JPH0737437B2 - 新規な含硫芳香族（メタ）アクリレ−ト - Google Patents
新規な含硫芳香族（メタ）アクリレ−トInfo
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- JPH0737437B2 JPH0737437B2 JP15147687A JP15147687A JPH0737437B2 JP H0737437 B2 JPH0737437 B2 JP H0737437B2 JP 15147687 A JP15147687 A JP 15147687A JP 15147687 A JP15147687 A JP 15147687A JP H0737437 B2 JPH0737437 B2 JP H0737437B2
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- diacrylate
- xylylenedithiol
- benzenedithiol
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- Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は、アクリル樹脂もしくはメタクリル樹脂の原料
として有用な新規な含硫芳香族（メタ）アクリレートに
関する。
として有用な新規な含硫芳香族（メタ）アクリレートに
関する。
エチレングリコールジアクリレート、ジエチレングリコ
ールジメタクリレートは、ポリアクリレートやポリメタ
クリレート樹脂の改質、すなわち架橋に利用されてい
る。
ールジメタクリレートは、ポリアクリレートやポリメタ
クリレート樹脂の改質、すなわち架橋に利用されてい
る。
本発明者らは、アクリル樹脂やメタクリル樹脂をレンズ
用などの光学部品用の樹脂として利用することを研究し
ているが、二官能性モノマー類としてエチレングリコー
ルジアクリレートやジエチレングリコールジメタクリレ
ートを用いると高屈折率は望めず、また一官能性モノマ
ーとしてベンゼンチオールアクリレート、β−ナフタレ
ンチオールメタクリレートを他の二官能性モノマー類と
共重合させ得られる樹脂は可視光内での屈折率の分散が
大きく（アッベ数が小さく）利用価値が小さい。
用などの光学部品用の樹脂として利用することを研究し
ているが、二官能性モノマー類としてエチレングリコー
ルジアクリレートやジエチレングリコールジメタクリレ
ートを用いると高屈折率は望めず、また一官能性モノマ
ーとしてベンゼンチオールアクリレート、β−ナフタレ
ンチオールメタクリレートを他の二官能性モノマー類と
共重合させ得られる樹脂は可視光内での屈折率の分散が
大きく（アッベ数が小さく）利用価値が小さい。
本発明者らは、分散を小さく維持しながら屈折率の高度
な樹脂を得るため含硫二官能性モノマーの研究を鋭意行
った。
な樹脂を得るため含硫二官能性モノマーの研究を鋭意行
った。
その結果、含硫芳香族（メタ）アクリレートを用いるこ
とにより、この目的を達成し得ることを見出し、本発明
に到った。
とにより、この目的を達成し得ることを見出し、本発明
に到った。
すなわち、本発明は、アクリル樹脂もしくはメタクリル
樹脂の原料として有用な、新規な一般式（Ｉ）で表され
る含硫芳香族（メタ）アクリレートを提供するものであ
る。
樹脂の原料として有用な、新規な一般式（Ｉ）で表され
る含硫芳香族（メタ）アクリレートを提供するものであ
る。
一般式（Ｉ） （式中、ｍは０または１の整数を表し、Ｒは水素または
メチル基を表す。また芳香環の置換基の位置はｏ−位、
ｍ−位、ｐ−位を表す。） 本発明の新規な含硫芳香族（メタ）アクリレートとは具
体的には、ｏ−キシリレンジチオールジアクリレート、
ｏ−キシリレンジチオールジメタクリレート、ｍ−キシ
リレンジチオールジアクリレート、ｍ−キシリレンジチ
オールジメタクリレート、ｐ−キシリレンジチオールジ
アクリレート、ｐ−キシリレンジチオールジメタクリレ
ート、ｏ−ベンゼンジチオールジアクリレート、ｏ−ベ
ンゼンジチオールジメタクリレート、ｍ−ベンゼンジチ
オールジアクリレート、ｍ−ベンゼンジチオールジメタ
クリレート、ｐ−ベンゼンンジチオールジアクリレート
およびｐ−ベンゼンジチオールジメタクリレート等が例
示される。
メチル基を表す。また芳香環の置換基の位置はｏ−位、
ｍ−位、ｐ−位を表す。） 本発明の新規な含硫芳香族（メタ）アクリレートとは具
体的には、ｏ−キシリレンジチオールジアクリレート、
ｏ−キシリレンジチオールジメタクリレート、ｍ−キシ
リレンジチオールジアクリレート、ｍ−キシリレンジチ
オールジメタクリレート、ｐ−キシリレンジチオールジ
アクリレート、ｐ−キシリレンジチオールジメタクリレ
ート、ｏ−ベンゼンジチオールジアクリレート、ｏ−ベ
ンゼンジチオールジメタクリレート、ｍ−ベンゼンジチ
オールジアクリレート、ｍ−ベンゼンジチオールジメタ
クリレート、ｐ−ベンゼンンジチオールジアクリレート
およびｐ−ベンゼンジチオールジメタクリレート等が例
示される。
これらの化合物はｏ−キシリレンジチオール、ｍ−キシ
リレンジチオール、ｐ−キシリレンジチオール、ｏ−ベ
ンゼンジチオール、ｍ−ベンゼンジチオールまたはｐ−
ベンゼンンジチオールとアクリル酸クロライドまたはメ
タクリル酸クロライドとを、溶媒中で塩酸捕集剤の存在
下でエステル化反応を行うことにより得られる。
リレンジチオール、ｐ−キシリレンジチオール、ｏ−ベ
ンゼンジチオール、ｍ−ベンゼンジチオールまたはｐ−
ベンゼンンジチオールとアクリル酸クロライドまたはメ
タクリル酸クロライドとを、溶媒中で塩酸捕集剤の存在
下でエステル化反応を行うことにより得られる。
すなわち、合成反応は溶媒、たとえばヘキサン、ベンゼ
ン、トルエン、クロロホルムなどのような原料類と反応
性を有しない溶媒中、原料のｏ−キシリレンジチオー
ル、ｍ−キシリレンジチオール、ｐ−キシリレンジチオ
ール、ｏ−ベンゼンジチオール、ｍ−ベンゼンジチオー
ルまたはｐ−ベンゼンンジチオール１モルに対してアク
リル酸クロライドまたはメタクリル酸クロライド２〜2.
5モルを加え反応液温を−10℃〜30℃、好ましくは−10
℃〜０℃に保ちトリエチルアミンのような塩酸捕集剤を
加えて反応を進める。反応終了後、反応液を希アルカリ
水溶液、次いで水で洗浄し溶媒を留去して、本発明の含
硫芳香族（メタ）アクリレートを得ることができる。
ン、トルエン、クロロホルムなどのような原料類と反応
性を有しない溶媒中、原料のｏ−キシリレンジチオー
ル、ｍ−キシリレンジチオール、ｐ−キシリレンジチオ
ール、ｏ−ベンゼンジチオール、ｍ−ベンゼンジチオー
ルまたはｐ−ベンゼンンジチオール１モルに対してアク
リル酸クロライドまたはメタクリル酸クロライド２〜2.
5モルを加え反応液温を−10℃〜30℃、好ましくは−10
℃〜０℃に保ちトリエチルアミンのような塩酸捕集剤を
加えて反応を進める。反応終了後、反応液を希アルカリ
水溶液、次いで水で洗浄し溶媒を留去して、本発明の含
硫芳香族（メタ）アクリレートを得ることができる。
本発明の含硫芳香族（メタ）アクリレートは単独または
ジエチレングリコールジメタクリレート、エチレングリ
コールジメタクリレートなどの不飽和カルボン酸エステ
ルとともに、加熱重合させることにより従来のジエチレ
ングリコールジアクリレートやエチレングリコールジア
クリレートを用いた樹脂に比べ高度のアッベ数を維持し
ながら高い屈折率を有する含硫アクリル樹脂または含硫
メタクリル樹脂を得ることができ、光学部品用に有用で
ある。
ジエチレングリコールジメタクリレート、エチレングリ
コールジメタクリレートなどの不飽和カルボン酸エステ
ルとともに、加熱重合させることにより従来のジエチレ
ングリコールジアクリレートやエチレングリコールジア
クリレートを用いた樹脂に比べ高度のアッベ数を維持し
ながら高い屈折率を有する含硫アクリル樹脂または含硫
メタクリル樹脂を得ることができ、光学部品用に有用で
ある。
以下、実施例を示す。実施例中の部は重量部を示す。
実施例１ ｍ−キシリレンジチオール11.1部、クロロホルム200
部、アクリル酸クロライド13.6部を混合し反応液温−５
℃に保ちながらトリエチルアミン15.4部を15分かけて滴
下した。滴下終了後、５％炭酸水素ナトリウム水溶液で
洗浄した後、水洗浄しクロロホルム層を濃縮した。濃縮
物はクロマトグラム法で精製して、無色のシロップ状の
ｍ−キシリレンジチオールジアクリレート2.7部を得
た。
部、アクリル酸クロライド13.6部を混合し反応液温−５
℃に保ちながらトリエチルアミン15.4部を15分かけて滴
下した。滴下終了後、５％炭酸水素ナトリウム水溶液で
洗浄した後、水洗浄しクロロホルム層を濃縮した。濃縮
物はクロマトグラム法で精製して、無色のシロップ状の
ｍ−キシリレンジチオールジアクリレート2.7部を得
た。
Ｃ Ｈ Ｓ 元素分析値（％） 59.71 4.76 22.10 計算値（％） 60.40 5.07 23.03 （C14H14O2S2として） NMRδCDCL3 実施例２ ｐ−ベンゼンンジチオール9.2部、クロロホルム200部、
アクリル酸クロライド13.6部を混合し反応液温−10℃に
保ちながらトリエチルアミン15.4部を10分かけて滴下し
た。滴下終了後、５％炭酸水素ナトリウム水溶液で洗浄
した後、水洗浄しクロロホルム層を濃縮した。濃縮物は
クロマトグラム法で精製して、無色のシロップ状のｐ−
ベンゼンジチオールジアクリレート1.6部を得た。融点
は66〜68℃であった。
アクリル酸クロライド13.6部を混合し反応液温−10℃に
保ちながらトリエチルアミン15.4部を10分かけて滴下し
た。滴下終了後、５％炭酸水素ナトリウム水溶液で洗浄
した後、水洗浄しクロロホルム層を濃縮した。濃縮物は
クロマトグラム法で精製して、無色のシロップ状のｐ−
ベンゼンジチオールジアクリレート1.6部を得た。融点
は66〜68℃であった。
Ｃ Ｈ Ｓ 元素分析値（％） 57.57 3.71 25.02 計算値（％） 57.58 4.03 25.62 （C12H10O2S3として） NMRCDCL3 実施例３ 実施例１のｍ−キシリレンジチオール11.1部をｐ−キシ
リレンジチオール11.1部に代える以外は実施例１と同様
に行い無色固体のｐ−キシリレンジチオールジアクリレ
ート3.1部を得た。融点は43〜44℃であった。
リレンジチオール11.1部に代える以外は実施例１と同様
に行い無色固体のｐ−キシリレンジチオールジアクリレ
ート3.1部を得た。融点は43〜44℃であった。
Ｃ Ｈ Ｓ 元素分析値（％） 60.09 5.26 22.58 計算値（％） 60.40 5.07 23.03 （C14H14O2S2として） NMRδCDCL3 実施例４ 実施例２のｐ−ベンゼンンジチオール9.2部をｍ−ベン
ゼンンジチオール9.2部に代える以外は実施例２と同様
に行い、無色のシロップ状のｍ−ベンゼンジチオールジ
アクリレート1.4部を得た。
ゼンンジチオール9.2部に代える以外は実施例２と同様
に行い、無色のシロップ状のｍ−ベンゼンジチオールジ
アクリレート1.4部を得た。
Ｃ Ｈ Ｓ 元素分析値（％） 57.31 3.84 25.16 計算値（％） 57.58 4.03 25.62 （C12H10O2S2として） NMRδCDCL3 実施例５ 実施例１のアクリル酸クロライド13.6部をメタクリル酸
クロライド14.1部に、反応液温−５℃を−10℃に代える
以外は実施例１と同様に行い無色のシロップ状のｍ−キ
シリレンジチオールジメタクリレート1.2部を得た。
クロライド14.1部に、反応液温−５℃を−10℃に代える
以外は実施例１と同様に行い無色のシロップ状のｍ−キ
シリレンジチオールジメタクリレート1.2部を得た。
Ｃ Ｈ Ｓ 元素分析値（％） 62.58 5.88 21.01 計算値（％） 62.71 5.92 20.93 （C16H18O2S2として） NMRδCDCL3 実施例６ 実施例１のｍ−キシリレンジチオール11.1部をｏ−キシ
リレンジチオール11.1部に、アクリル酸クロライド13.6
部をメタクリル酸クロライド14.1部に、反応液温−５℃
を−10℃に代わる以外は実施例１と同様に行い無色のシ
ロップ状のｏ−キシリレンジチオールジメタクリレート
1.2部を得た。
リレンジチオール11.1部に、アクリル酸クロライド13.6
部をメタクリル酸クロライド14.1部に、反応液温−５℃
を−10℃に代わる以外は実施例１と同様に行い無色のシ
ロップ状のｏ−キシリレンジチオールジメタクリレート
1.2部を得た。
Ｃ Ｈ Ｓ 元素分析値（％） 62.93 5.80 20.77 計算値（％） 62.71 5.92 20.93 （C16H18O2S2として） NMRδCDCL3 実施例７ 実施例２のｐ−ベンゼンンジチオール9.2部をｍ−ベン
ゼンンジチオール9.2部に、アクリル酸クロライド13.6
部をメタクリル酸クロライド14.1部に代える以外は実施
例２と同様に行い無色のシロップ状のｍ−ベンゼンンジ
チオールジアクリレート1.0部を得た。
ゼンンジチオール9.2部に、アクリル酸クロライド13.6
部をメタクリル酸クロライド14.1部に代える以外は実施
例２と同様に行い無色のシロップ状のｍ−ベンゼンンジ
チオールジアクリレート1.0部を得た。
Ｃ Ｈ Ｓ 元素分析値（％） 60.12 4.96 23.23 計算値（％） 60.40 5.07 23.03 （C14H14O2S2として） NMRδCDCL3 参考例１ ｍ−キシリレンジチオールジアクリレート42部、ジエチ
レングリコールジメタクリレート18部およびラウロイル
パーオキサイド0.01部を混合し均一とした液をガラスモ
ールドとエチレン−酢酸ビニル共重合体からなるガスケ
ットで構成されたモールド型中に注入した。次いで最初
30℃で重合を開始し６時間後に70℃になるように徐々に
温度を上昇させた。更に80℃で２時間重合した後ガスケ
ットおよびモールドから重合体をとり出した。重合体は
更に90℃で２時間重合した。この重合体は屈折率1.59、
アッベ数36であり無色透明で加工性、耐衝撃性も良好で
あった。
レングリコールジメタクリレート18部およびラウロイル
パーオキサイド0.01部を混合し均一とした液をガラスモ
ールドとエチレン−酢酸ビニル共重合体からなるガスケ
ットで構成されたモールド型中に注入した。次いで最初
30℃で重合を開始し６時間後に70℃になるように徐々に
温度を上昇させた。更に80℃で２時間重合した後ガスケ
ットおよびモールドから重合体をとり出した。重合体は
更に90℃で２時間重合した。この重合体は屈折率1.59、
アッベ数36であり無色透明で加工性、耐衝撃性も良好で
あった。
尚、屈折率およびアッベ数はプルリッヒ型屈折率で20℃
で測定した。また加工性は眼鏡レンズ加工用の玉摺り機
で研削し研削面が良好なものを良（○）とし、目づまり
を起こして研削しえないものを不良（×）とし、耐衝撃
性は中心厚が2mmの平板を用いてFDA規格に従って鋼球落
下試験を行ない割れないものを良（○）とした。
で測定した。また加工性は眼鏡レンズ加工用の玉摺り機
で研削し研削面が良好なものを良（○）とし、目づまり
を起こして研削しえないものを不良（×）とし、耐衝撃
性は中心厚が2mmの平板を用いてFDA規格に従って鋼球落
下試験を行ない割れないものを良（○）とした。
参考例２ 参考例１のｍ−キシリレンジチオールジアクリレート42
部とジエチレングリコールジメタクリレート18部をｐ−
キシリレンジチオールジアクリレート42部とエチレング
リコールジメタクリレート18部に代える以外は参考例１
と同様に行い重合体を得た。
部とジエチレングリコールジメタクリレート18部をｐ−
キシリレンジチオールジアクリレート42部とエチレング
リコールジメタクリレート18部に代える以外は参考例１
と同様に行い重合体を得た。
参考例３〜４ 参考例１のｍ−キシリレンジチオールジアクリレート42
部とジエチレングリコールジメタクリレート18部をｐ−
ベンゼンジチオールジアクリレート33部とジエチレング
リコールジメタクリレート27部に、またはｍ−ベンゼン
ジチオールジアクリレート33部とジエチレングリコール
ジメタクリレート27部にそれぞれ代える以外は参考例１
と同様に行い重合体を得た。
部とジエチレングリコールジメタクリレート18部をｐ−
ベンゼンジチオールジアクリレート33部とジエチレング
リコールジメタクリレート27部に、またはｍ−ベンゼン
ジチオールジアクリレート33部とジエチレングリコール
ジメタクリレート27部にそれぞれ代える以外は参考例１
と同様に行い重合体を得た。
参考例５ 参考例１のｍ−キシリレンジチオールジアクリレート42
部とジエチレングリコールジメタクリレート18部をｏ−
キシリレンジチオールジメタクリレート42部とエチレン
グリコールジメタクリレート18部に代える以外は参考例
１と同様に行い重合体を得た。
部とジエチレングリコールジメタクリレート18部をｏ−
キシリレンジチオールジメタクリレート42部とエチレン
グリコールジメタクリレート18部に代える以外は参考例
１と同様に行い重合体を得た。
参考例６ 参考例１のｍ−キシリレンジチオールジアクリレート42
部とジエチレングリコールジメタクリレート18部をｍ−
ベンゼンジチオールジメタクリレート33部とエチレング
リコールジメタクリレート27部に代える以外は参考例１
と同様に行い重合体を得た。
部とジエチレングリコールジメタクリレート18部をｍ−
ベンゼンジチオールジメタクリレート33部とエチレング
リコールジメタクリレート27部に代える以外は参考例１
と同様に行い重合体を得た。
比較例１ 参考例１のｍ−キシリレンジチオールジアクリレート42
部とジエチレングリコールジメタクリレート18部をジエ
チレングリコールジアクリレート60部単独に代える以外
は参考例１と同様に行い重合体を得た。
部とジエチレングリコールジメタクリレート18部をジエ
チレングリコールジアクリレート60部単独に代える以外
は参考例１と同様に行い重合体を得た。
比較例２ 参考例１のｍ−キシリレンジチオールジアクリレート42
部とジエチレングリコールジメタクリレート18部をベン
ゼンチオールアクリレート30部とエチレングリコールジ
アクリレート30部に、ラウロイルパーオキサイド0.01部
をジクミールパーオキサイド0.01部にそれぞれ代える以
外は参考例１と同様に行い重合体を得た。
部とジエチレングリコールジメタクリレート18部をベン
ゼンチオールアクリレート30部とエチレングリコールジ
アクリレート30部に、ラウロイルパーオキサイド0.01部
をジクミールパーオキサイド0.01部にそれぞれ代える以
外は参考例１と同様に行い重合体を得た。
これらの重合体の屈折率、アッベ数、加工性および耐衝
撃性の試験結果を表１に示す。
撃性の試験結果を表１に示す。
Claims (1)
- 【請求項１】一般式（Ｉ） （式中、ｍは０または１の整数を表し、Ｒは水素または
メチル基を表す。また芳香環の置換基の位置はｏ−位、
ｍ−位、ｐ−位を表す。）で表わされる含硫芳香族（メ
タ）アクリレート。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP15147687A JPH0737437B2 (ja) | 1987-06-19 | 1987-06-19 | 新規な含硫芳香族（メタ）アクリレ−ト |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP15147687A JPH0737437B2 (ja) | 1987-06-19 | 1987-06-19 | 新規な含硫芳香族（メタ）アクリレ−ト |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS63316766A JPS63316766A (ja) | 1988-12-26 |
| JPH0737437B2 true JPH0737437B2 (ja) | 1995-04-26 |
Family
ID=15519343
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP15147687A Expired - Fee Related JPH0737437B2 (ja) | 1987-06-19 | 1987-06-19 | 新規な含硫芳香族（メタ）アクリレ−ト |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0737437B2 (ja) |
Families Citing this family (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5247041A (en) * | 1989-02-22 | 1993-09-21 | Toray Industries, Inc. | Thiol methacrylate or acrylate resin obtained by polymerizing a thiol methacrylate or acrylate compound |
| FR2734827B1 (fr) * | 1995-05-31 | 1997-07-11 | Essilor Int | Compositions polymerisables a base de monomeres thio (meth)acrylates, polymeres a faible indice de jaune obtenus a partir de telles compositions et lentilles ophtalmiques correspondantes |
| EP1629308B1 (en) | 2003-04-17 | 2008-10-08 | Essilor International Compagnie Generale D'optique | Photocurable adhesive composition and its use in the optical field |
| CN116355123A (zh) * | 2023-04-06 | 2023-06-30 | 安庆瑞泰化工有限公司 | 光学薄膜用丙烯酸涂层树脂及其制备方法 |
-
1987
- 1987-06-19 JP JP15147687A patent/JPH0737437B2/ja not_active Expired - Fee Related
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS63316766A (ja) | 1988-12-26 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |