JPH073447A - スパッタリング用支持具 - Google Patents
スパッタリング用支持具Info
- Publication number
- JPH073447A JPH073447A JP1651094A JP1651094A JPH073447A JP H073447 A JPH073447 A JP H073447A JP 1651094 A JP1651094 A JP 1651094A JP 1651094 A JP1651094 A JP 1651094A JP H073447 A JPH073447 A JP H073447A
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- JP
- Japan
- Prior art keywords
- substrate
- sputtering
- holder
- thin film
- support
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
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Abstract
(57)【要約】
【目的】 スパッタリングを行なう際、基板から放出さ
れるガスにより薄膜の形成が妨げられないようにガスを
逃がす構造の基板の支持具を提供する。 【構成】 基板を支持するホルダー又は基板の外周縁部
を覆うマスクにガス逃がし用の貫通孔を設けたもの。
れるガスにより薄膜の形成が妨げられないようにガスを
逃がす構造の基板の支持具を提供する。 【構成】 基板を支持するホルダー又は基板の外周縁部
を覆うマスクにガス逃がし用の貫通孔を設けたもの。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明はスパッタリング用支持具
に関する。詳しくは、スパッタリングにより基板表面に
薄膜を形成する際に基板を支持する支持具であって、基
板から放出されるガスにより薄膜の形成が阻害されるの
を防止し、均一な薄膜を形成し得るスパッタリング用支
持具に関する。
に関する。詳しくは、スパッタリングにより基板表面に
薄膜を形成する際に基板を支持する支持具であって、基
板から放出されるガスにより薄膜の形成が阻害されるの
を防止し、均一な薄膜を形成し得るスパッタリング用支
持具に関する。
【０００２】
【従来の技術】光ディスクの製造に当っては、円盤状の
基板をホルダーに固定し、スパッタリングにより記録層
である金属や非金属の薄膜を基板の表面に形成すること
によって行なわれている。この際基板の表面の外周縁部
に薄膜が形成されると後で基板を接着したりする場合に
不都合なためマスクにより基板の外周縁部を覆い、この
部分には記録層等の薄膜が形成されないようにすること
が行なわれている。（図６参照）光ディスクの場合、基
板としてポリカーボネートやアクリル系樹脂等が用いら
れているが、スパッタリングのためにこの基板を真空室
に導入すると減圧度が高いために基板からガスが吸引さ
れた状態で発生することとなる。
基板をホルダーに固定し、スパッタリングにより記録層
である金属や非金属の薄膜を基板の表面に形成すること
によって行なわれている。この際基板の表面の外周縁部
に薄膜が形成されると後で基板を接着したりする場合に
不都合なためマスクにより基板の外周縁部を覆い、この
部分には記録層等の薄膜が形成されないようにすること
が行なわれている。（図６参照）光ディスクの場合、基
板としてポリカーボネートやアクリル系樹脂等が用いら
れているが、スパッタリングのためにこの基板を真空室
に導入すると減圧度が高いために基板からガスが吸引さ
れた状態で発生することとなる。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】図６に示すように基板
１とホルダー２との間で発生したガスは、他に逃げ道が
ないため、基板１とホルダー２との間から基板１の端部
を通りマスク３と基板１の間から基板表面に向って吹き
出すように流動することとなる。スパッタリングにより
成膜する場合のスパッタ粒子は上述したガスの流れによ
って基板１に達するのが妨げられることとなり、基板１
の表面に形成される膜の厚さが不均一になる一因となっ
ている。形成される膜厚が不均一であると特性に変動が
生ずることとなる。
１とホルダー２との間で発生したガスは、他に逃げ道が
ないため、基板１とホルダー２との間から基板１の端部
を通りマスク３と基板１の間から基板表面に向って吹き
出すように流動することとなる。スパッタリングにより
成膜する場合のスパッタ粒子は上述したガスの流れによ
って基板１に達するのが妨げられることとなり、基板１
の表面に形成される膜の厚さが不均一になる一因となっ
ている。形成される膜厚が不均一であると特性に変動が
生ずることとなる。
【０００４】
【課題を解決するための手段】本発明の要旨は、表面に
スパッタリングにより薄膜を形成する基板を支持する支
持具であって、基板を背後から支持するホルダーと、基
板の外周縁部を覆い、ホルダーに固定されるマスクとか
らなり、基板の裏面又は基板の外側壁に面するホルダー
又はマスクに貫通孔を設けたことを特徴とするスパッタ
リング用支持具に存する。
スパッタリングにより薄膜を形成する基板を支持する支
持具であって、基板を背後から支持するホルダーと、基
板の外周縁部を覆い、ホルダーに固定されるマスクとか
らなり、基板の裏面又は基板の外側壁に面するホルダー
又はマスクに貫通孔を設けたことを特徴とするスパッタ
リング用支持具に存する。
【０００５】本発明のスパッタリング用支持具につき図
面を用いて説明する。図１は本発明の支持具の一例を示
す斜視図、図２は図１に示した支持具の縦断面部分図、
図３は本発明の支持具の一例を示す斜視図、図４は図３
に示した支持具の縦断面部分図、図５は本発明の支持具
の他の一例の縦断面部分図、図６は従来の支持具の一例
の縦断面部分図である。図中１は基板、２はホルダー、
３は外周縁マスク、４は内周縁マスク、５は貫通孔、６
は基板の裏面、７は基板の外側壁をそれぞれ示す。
面を用いて説明する。図１は本発明の支持具の一例を示
す斜視図、図２は図１に示した支持具の縦断面部分図、
図３は本発明の支持具の一例を示す斜視図、図４は図３
に示した支持具の縦断面部分図、図５は本発明の支持具
の他の一例の縦断面部分図、図６は従来の支持具の一例
の縦断面部分図である。図中１は基板、２はホルダー、
３は外周縁マスク、４は内周縁マスク、５は貫通孔、６
は基板の裏面、７は基板の外側壁をそれぞれ示す。
【０００６】基板１は代表的には光ディスク、コンパク
トディスク等を構成するポリカーボネート、アクリル樹
脂、ガラス、アモルファスポリオレフィン等からなるド
ーナッツ盤状物である。光ディスク等を作成する場合に
はこの基板１をホルダー２に外周縁マスク３、内周縁マ
スク４により薄膜を形成させたくない部分を覆って取付
け、スパッタリング装置に導入し、スパッタリングを行
なう。
トディスク等を構成するポリカーボネート、アクリル樹
脂、ガラス、アモルファスポリオレフィン等からなるド
ーナッツ盤状物である。光ディスク等を作成する場合に
はこの基板１をホルダー２に外周縁マスク３、内周縁マ
スク４により薄膜を形成させたくない部分を覆って取付
け、スパッタリング装置に導入し、スパッタリングを行
なう。
【０００７】基板の表面にスパッタリングにより形成さ
れる薄膜は、その用途に応じ異なるが、反射膜、穴開け
型光記録膜、光磁気記録膜、干渉膜、保護膜等が代表的
な膜である。具体的には各種の金属、非金属及びそれら
の混合物、化合物等である。本発明の支持具は、図１、
図２に示すように外周縁マスク３の基板１の外側壁７に
面する部分に貫通孔５を設けるか、基板１を背後から支
持するホルダー２の基板の裏面６に面する部分に、図
３、図４に示すように貫通孔５を設ける。図３、図４に
示す貫通孔は基板１の裏面に完全に達しているが、スパ
ッタリング条件によっては基板１の裏側にまでスパッタ
粒子が回り込み、スパッタ膜が形成されてしまう場合が
ある。基板１の裏面にはスパッタ膜を付着させたくない
場合には、図５に示すように貫通孔５を基板１の裏面の
外周縁部まで設け、基板１の裏面のほとんどは覆われた
構造とするのが良い。
れる薄膜は、その用途に応じ異なるが、反射膜、穴開け
型光記録膜、光磁気記録膜、干渉膜、保護膜等が代表的
な膜である。具体的には各種の金属、非金属及びそれら
の混合物、化合物等である。本発明の支持具は、図１、
図２に示すように外周縁マスク３の基板１の外側壁７に
面する部分に貫通孔５を設けるか、基板１を背後から支
持するホルダー２の基板の裏面６に面する部分に、図
３、図４に示すように貫通孔５を設ける。図３、図４に
示す貫通孔は基板１の裏面に完全に達しているが、スパ
ッタリング条件によっては基板１の裏側にまでスパッタ
粒子が回り込み、スパッタ膜が形成されてしまう場合が
ある。基板１の裏面にはスパッタ膜を付着させたくない
場合には、図５に示すように貫通孔５を基板１の裏面の
外周縁部まで設け、基板１の裏面のほとんどは覆われた
構造とするのが良い。
【０００８】このような構造とすることにより、基板１
の裏面６側から発生したガスが、間隙を通って外周縁マ
スク３と基板表面との間から基板１の表面に沿って吹き
出すようなガス流となるようなことがなく、発生したガ
スは貫通孔５を通って逃げ、基板１の表面に形成される
薄膜の成長を妨げるようなことがない。貫通孔５は図に
示されるものに限られず、基板１から発生するガスを基
板１の表面方向以外に逃がすようなものであればどのよ
うな構造であっても良いことは勿論である。
の裏面６側から発生したガスが、間隙を通って外周縁マ
スク３と基板表面との間から基板１の表面に沿って吹き
出すようなガス流となるようなことがなく、発生したガ
スは貫通孔５を通って逃げ、基板１の表面に形成される
薄膜の成長を妨げるようなことがない。貫通孔５は図に
示されるものに限られず、基板１から発生するガスを基
板１の表面方向以外に逃がすようなものであればどのよ
うな構造であっても良いことは勿論である。
【０００９】
【発明の効果】本発明の支持具によれば、スパッタリン
グの際に基板裏面や基板外側壁から発生するガスが基板
の表面にガス流を形成するようなことがないので、薄膜
が均一に形成される。
グの際に基板裏面や基板外側壁から発生するガスが基板
の表面にガス流を形成するようなことがないので、薄膜
が均一に形成される。
【図１】本発明の支持具の一例を示す斜視図
【図２】図１に示した支持具の縦断面部分図
【図３】本発明の支持具の一例を示す斜視図
【図４】図３に示した支持具の縦断面部分図
【図５】本発明の支持具の他の一例の縦断面部分図
【図６】従来の支持具の一例の縦断面部分図
１ 基板 ２ ホルダー ３ 外周縁マスク ４ 内周縁マスク ５ 貫通孔 ６ 基板の裏面 ７ 基板の外側壁
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 程原 政信 岡山県倉敷市潮通三丁目10番地 三菱化成 株式会社水島工場内
Claims (1)
- 【請求項１】 表面にスパッタリングにより薄膜を形成
する基板を支持する支持具であって、基板を背後から支
持するホルダーと、基板の外周縁部を覆い、ホルダーに
固定されるマスクとからなり、基板の裏面又は基板の外
側壁に面するホルダー又はマスクに貫通孔を設けたこと
を特徴とするスパッタリング用支持具。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1651094A JPH073447A (ja) | 1993-02-19 | 1994-02-10 | スパッタリング用支持具 |
Applications Claiming Priority (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP5-30772 | 1993-02-19 | ||
| JP3077293 | 1993-02-19 | ||
| JP1651094A JPH073447A (ja) | 1993-02-19 | 1994-02-10 | スパッタリング用支持具 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH073447A true JPH073447A (ja) | 1995-01-06 |
Family
ID=26352859
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP1651094A Pending JPH073447A (ja) | 1993-02-19 | 1994-02-10 | スパッタリング用支持具 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH073447A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN109502989A (zh) * | 2019-01-07 | 2019-03-22 | 蓝思科技股份有限公司 | 一种曲面玻璃镀膜装置、镀膜工艺及镀膜产品 |
-
1994
- 1994-02-10 JP JP1651094A patent/JPH073447A/ja active Pending
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN109502989A (zh) * | 2019-01-07 | 2019-03-22 | 蓝思科技股份有限公司 | 一种曲面玻璃镀膜装置、镀膜工艺及镀膜产品 |
| CN109502989B (zh) * | 2019-01-07 | 2021-08-27 | 蓝思科技股份有限公司 | 一种曲面玻璃镀膜装置、镀膜工艺及镀膜产品 |
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