版オフセッ
ト印刷法では、使用可能なインキが湿し水とあまり乳化
せず、版に忠実に転移することが要求される。したがっ
て、この方法に用いることのできるインキは80,000〜10
0,000c.p.s.の高粘度を有するインキに限定され、しか
も形成された皮膜は平滑性が乏しいものであった。 そのため、たとえば液晶配向膜や液晶封入用シールなど
に用いる数10〜30,000c.p.s.の低粘度のインキを用いて
平滑性に優れた皮膜を形成することは、平版オフセット
印刷法ではできなかった。 そこで本出願人は、さきに第３図に示すような薄膜形成
装置を提供している（実開昭58−170864号）。この装置
は、多数の小孔や溝からなる凹部を有する平板状凹版12
と被印刷体13とを基台11上に並べて載置する一方、数10
〜30,000c.p.s.の粘度を有するインキを凹版12の凹部に
充填するインキ供給装置（図示せず）とゴムや樹脂から
なる弾性凸版14aを備えた印刷ロール14とを有する印刷
ロール支持枠15を、凹版12と被印刷体13との間で基台11
に移動自在に備えるとともに、印刷ロール支持枠15に凹
版12の凹部に充填されたインキのうち余分なインキを凹
版12からかき落とすドクター16を備えるように構成して
いる。 この装置においては、インキ供給装置から凹版12の凹部
にインキを供給してドクター16で余分なインキをかき落
としたのち、印刷ロール14を凹版12に圧接させつつ回転
させて、印刷ロール14に備えられた弾性凸版14aの表面
に凹版12の凹部のインキを付着させ、インキの付着した
印刷ロール14を被印刷体13上に搬送して印刷ロール14を
回転させつつ弾性凸版14aのインキを被印刷体13の表面
に転移して所定パターンを形成するようにしたものであ
る。 また、本出願人は、印刷ロール14に一定量のインキを供
給する凹版12を平板状ではなく、円筒体として構成した
薄膜形成装置も提供している（特開昭62−202736号）。
は平版オフセット印刷法が知られている。平版オフセッ
ト印刷法では、使用可能なインキが湿し水とあまり乳化
せず、版に忠実に転移することが要求される。したがっ
て、この方法に用いることのできるインキは80,000〜10
0,000c.p.s.の高粘度を有するインキに限定され、しか
も形成された皮膜は平滑性が乏しいものであった。 そのため、たとえば液晶配向膜や液晶封入用シールなど
に用いる数10〜30,000c.p.s.の低粘度のインキを用いて
平滑性に優れた皮膜を形成することは、平版オフセット
印刷法ではできなかった。 そこで本出願人は、さきに第３図に示すような薄膜形成
装置を提供している（実開昭58−170864号）。この装置
は、多数の小孔や溝からなる凹部を有する平板状凹版12
と被印刷体13とを基台11上に並べて載置する一方、数10
〜30,000c.p.s.の粘度を有するインキを凹版12の凹部に
充填するインキ供給装置（図示せず）とゴムや樹脂から
なる弾性凸版14aを備えた印刷ロール14とを有する印刷
ロール支持枠15を、凹版12と被印刷体13との間で基台11
に移動自在に備えるとともに、印刷ロール支持枠15に凹
版12の凹部に充填されたインキのうち余分なインキを凹
版12からかき落とすドクター16を備えるように構成して
いる。 この装置においては、インキ供給装置から凹版12の凹部
にインキを供給してドクター16で余分なインキをかき落
としたのち、印刷ロール14を凹版12に圧接させつつ回転
させて、印刷ロール14に備えられた弾性凸版14aの表面
に凹版12の凹部のインキを付着させ、インキの付着した
印刷ロール14を被印刷体13上に搬送して印刷ロール14を
回転させつつ弾性凸版14aのインキを被印刷体13の表面
に転移して所定パターンを形成するようにしたものであ
る。 また、本出願人は、印刷ロール14に一定量のインキを供
給する凹版12を平板状ではなく、円筒体として構成した
薄膜形成装置も提供している（特開昭62−202736号）。
しかし、これらの薄膜形成装置による印刷方法において
は、厚さが１μｍ以上の平滑な皮膜を形成することが困
難であった。なぜなら、１回当りのインキ転移量に限界
があり、多量のインキを均一性よく被印刷体に付着させ
ることができないからである。また、被印刷体の材質や
表面状態によってはインキの付着性が乏しく、ハジキ・
ピンホールなどの欠陥が薄膜に生じた。また、顔料など
の各種粉体を分散したインキは流動性・レベリング性・
転移性に乏しく、平滑な皮膜に形成することは困難であ
った。しかも、各種粉体を分散したインキは、分散物の
濃度が高いほどチキソトロピックとなり平滑な皮膜とす
ることが困難になり、反対に分散物の濃度を下げると所
定の機能が得られなくなる。また、高濃度インキは印刷
膜厚を大きくできるが粘度が高くなる傾向があり、その
場合にはドクターによってインキを計量することが困難
となってくる。 したがって、この発明の目的は、上記のような問題を解
決することにあり、厚さが１μｍ以上の厚くて平滑なイ
ンキ皮膜を形成することのできる印刷方法を提供するこ
とにある。
は、厚さが１μｍ以上の平滑な皮膜を形成することが困
難であった。なぜなら、１回当りのインキ転移量に限界
があり、多量のインキを均一性よく被印刷体に付着させ
ることができないからである。また、被印刷体の材質や
表面状態によってはインキの付着性が乏しく、ハジキ・
ピンホールなどの欠陥が薄膜に生じた。また、顔料など
の各種粉体を分散したインキは流動性・レベリング性・
転移性に乏しく、平滑な皮膜に形成することは困難であ
った。しかも、各種粉体を分散したインキは、分散物の
濃度が高いほどチキソトロピックとなり平滑な皮膜とす
ることが困難になり、反対に分散物の濃度を下げると所
定の機能が得られなくなる。また、高濃度インキは印刷
膜厚を大きくできるが粘度が高くなる傾向があり、その
場合にはドクターによってインキを計量することが困難
となってくる。 したがって、この発明の目的は、上記のような問題を解
決することにあり、厚さが１μｍ以上の厚くて平滑なイ
ンキ皮膜を形成することのできる印刷方法を提供するこ
とにある。
上記の目的を達成するために、この発明の印刷方法は、
凹版に充填したインキを胴表面に樹脂またはゴムからな
る弾性体を設けた印刷ロールを介して被印刷体上へ第１
回目の印刷を行った後、再び凹版から印刷ロールを介し
て同一の被印刷体上に形成済みの第１回目のインキ皮膜
上へ第２回目のインキを刷り重ねるように構成したもの
である。 この発明を、図面を参照しながらさらに詳しく説明す
る。第１図は、この発明の印刷方法に用いることのでき
る印刷装置の一実施例を示す斜視図である。１は被印刷
体、２は凹版、３は凹部、４は印刷ロール、５は凸部を
それぞれ示す。 まず、インキが凹版２の凹部３に供給され、凹版２の凹
部３内に一定量のインキが充填・保持される。 続いて、凹版２と印刷ロール４とが接触し、凹版２の凹
部３内に充填されたインキが印刷ロール４の凸部５に転
移する。印刷ロール４は形成される皮膜のパターンに対
応した形状の凸部５を有している。 さらに、印刷ロール４が回転しながら被印刷体１に圧接
し、印刷ロール４の凸部５上のインキが被印刷体１上に
転移する。 続いて、凹版２にインキが供給され、再び前記と同様に
して同一の被印刷体１にインキ皮膜が重ねて形成され
る。 第１回目の印刷に用いるインキとしては、金属、顔料、
染料またはフィラーなどの粉体からなる被分散物を含ま
ない粘度が30〜100c.p.s.で固形分濃度が10％以下の低
濃度ワニスやビヒクルなどを使用し、0.05μｍ前後の膜
厚で印刷したときがマージナルゾーンや液ダレなどが少
なくなり、機上安定性もよい。したがって、インキ容量
の小さなアロニックスロールなどの凹版２とある程度低
濃度のインキとを使用するとよい。低粘度のインキとイ
ンキ容量の大きい凹版２とを組み合わせると液ダレや泳
ぎが著しくなり、高粘度のインキとインキ容量の小さい
凹版２とを組み合わせるとマージナルゾーンやピンホー
ル、凹版２のスクリーン目の痕跡が著しくなってしま
う。しかも、高粘度インキは固形分濃度が高く乾きやす
いので機上安定性が低く、印刷中に粘度上昇を起こすこ
とがある。 第２回目の印刷は、第１回目の印刷で使用した印刷ロー
ル４を再び用いることが、印刷精度と経済性の上で好ま
しい。また、同一あるいは同系統のインキとするのか好
ましい。また、インキ中に被分散物を含んでいてもよ
い。また、第２回目の印刷に用いるインキの固形分濃度
は、第１回目の印刷に用いるインキの固形分濃度以上と
するとよい。 第２回目の印刷に用いる凹版２としては、第１回目の印
刷に用いたものと同じもの、あるいはインキ容量の大き
なものが好ましい。凹版２が同じものであれば、凹版２
のコストや交換の手間を省くことができる。また、凹版
２のインキ容量を大きくすれば、１回当りの印刷膜厚を
大きくすることができ、より厚い皮膜を形成することが
できる。 被印刷体１表面においては、被印刷体１の上へ直接印刷
する場合と、インキ乾燥後皮膜が形成されている被印刷
体１上に印刷する場合では、後者の方がインキの転移率
が高くなる場合が多く、同系統あるいは同一のインキを
選択して積層する方が転移率がより高くなり好ましい。
また、インキの受容性が高いのでハジキやピンホールの
発生が減少するとともに転移性が向上するので、インキ
の版離れがよく均一にインキが転移し、したがって皮膜
の平滑性が向上する。 また、インキ皮膜の凹凸をより平滑にするために、以上
に述べたように２回印刷を行うだけでなく、３回以上印
刷を行うようにしてもよい。また、複数の印刷機を直列
に配置し、必要に応じて中間に乾燥機を設置するインラ
イン形式を採用してもよい。 このようにして、被印刷体１表面に重ね刷りが行われ、
表面が平滑でパターンのエッジがきれいな皮膜が形成さ
れる。
凹版に充填したインキを胴表面に樹脂またはゴムからな
る弾性体を設けた印刷ロールを介して被印刷体上へ第１
回目の印刷を行った後、再び凹版から印刷ロールを介し
て同一の被印刷体上に形成済みの第１回目のインキ皮膜
上へ第２回目のインキを刷り重ねるように構成したもの
である。 この発明を、図面を参照しながらさらに詳しく説明す
る。第１図は、この発明の印刷方法に用いることのでき
る印刷装置の一実施例を示す斜視図である。１は被印刷
体、２は凹版、３は凹部、４は印刷ロール、５は凸部を
それぞれ示す。 まず、インキが凹版２の凹部３に供給され、凹版２の凹
部３内に一定量のインキが充填・保持される。 続いて、凹版２と印刷ロール４とが接触し、凹版２の凹
部３内に充填されたインキが印刷ロール４の凸部５に転
移する。印刷ロール４は形成される皮膜のパターンに対
応した形状の凸部５を有している。 さらに、印刷ロール４が回転しながら被印刷体１に圧接
し、印刷ロール４の凸部５上のインキが被印刷体１上に
転移する。 続いて、凹版２にインキが供給され、再び前記と同様に
して同一の被印刷体１にインキ皮膜が重ねて形成され
る。 第１回目の印刷に用いるインキとしては、金属、顔料、
染料またはフィラーなどの粉体からなる被分散物を含ま
ない粘度が30〜100c.p.s.で固形分濃度が10％以下の低
濃度ワニスやビヒクルなどを使用し、0.05μｍ前後の膜
厚で印刷したときがマージナルゾーンや液ダレなどが少
なくなり、機上安定性もよい。したがって、インキ容量
の小さなアロニックスロールなどの凹版２とある程度低
濃度のインキとを使用するとよい。低粘度のインキとイ
ンキ容量の大きい凹版２とを組み合わせると液ダレや泳
ぎが著しくなり、高粘度のインキとインキ容量の小さい
凹版２とを組み合わせるとマージナルゾーンやピンホー
ル、凹版２のスクリーン目の痕跡が著しくなってしま
う。しかも、高粘度インキは固形分濃度が高く乾きやす
いので機上安定性が低く、印刷中に粘度上昇を起こすこ
とがある。 第２回目の印刷は、第１回目の印刷で使用した印刷ロー
ル４を再び用いることが、印刷精度と経済性の上で好ま
しい。また、同一あるいは同系統のインキとするのか好
ましい。また、インキ中に被分散物を含んでいてもよ
い。また、第２回目の印刷に用いるインキの固形分濃度
は、第１回目の印刷に用いるインキの固形分濃度以上と
するとよい。 第２回目の印刷に用いる凹版２としては、第１回目の印
刷に用いたものと同じもの、あるいはインキ容量の大き
なものが好ましい。凹版２が同じものであれば、凹版２
のコストや交換の手間を省くことができる。また、凹版
２のインキ容量を大きくすれば、１回当りの印刷膜厚を
大きくすることができ、より厚い皮膜を形成することが
できる。 被印刷体１表面においては、被印刷体１の上へ直接印刷
する場合と、インキ乾燥後皮膜が形成されている被印刷
体１上に印刷する場合では、後者の方がインキの転移率
が高くなる場合が多く、同系統あるいは同一のインキを
選択して積層する方が転移率がより高くなり好ましい。
また、インキの受容性が高いのでハジキやピンホールの
発生が減少するとともに転移性が向上するので、インキ
の版離れがよく均一にインキが転移し、したがって皮膜
の平滑性が向上する。 また、インキ皮膜の凹凸をより平滑にするために、以上
に述べたように２回印刷を行うだけでなく、３回以上印
刷を行うようにしてもよい。また、複数の印刷機を直列
に配置し、必要に応じて中間に乾燥機を設置するインラ
イン形式を採用してもよい。 このようにして、被印刷体１表面に重ね刷りが行われ、
表面が平滑でパターンのエッジがきれいな皮膜が形成さ
れる。
この発明の印刷方法は、凹版に充填したインキを胴表面
に樹脂またはゴムからなる弾性体を設けた印刷ロールを
介して被印刷体上へ第１回目の印刷を行った後、再び凹
版から印刷ロールを介して同一の被印刷体上に形成済み
の第１回目のインキ皮膜上へ第２回目のインキを刷り重
ねるように構成されている。 したがって、１回で厚みの大きい皮膜を形成するのでは
なく、第１回目の印刷で精度の高い薄い皮膜が形成さ
れ、次にこの上に第１回目の印刷のインキ以上の固定分
濃度を有するインキがピンホール、ハジキ、パターンエ
ッジ部の著しいマージナルゾーンや液ダレなどが発生す
ることなく転移性よく厚く印刷される。 印刷したインキを乾燥あるいは硬化させることにより、
被印刷体１上に１μｍ以上の厚く平滑でエッジ状態に優
れた皮膜を形成することができる。
に樹脂またはゴムからなる弾性体を設けた印刷ロールを
介して被印刷体上へ第１回目の印刷を行った後、再び凹
版から印刷ロールを介して同一の被印刷体上に形成済み
の第１回目のインキ皮膜上へ第２回目のインキを刷り重
ねるように構成されている。 したがって、１回で厚みの大きい皮膜を形成するのでは
なく、第１回目の印刷で精度の高い薄い皮膜が形成さ
れ、次にこの上に第１回目の印刷のインキ以上の固定分
濃度を有するインキがピンホール、ハジキ、パターンエ
ッジ部の著しいマージナルゾーンや液ダレなどが発生す
ることなく転移性よく厚く印刷される。 印刷したインキを乾燥あるいは硬化させることにより、
被印刷体１上に１μｍ以上の厚く平滑でエッジ状態に優
れた皮膜を形成することができる。
実施例１ 第１回目の印刷に用いるインキ容量が小さな凹版として
300線／インチのピラミッド型セルを形成したアニロッ
クスロールを、第２回目の印刷に用いるインキ容量が大
きな凹版として100線／インチのピラミッド型セルを形
成したアニロックスロールを用いた。印刷ロールの凸部
としては、パターンサイズ250×200mm角の感光性樹脂凸
版を用いた。被印刷体としては、300×300×1.1mmのソ
ーダライムガラス基板を用いた。インキとしては、固形
分濃度15重量％・粘度70c.p.s.のポリアミック酸溶液を
使用した。 まず、第１回目の印刷に用いる凹版を使用してインキを
ガラス基板に印刷し、ホットプレートにて80℃で５分間
乾燥したところ、厚さ0.3μｍの指触乾燥皮膜を得た。 次に、凹版を第２回目の印刷に用いる凹版に交換し、第
１回目の印刷の乾燥皮膜に重ねて同じインキを印刷し
た。乾燥後、300℃で30分間クリーンオーブンにて加熱
硬化させた。 この結果、1.1μｍ厚で高低差0.1μｍの平滑性に優れた
ポリイミド樹脂皮膜を得た（第２図ａ参照）。 比較例として、上記実施例の第１回目の印刷を省略して
ガラス基板上へ直接第２回目の印刷のみを行ったとこ
ろ、平均膜厚0.7μｍ、高低差0.4μｍの凹凸を有する表
面のざらついたポリイミド樹脂皮膜を得た。皮膜のエッ
ジ部には著しいマージナルゾーンが形成された（第２図
ｂ参照）。 実施例２ 第１回目の印刷に用いる凹版として単線スクリーンでス
クリーンピッチ0.1mm・凹部深度５μｍ・凹凸比7:3のも
のを、第２回目の印刷に用いる凹版として単線スクリー
ンでスクリーンピッチ0.3mm・凹部深度20μｍ・凹凸比2
7:3のものを用いた。印刷ロールの凸部としては、パタ
ーンサイズ250×200mm角の感光性樹脂凸版を用いた。被
印刷体としては、300×300×1.1mmのソーダライムガラ
ス基板を用いた。第１回目の印刷に用いるインキとして
は固形分濃度5.0重量％・粘度70c.p.s.のポリアミック
酸溶液を、第２回目の印刷に用いるインキとしては固形
分濃度18.0重量％・粘度1,100c.p.sのポリアミック酸溶
液に有機顔料のファストバイオレット／フタロシアニン
ブルー＝1/10に混合したものを８重量％加え分散させて
ブルーに着色したもの（粘度18,000c.p.s.）を使用し
た。 まず、第１回目の印刷に用いる凹版を使用して第１回目
の印刷に用いるインキをガラス基板に印刷し、ホットプ
レートにて80℃で５分間乾燥したところ、厚さ0.1μｍ
の指触乾燥皮膜を得た。 次に、凹版を第２回目の印刷に用いる凹版に交換し、第
１回目の印刷の乾燥皮膜に重ねて第２回目の印刷に用い
るインキを印刷した。乾燥後、窒素雰囲気中、300℃で3
0分間クリーンオーブンにて加熱硬化させた。 この結果、1.2μｍ厚で高低差0.15μｍの平滑性に優れ
た色純度の高い青色のポリイミド樹脂皮膜を得た。 比較例として、上記実施例の第１回目の印刷を省略して
ガラス基板上へ直接第２回目の印刷のみを行ったとこ
ろ、平均膜厚0.7μｍ、高低差0.5μｍの凹凸を有する表
面のざらついたポリイミド樹脂皮膜を得た。エッジ部の
マージナルゾーンや皮膜の薄い部分は色濃度が不十分で
色純度も低いものであった。 実施例３ 第１回目の印刷に用いる凹版として単線スクリーンでス
クリーンピッチ0.1mm・凹部深度5.0μｍ・凹凸比7:3の
ものを、第２回目の印刷に用いる凹版として単線スクリ
ーンでスクリーンピッチ0.3mm・凹部深度20μｍ・凹凸
比27:3のものを用いた。印刷ロールの凸部としては、パ
ターンサイズ345×345mm角のブチルゴム彫刻凸版を用い
た。被印刷体としては、300×300×1.1mmのITO透明導電
膜付ソーダライムガラス基板を用いた。第１回目の印刷
に用いるインキとしてはポジ型フォトレジスト（50c.p.
s.）２重量部をエチルカルビトールアセテート１重量部
を加えて希釈したものを、第２回目の印刷に用いるイン
キとしてはポジ型フォトレジスタ（50c.p.s.）を使用し
た。 まず、第１回目の印刷に用いる凹版を使用してセーフテ
ィライト下で第１回目の印刷に用いるインキをガラス基
板に印刷し、ホットプレートにて90℃で30分間乾燥した
ところ、厚さ0.2μｍの指触乾燥皮膜を得た。 次いで、凹版を第２回目の印刷に用いる凹版に交換し、
第１回目の印刷の乾燥皮膜に重ねて第２回目の印刷に用
いるインキを印刷した。乾燥後90℃で30分間クリーンオ
ーブンにて加熱硬化させた。この結果、1.0μｍ厚で高
低差0.04μｍの平滑性に優れたレジスト皮膜を得た。 次に、マスクアライナーとガラスマスクを用いて密着パ
ターン露光を行った後、現像してレジストパターン層を
形成した。次に、塩化第２鉄／塩酸系エッチング液にて
エッチング後、レジスト層を剥離したところ、直線性の
良好なITOパターンを得た。 比較例として、上記実施例の第１回目の印刷を省略して
ガラス基板上へ直接２回目の印刷のみを行ったところ、
平均膜厚0.6μｍ、高低差0.5μｍの凹凸を有する表面の
ざらついたレジスト皮膜を得た。実施例と同じマスクを
使用し、露光・現像・エッチングを行ったところ、得ら
れたITOパターンは直線性に欠けたギザギザのものとな
り、ところどころピンホールが発生したものであった。
300線／インチのピラミッド型セルを形成したアニロッ
クスロールを、第２回目の印刷に用いるインキ容量が大
きな凹版として100線／インチのピラミッド型セルを形
成したアニロックスロールを用いた。印刷ロールの凸部
としては、パターンサイズ250×200mm角の感光性樹脂凸
版を用いた。被印刷体としては、300×300×1.1mmのソ
ーダライムガラス基板を用いた。インキとしては、固形
分濃度15重量％・粘度70c.p.s.のポリアミック酸溶液を
使用した。 まず、第１回目の印刷に用いる凹版を使用してインキを
ガラス基板に印刷し、ホットプレートにて80℃で５分間
乾燥したところ、厚さ0.3μｍの指触乾燥皮膜を得た。 次に、凹版を第２回目の印刷に用いる凹版に交換し、第
１回目の印刷の乾燥皮膜に重ねて同じインキを印刷し
た。乾燥後、300℃で30分間クリーンオーブンにて加熱
硬化させた。 この結果、1.1μｍ厚で高低差0.1μｍの平滑性に優れた
ポリイミド樹脂皮膜を得た（第２図ａ参照）。 比較例として、上記実施例の第１回目の印刷を省略して
ガラス基板上へ直接第２回目の印刷のみを行ったとこ
ろ、平均膜厚0.7μｍ、高低差0.4μｍの凹凸を有する表
面のざらついたポリイミド樹脂皮膜を得た。皮膜のエッ
ジ部には著しいマージナルゾーンが形成された（第２図
ｂ参照）。 実施例２ 第１回目の印刷に用いる凹版として単線スクリーンでス
クリーンピッチ0.1mm・凹部深度５μｍ・凹凸比7:3のも
のを、第２回目の印刷に用いる凹版として単線スクリー
ンでスクリーンピッチ0.3mm・凹部深度20μｍ・凹凸比2
7:3のものを用いた。印刷ロールの凸部としては、パタ
ーンサイズ250×200mm角の感光性樹脂凸版を用いた。被
印刷体としては、300×300×1.1mmのソーダライムガラ
ス基板を用いた。第１回目の印刷に用いるインキとして
は固形分濃度5.0重量％・粘度70c.p.s.のポリアミック
酸溶液を、第２回目の印刷に用いるインキとしては固形
分濃度18.0重量％・粘度1,100c.p.sのポリアミック酸溶
液に有機顔料のファストバイオレット／フタロシアニン
ブルー＝1/10に混合したものを８重量％加え分散させて
ブルーに着色したもの（粘度18,000c.p.s.）を使用し
た。 まず、第１回目の印刷に用いる凹版を使用して第１回目
の印刷に用いるインキをガラス基板に印刷し、ホットプ
レートにて80℃で５分間乾燥したところ、厚さ0.1μｍ
の指触乾燥皮膜を得た。 次に、凹版を第２回目の印刷に用いる凹版に交換し、第
１回目の印刷の乾燥皮膜に重ねて第２回目の印刷に用い
るインキを印刷した。乾燥後、窒素雰囲気中、300℃で3
0分間クリーンオーブンにて加熱硬化させた。 この結果、1.2μｍ厚で高低差0.15μｍの平滑性に優れ
た色純度の高い青色のポリイミド樹脂皮膜を得た。 比較例として、上記実施例の第１回目の印刷を省略して
ガラス基板上へ直接第２回目の印刷のみを行ったとこ
ろ、平均膜厚0.7μｍ、高低差0.5μｍの凹凸を有する表
面のざらついたポリイミド樹脂皮膜を得た。エッジ部の
マージナルゾーンや皮膜の薄い部分は色濃度が不十分で
色純度も低いものであった。 実施例３ 第１回目の印刷に用いる凹版として単線スクリーンでス
クリーンピッチ0.1mm・凹部深度5.0μｍ・凹凸比7:3の
ものを、第２回目の印刷に用いる凹版として単線スクリ
ーンでスクリーンピッチ0.3mm・凹部深度20μｍ・凹凸
比27:3のものを用いた。印刷ロールの凸部としては、パ
ターンサイズ345×345mm角のブチルゴム彫刻凸版を用い
た。被印刷体としては、300×300×1.1mmのITO透明導電
膜付ソーダライムガラス基板を用いた。第１回目の印刷
に用いるインキとしてはポジ型フォトレジスト（50c.p.
s.）２重量部をエチルカルビトールアセテート１重量部
を加えて希釈したものを、第２回目の印刷に用いるイン
キとしてはポジ型フォトレジスタ（50c.p.s.）を使用し
た。 まず、第１回目の印刷に用いる凹版を使用してセーフテ
ィライト下で第１回目の印刷に用いるインキをガラス基
板に印刷し、ホットプレートにて90℃で30分間乾燥した
ところ、厚さ0.2μｍの指触乾燥皮膜を得た。 次いで、凹版を第２回目の印刷に用いる凹版に交換し、
第１回目の印刷の乾燥皮膜に重ねて第２回目の印刷に用
いるインキを印刷した。乾燥後90℃で30分間クリーンオ
ーブンにて加熱硬化させた。この結果、1.0μｍ厚で高
低差0.04μｍの平滑性に優れたレジスト皮膜を得た。 次に、マスクアライナーとガラスマスクを用いて密着パ
ターン露光を行った後、現像してレジストパターン層を
形成した。次に、塩化第２鉄／塩酸系エッチング液にて
エッチング後、レジスト層を剥離したところ、直線性の
良好なITOパターンを得た。 比較例として、上記実施例の第１回目の印刷を省略して
ガラス基板上へ直接２回目の印刷のみを行ったところ、
平均膜厚0.6μｍ、高低差0.5μｍの凹凸を有する表面の
ざらついたレジスト皮膜を得た。実施例と同じマスクを
使用し、露光・現像・エッチングを行ったところ、得ら
れたITOパターンは直線性に欠けたギザギザのものとな
り、ところどころピンホールが発生したものであった。
この発明の印刷方法は、凹版に充填したインキを胴表面
に樹脂またはゴムからなる弾性体を設けた印刷ロールを
介して被印刷体上へ第１回目の印刷を行った後、再び凹
版から印刷ロールを介して同一の被印刷体上に形成済み
の第１回目のインキ皮膜上へ第２回目のインキを刷り重
ねるように構成されている。 このように、インキの印刷を２回以上に分け先に上記の
固形分濃度のインキで薄膜を形成しておくことにより、
後に印刷するインキの転移性が向上し、印刷１回当りの
転移量が増加し、またハジキやピンホールの発生が減少
し、皮膜の平滑性の向上、マージナルゾーンの軽減が実
現され、厚さが１μｍ以上の厚くて平滑なインキ皮膜を
形成することができる。
に樹脂またはゴムからなる弾性体を設けた印刷ロールを
介して被印刷体上へ第１回目の印刷を行った後、再び凹
版から印刷ロールを介して同一の被印刷体上に形成済み
の第１回目のインキ皮膜上へ第２回目のインキを刷り重
ねるように構成されている。 このように、インキの印刷を２回以上に分け先に上記の
固形分濃度のインキで薄膜を形成しておくことにより、
後に印刷するインキの転移性が向上し、印刷１回当りの
転移量が増加し、またハジキやピンホールの発生が減少
し、皮膜の平滑性の向上、マージナルゾーンの軽減が実
現され、厚さが１μｍ以上の厚くて平滑なインキ皮膜を
形成することができる。
第１図は、この発明の印刷方法に用いることのできる印
刷装置の一実施例を示す斜視図である。第２図は、この
発明の印刷方法によって形成された皮膜の一実施例と比
較例を示す断面図である。第３図は、従来の印刷装置を
示す断面図である。 １……被印刷体、２……凹版、３……凹部、４……印刷
ロール、５……凸部、11……基板、12……凹版、13……
被印刷体、14……印刷ロール、14a……弾性凸版、15…
…支持枠、16……ドクター。
刷装置の一実施例を示す斜視図である。第２図は、この
発明の印刷方法によって形成された皮膜の一実施例と比
較例を示す断面図である。第３図は、従来の印刷装置を
示す断面図である。 １……被印刷体、２……凹版、３……凹部、４……印刷
ロール、５……凸部、11……基板、12……凹版、13……
被印刷体、14……印刷ロール、14a……弾性凸版、15…
…支持枠、16……ドクター。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 庁内整理番号 ＦＩ 技術表示箇所 Ｈ０１Ｌ 21/31 Ｈ０５Ｋ 3/06 Ｆ 3/12 Ｚ 7511−4Ｅ
Claims (5)
- 【請求項１】凹版に充填したインキを胴表面に樹脂また
はゴムからなる弾性体を設けた印刷ロールを介して被印
刷体上へ第１回目の印刷を行った後、再び凹版から印刷
ロールを介して同一の被印刷体上に形成済みの第１回目
のインキ皮膜上へ第２回目のインキを刷り重ねることを
特徴とする印刷方法。 - 【請求項２】第１回目に印刷されるインキの固形分濃度
が第２回目に印刷されるインキの固形分濃度以下である
請求項１記載の印刷方法。 - 【請求項３】第１回目の印刷に使用する凹版のインキ容
量が、第２回目の印刷に使用する凹版のインキ容量以下
である請求項１または２記載の印刷方法。 - 【請求項４】第１回目に印刷するインキと第２回目に印
刷するインキが、同じ系統のビヒクルからなるものであ
る請求項１記載の印刷方法。 - 【請求項５】第１回目に印刷するインキが、金属、顔
料、染料またはフィラーからなる被分散物を含まないワ
ニスまたはビヒクルである請求項１記載の印刷方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP23394989A JPH0775907B2 (ja) | 1989-09-09 | 1989-09-09 | 印刷方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP23394989A JPH0775907B2 (ja) | 1989-09-09 | 1989-09-09 | 印刷方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0396385A JPH0396385A (ja) | 1991-04-22 |
| JPH0775907B2 true JPH0775907B2 (ja) | 1995-08-16 |
Family
ID=16963147
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP23394989A Expired - Lifetime JPH0775907B2 (ja) | 1989-09-09 | 1989-09-09 | 印刷方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0775907B2 (ja) |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| DE10146912A1 (de) | 2001-09-24 | 2003-04-10 | Giesecke & Devrient Gmbh | Verfahren zur Individualisierung von Sicherheitsdokumenten und entsprechendes Sicherheitsdokument |
-
1989
- 1989-09-09 JP JP23394989A patent/JPH0775907B2/ja not_active Expired - Lifetime
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0396385A (ja) | 1991-04-22 |
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