JPH0737437B2 - 新規な含硫芳香族(メタ)アクリレ−ト - Google Patents
新規な含硫芳香族(メタ)アクリレ−トInfo
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- JPH0737437B2 JPH0737437B2 JP15147687A JP15147687A JPH0737437B2 JP H0737437 B2 JPH0737437 B2 JP H0737437B2 JP 15147687 A JP15147687 A JP 15147687A JP 15147687 A JP15147687 A JP 15147687A JP H0737437 B2 JPH0737437 B2 JP H0737437B2
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- diacrylate
- xylylenedithiol
- benzenedithiol
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- Addition Polymer Or Copolymer, Post-Treatments, Or Chemical Modifications (AREA)
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Description
【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は、アクリル樹脂もしくはメタクリル樹脂の原料
として有用な新規な含硫芳香族(メタ)アクリレートに
関する。
として有用な新規な含硫芳香族(メタ)アクリレートに
関する。
エチレングリコールジアクリレート、ジエチレングリコ
ールジメタクリレートは、ポリアクリレートやポリメタ
クリレート樹脂の改質、すなわち架橋に利用されてい
る。
ールジメタクリレートは、ポリアクリレートやポリメタ
クリレート樹脂の改質、すなわち架橋に利用されてい
る。
本発明者らは、アクリル樹脂やメタクリル樹脂をレンズ
用などの光学部品用の樹脂として利用することを研究し
ているが、二官能性モノマー類としてエチレングリコー
ルジアクリレートやジエチレングリコールジメタクリレ
ートを用いると高屈折率は望めず、また一官能性モノマ
ーとしてベンゼンチオールアクリレート、β−ナフタレ
ンチオールメタクリレートを他の二官能性モノマー類と
共重合させ得られる樹脂は可視光内での屈折率の分散が
大きく(アッベ数が小さく)利用価値が小さい。
用などの光学部品用の樹脂として利用することを研究し
ているが、二官能性モノマー類としてエチレングリコー
ルジアクリレートやジエチレングリコールジメタクリレ
ートを用いると高屈折率は望めず、また一官能性モノマ
ーとしてベンゼンチオールアクリレート、β−ナフタレ
ンチオールメタクリレートを他の二官能性モノマー類と
共重合させ得られる樹脂は可視光内での屈折率の分散が
大きく(アッベ数が小さく)利用価値が小さい。
本発明者らは、分散を小さく維持しながら屈折率の高度
な樹脂を得るため含硫二官能性モノマーの研究を鋭意行
った。
な樹脂を得るため含硫二官能性モノマーの研究を鋭意行
った。
その結果、含硫芳香族(メタ)アクリレートを用いるこ
とにより、この目的を達成し得ることを見出し、本発明
に到った。
とにより、この目的を達成し得ることを見出し、本発明
に到った。
すなわち、本発明は、アクリル樹脂もしくはメタクリル
樹脂の原料として有用な、新規な一般式(I)で表され
る含硫芳香族(メタ)アクリレートを提供するものであ
る。
樹脂の原料として有用な、新規な一般式(I)で表され
る含硫芳香族(メタ)アクリレートを提供するものであ
る。
一般式(I) (式中、mは0または1の整数を表し、Rは水素または
メチル基を表す。また芳香環の置換基の位置はo−位、
m−位、p−位を表す。) 本発明の新規な含硫芳香族(メタ)アクリレートとは具
体的には、o−キシリレンジチオールジアクリレート、
o−キシリレンジチオールジメタクリレート、m−キシ
リレンジチオールジアクリレート、m−キシリレンジチ
オールジメタクリレート、p−キシリレンジチオールジ
アクリレート、p−キシリレンジチオールジメタクリレ
ート、o−ベンゼンジチオールジアクリレート、o−ベ
ンゼンジチオールジメタクリレート、m−ベンゼンジチ
オールジアクリレート、m−ベンゼンジチオールジメタ
クリレート、p−ベンゼンンジチオールジアクリレート
およびp−ベンゼンジチオールジメタクリレート等が例
示される。
メチル基を表す。また芳香環の置換基の位置はo−位、
m−位、p−位を表す。) 本発明の新規な含硫芳香族(メタ)アクリレートとは具
体的には、o−キシリレンジチオールジアクリレート、
o−キシリレンジチオールジメタクリレート、m−キシ
リレンジチオールジアクリレート、m−キシリレンジチ
オールジメタクリレート、p−キシリレンジチオールジ
アクリレート、p−キシリレンジチオールジメタクリレ
ート、o−ベンゼンジチオールジアクリレート、o−ベ
ンゼンジチオールジメタクリレート、m−ベンゼンジチ
オールジアクリレート、m−ベンゼンジチオールジメタ
クリレート、p−ベンゼンンジチオールジアクリレート
およびp−ベンゼンジチオールジメタクリレート等が例
示される。
これらの化合物はo−キシリレンジチオール、m−キシ
リレンジチオール、p−キシリレンジチオール、o−ベ
ンゼンジチオール、m−ベンゼンジチオールまたはp−
ベンゼンンジチオールとアクリル酸クロライドまたはメ
タクリル酸クロライドとを、溶媒中で塩酸捕集剤の存在
下でエステル化反応を行うことにより得られる。
リレンジチオール、p−キシリレンジチオール、o−ベ
ンゼンジチオール、m−ベンゼンジチオールまたはp−
ベンゼンンジチオールとアクリル酸クロライドまたはメ
タクリル酸クロライドとを、溶媒中で塩酸捕集剤の存在
下でエステル化反応を行うことにより得られる。
すなわち、合成反応は溶媒、たとえばヘキサン、ベンゼ
ン、トルエン、クロロホルムなどのような原料類と反応
性を有しない溶媒中、原料のo−キシリレンジチオー
ル、m−キシリレンジチオール、p−キシリレンジチオ
ール、o−ベンゼンジチオール、m−ベンゼンジチオー
ルまたはp−ベンゼンンジチオール1モルに対してアク
リル酸クロライドまたはメタクリル酸クロライド2〜2.
5モルを加え反応液温を−10℃〜30℃、好ましくは−10
℃〜0℃に保ちトリエチルアミンのような塩酸捕集剤を
加えて反応を進める。反応終了後、反応液を希アルカリ
水溶液、次いで水で洗浄し溶媒を留去して、本発明の含
硫芳香族(メタ)アクリレートを得ることができる。
ン、トルエン、クロロホルムなどのような原料類と反応
性を有しない溶媒中、原料のo−キシリレンジチオー
ル、m−キシリレンジチオール、p−キシリレンジチオ
ール、o−ベンゼンジチオール、m−ベンゼンジチオー
ルまたはp−ベンゼンンジチオール1モルに対してアク
リル酸クロライドまたはメタクリル酸クロライド2〜2.
5モルを加え反応液温を−10℃〜30℃、好ましくは−10
℃〜0℃に保ちトリエチルアミンのような塩酸捕集剤を
加えて反応を進める。反応終了後、反応液を希アルカリ
水溶液、次いで水で洗浄し溶媒を留去して、本発明の含
硫芳香族(メタ)アクリレートを得ることができる。
本発明の含硫芳香族(メタ)アクリレートは単独または
ジエチレングリコールジメタクリレート、エチレングリ
コールジメタクリレートなどの不飽和カルボン酸エステ
ルとともに、加熱重合させることにより従来のジエチレ
ングリコールジアクリレートやエチレングリコールジア
クリレートを用いた樹脂に比べ高度のアッベ数を維持し
ながら高い屈折率を有する含硫アクリル樹脂または含硫
メタクリル樹脂を得ることができ、光学部品用に有用で
ある。
ジエチレングリコールジメタクリレート、エチレングリ
コールジメタクリレートなどの不飽和カルボン酸エステ
ルとともに、加熱重合させることにより従来のジエチレ
ングリコールジアクリレートやエチレングリコールジア
クリレートを用いた樹脂に比べ高度のアッベ数を維持し
ながら高い屈折率を有する含硫アクリル樹脂または含硫
メタクリル樹脂を得ることができ、光学部品用に有用で
ある。
以下、実施例を示す。実施例中の部は重量部を示す。
実施例1 m−キシリレンジチオール11.1部、クロロホルム200
部、アクリル酸クロライド13.6部を混合し反応液温−5
℃に保ちながらトリエチルアミン15.4部を15分かけて滴
下した。滴下終了後、5%炭酸水素ナトリウム水溶液で
洗浄した後、水洗浄しクロロホルム層を濃縮した。濃縮
物はクロマトグラム法で精製して、無色のシロップ状の
m−キシリレンジチオールジアクリレート2.7部を得
た。
部、アクリル酸クロライド13.6部を混合し反応液温−5
℃に保ちながらトリエチルアミン15.4部を15分かけて滴
下した。滴下終了後、5%炭酸水素ナトリウム水溶液で
洗浄した後、水洗浄しクロロホルム層を濃縮した。濃縮
物はクロマトグラム法で精製して、無色のシロップ状の
m−キシリレンジチオールジアクリレート2.7部を得
た。
C H S 元素分析値(%) 59.71 4.76 22.10 計算値(%) 60.40 5.07 23.03 (C14H14O2S2として) NMRδCDCL3 実施例2 p−ベンゼンンジチオール9.2部、クロロホルム200部、
アクリル酸クロライド13.6部を混合し反応液温−10℃に
保ちながらトリエチルアミン15.4部を10分かけて滴下し
た。滴下終了後、5%炭酸水素ナトリウム水溶液で洗浄
した後、水洗浄しクロロホルム層を濃縮した。濃縮物は
クロマトグラム法で精製して、無色のシロップ状のp−
ベンゼンジチオールジアクリレート1.6部を得た。融点
は66〜68℃であった。
アクリル酸クロライド13.6部を混合し反応液温−10℃に
保ちながらトリエチルアミン15.4部を10分かけて滴下し
た。滴下終了後、5%炭酸水素ナトリウム水溶液で洗浄
した後、水洗浄しクロロホルム層を濃縮した。濃縮物は
クロマトグラム法で精製して、無色のシロップ状のp−
ベンゼンジチオールジアクリレート1.6部を得た。融点
は66〜68℃であった。
C H S 元素分析値(%) 57.57 3.71 25.02 計算値(%) 57.58 4.03 25.62 (C12H10O2S3として) NMRCDCL3 実施例3 実施例1のm−キシリレンジチオール11.1部をp−キシ
リレンジチオール11.1部に代える以外は実施例1と同様
に行い無色固体のp−キシリレンジチオールジアクリレ
ート3.1部を得た。融点は43〜44℃であった。
リレンジチオール11.1部に代える以外は実施例1と同様
に行い無色固体のp−キシリレンジチオールジアクリレ
ート3.1部を得た。融点は43〜44℃であった。
C H S 元素分析値(%) 60.09 5.26 22.58 計算値(%) 60.40 5.07 23.03 (C14H14O2S2として) NMRδCDCL3 実施例4 実施例2のp−ベンゼンンジチオール9.2部をm−ベン
ゼンンジチオール9.2部に代える以外は実施例2と同様
に行い、無色のシロップ状のm−ベンゼンジチオールジ
アクリレート1.4部を得た。
ゼンンジチオール9.2部に代える以外は実施例2と同様
に行い、無色のシロップ状のm−ベンゼンジチオールジ
アクリレート1.4部を得た。
C H S 元素分析値(%) 57.31 3.84 25.16 計算値(%) 57.58 4.03 25.62 (C12H10O2S2として) NMRδCDCL3 実施例5 実施例1のアクリル酸クロライド13.6部をメタクリル酸
クロライド14.1部に、反応液温−5℃を−10℃に代える
以外は実施例1と同様に行い無色のシロップ状のm−キ
シリレンジチオールジメタクリレート1.2部を得た。
クロライド14.1部に、反応液温−5℃を−10℃に代える
以外は実施例1と同様に行い無色のシロップ状のm−キ
シリレンジチオールジメタクリレート1.2部を得た。
C H S 元素分析値(%) 62.58 5.88 21.01 計算値(%) 62.71 5.92 20.93 (C16H18O2S2として) NMRδCDCL3 実施例6 実施例1のm−キシリレンジチオール11.1部をo−キシ
リレンジチオール11.1部に、アクリル酸クロライド13.6
部をメタクリル酸クロライド14.1部に、反応液温−5℃
を−10℃に代わる以外は実施例1と同様に行い無色のシ
ロップ状のo−キシリレンジチオールジメタクリレート
1.2部を得た。
リレンジチオール11.1部に、アクリル酸クロライド13.6
部をメタクリル酸クロライド14.1部に、反応液温−5℃
を−10℃に代わる以外は実施例1と同様に行い無色のシ
ロップ状のo−キシリレンジチオールジメタクリレート
1.2部を得た。
C H S 元素分析値(%) 62.93 5.80 20.77 計算値(%) 62.71 5.92 20.93 (C16H18O2S2として) NMRδCDCL3 実施例7 実施例2のp−ベンゼンンジチオール9.2部をm−ベン
ゼンンジチオール9.2部に、アクリル酸クロライド13.6
部をメタクリル酸クロライド14.1部に代える以外は実施
例2と同様に行い無色のシロップ状のm−ベンゼンンジ
チオールジアクリレート1.0部を得た。
ゼンンジチオール9.2部に、アクリル酸クロライド13.6
部をメタクリル酸クロライド14.1部に代える以外は実施
例2と同様に行い無色のシロップ状のm−ベンゼンンジ
チオールジアクリレート1.0部を得た。
C H S 元素分析値(%) 60.12 4.96 23.23 計算値(%) 60.40 5.07 23.03 (C14H14O2S2として) NMRδCDCL3 参考例1 m−キシリレンジチオールジアクリレート42部、ジエチ
レングリコールジメタクリレート18部およびラウロイル
パーオキサイド0.01部を混合し均一とした液をガラスモ
ールドとエチレン−酢酸ビニル共重合体からなるガスケ
ットで構成されたモールド型中に注入した。次いで最初
30℃で重合を開始し6時間後に70℃になるように徐々に
温度を上昇させた。更に80℃で2時間重合した後ガスケ
ットおよびモールドから重合体をとり出した。重合体は
更に90℃で2時間重合した。この重合体は屈折率1.59、
アッベ数36であり無色透明で加工性、耐衝撃性も良好で
あった。
レングリコールジメタクリレート18部およびラウロイル
パーオキサイド0.01部を混合し均一とした液をガラスモ
ールドとエチレン−酢酸ビニル共重合体からなるガスケ
ットで構成されたモールド型中に注入した。次いで最初
30℃で重合を開始し6時間後に70℃になるように徐々に
温度を上昇させた。更に80℃で2時間重合した後ガスケ
ットおよびモールドから重合体をとり出した。重合体は
更に90℃で2時間重合した。この重合体は屈折率1.59、
アッベ数36であり無色透明で加工性、耐衝撃性も良好で
あった。
尚、屈折率およびアッベ数はプルリッヒ型屈折率で20℃
で測定した。また加工性は眼鏡レンズ加工用の玉摺り機
で研削し研削面が良好なものを良(○)とし、目づまり
を起こして研削しえないものを不良(×)とし、耐衝撃
性は中心厚が2mmの平板を用いてFDA規格に従って鋼球落
下試験を行ない割れないものを良(○)とした。
で測定した。また加工性は眼鏡レンズ加工用の玉摺り機
で研削し研削面が良好なものを良(○)とし、目づまり
を起こして研削しえないものを不良(×)とし、耐衝撃
性は中心厚が2mmの平板を用いてFDA規格に従って鋼球落
下試験を行ない割れないものを良(○)とした。
参考例2 参考例1のm−キシリレンジチオールジアクリレート42
部とジエチレングリコールジメタクリレート18部をp−
キシリレンジチオールジアクリレート42部とエチレング
リコールジメタクリレート18部に代える以外は参考例1
と同様に行い重合体を得た。
部とジエチレングリコールジメタクリレート18部をp−
キシリレンジチオールジアクリレート42部とエチレング
リコールジメタクリレート18部に代える以外は参考例1
と同様に行い重合体を得た。
参考例3〜4 参考例1のm−キシリレンジチオールジアクリレート42
部とジエチレングリコールジメタクリレート18部をp−
ベンゼンジチオールジアクリレート33部とジエチレング
リコールジメタクリレート27部に、またはm−ベンゼン
ジチオールジアクリレート33部とジエチレングリコール
ジメタクリレート27部にそれぞれ代える以外は参考例1
と同様に行い重合体を得た。
部とジエチレングリコールジメタクリレート18部をp−
ベンゼンジチオールジアクリレート33部とジエチレング
リコールジメタクリレート27部に、またはm−ベンゼン
ジチオールジアクリレート33部とジエチレングリコール
ジメタクリレート27部にそれぞれ代える以外は参考例1
と同様に行い重合体を得た。
参考例5 参考例1のm−キシリレンジチオールジアクリレート42
部とジエチレングリコールジメタクリレート18部をo−
キシリレンジチオールジメタクリレート42部とエチレン
グリコールジメタクリレート18部に代える以外は参考例
1と同様に行い重合体を得た。
部とジエチレングリコールジメタクリレート18部をo−
キシリレンジチオールジメタクリレート42部とエチレン
グリコールジメタクリレート18部に代える以外は参考例
1と同様に行い重合体を得た。
参考例6 参考例1のm−キシリレンジチオールジアクリレート42
部とジエチレングリコールジメタクリレート18部をm−
ベンゼンジチオールジメタクリレート33部とエチレング
リコールジメタクリレート27部に代える以外は参考例1
と同様に行い重合体を得た。
部とジエチレングリコールジメタクリレート18部をm−
ベンゼンジチオールジメタクリレート33部とエチレング
リコールジメタクリレート27部に代える以外は参考例1
と同様に行い重合体を得た。
比較例1 参考例1のm−キシリレンジチオールジアクリレート42
部とジエチレングリコールジメタクリレート18部をジエ
チレングリコールジアクリレート60部単独に代える以外
は参考例1と同様に行い重合体を得た。
部とジエチレングリコールジメタクリレート18部をジエ
チレングリコールジアクリレート60部単独に代える以外
は参考例1と同様に行い重合体を得た。
比較例2 参考例1のm−キシリレンジチオールジアクリレート42
部とジエチレングリコールジメタクリレート18部をベン
ゼンチオールアクリレート30部とエチレングリコールジ
アクリレート30部に、ラウロイルパーオキサイド0.01部
をジクミールパーオキサイド0.01部にそれぞれ代える以
外は参考例1と同様に行い重合体を得た。
部とジエチレングリコールジメタクリレート18部をベン
ゼンチオールアクリレート30部とエチレングリコールジ
アクリレート30部に、ラウロイルパーオキサイド0.01部
をジクミールパーオキサイド0.01部にそれぞれ代える以
外は参考例1と同様に行い重合体を得た。
これらの重合体の屈折率、アッベ数、加工性および耐衝
撃性の試験結果を表1に示す。
撃性の試験結果を表1に示す。
Claims (1)
- 【請求項1】一般式(I) (式中、mは0または1の整数を表し、Rは水素または
メチル基を表す。また芳香環の置換基の位置はo−位、
m−位、p−位を表す。)で表わされる含硫芳香族(メ
タ)アクリレート。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP15147687A JPH0737437B2 (ja) | 1987-06-19 | 1987-06-19 | 新規な含硫芳香族(メタ)アクリレ−ト |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP15147687A JPH0737437B2 (ja) | 1987-06-19 | 1987-06-19 | 新規な含硫芳香族(メタ)アクリレ−ト |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS63316766A JPS63316766A (ja) | 1988-12-26 |
JPH0737437B2 true JPH0737437B2 (ja) | 1995-04-26 |
Family
ID=15519343
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP15147687A Expired - Fee Related JPH0737437B2 (ja) | 1987-06-19 | 1987-06-19 | 新規な含硫芳香族(メタ)アクリレ−ト |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH0737437B2 (ja) |
Families Citing this family (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5247041A (en) * | 1989-02-22 | 1993-09-21 | Toray Industries, Inc. | Thiol methacrylate or acrylate resin obtained by polymerizing a thiol methacrylate or acrylate compound |
FR2734827B1 (fr) * | 1995-05-31 | 1997-07-11 | Essilor Int | Compositions polymerisables a base de monomeres thio (meth)acrylates, polymeres a faible indice de jaune obtenus a partir de telles compositions et lentilles ophtalmiques correspondantes |
EP1629308B1 (en) | 2003-04-17 | 2008-10-08 | Essilor International Compagnie Generale D'optique | Photocurable adhesive composition and its use in the optical field |
CN116355123A (zh) * | 2023-04-06 | 2023-06-30 | 安庆瑞泰化工有限公司 | 光学薄膜用丙烯酸涂层树脂及其制备方法 |
-
1987
- 1987-06-19 JP JP15147687A patent/JPH0737437B2/ja not_active Expired - Fee Related
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPS63316766A (ja) | 1988-12-26 |
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Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |