JPH07316846A - ケミカルメカニカルポリッシング液の再生方法 - Google Patents
ケミカルメカニカルポリッシング液の再生方法Info
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- JPH07316846A JPH07316846A JP11555594A JP11555594A JPH07316846A JP H07316846 A JPH07316846 A JP H07316846A JP 11555594 A JP11555594 A JP 11555594A JP 11555594 A JP11555594 A JP 11555594A JP H07316846 A JPH07316846 A JP H07316846A
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- mechanical polishing
- polishing
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Abstract
(57)【要約】
【構成】 ＣＭＰ排水をまず比較的小さい孔径の多孔質
膜で濃縮し、次に比較的大きい孔径の多孔質膜を透過さ
せ、濾過水と濃縮水を回収して再使用、又は、濃縮水に
凝集剤を添加し、固形物にして回収する。 【効果】 ＣＭＰ排水処理用膜濾過装置の設置スペース
が小さく、濾過水と濃縮水は再度使用するためコストメ
リットが大きい。又、濃縮水中の砥粒を固形化して回収
することもできるため作業性が良い。
膜で濃縮し、次に比較的大きい孔径の多孔質膜を透過さ
せ、濾過水と濃縮水を回収して再使用、又は、濃縮水に
凝集剤を添加し、固形物にして回収する。 【効果】 ＣＭＰ排水処理用膜濾過装置の設置スペース
が小さく、濾過水と濃縮水は再度使用するためコストメ
リットが大きい。又、濃縮水中の砥粒を固形化して回収
することもできるため作業性が良い。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、ケミカルメカニカルポ
リッシング（以下ＣＭＰと呼ぶ）装置から排出する廃液
を多孔質膜を用いて濃縮することにより、効率良くポリ
ッシング液を再使用する方法に関する。
リッシング（以下ＣＭＰと呼ぶ）装置から排出する廃液
を多孔質膜を用いて濃縮することにより、効率良くポリ
ッシング液を再使用する方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】一般的に、ＣＭＰとは、Ｓｉ単結晶、ウ
エハーに蒸着したＳｉＯ2 皮膜、Ｓｉ 3 Ｎ4 焼結体、Ｇ
ＧＧ単結晶又はフェライト単結晶等の板をアルカリ溶液
又は酸溶液にＳｉＯ2 、ＭｇＯ、ＺｒＯ2 又はＣｒ2 Ｏ
3 等の砥粒を分散させたポリッシング液でポリッシング
し、表面を平坦化する方法のことをいう。
エハーに蒸着したＳｉＯ2 皮膜、Ｓｉ 3 Ｎ4 焼結体、Ｇ
ＧＧ単結晶又はフェライト単結晶等の板をアルカリ溶液
又は酸溶液にＳｉＯ2 、ＭｇＯ、ＺｒＯ2 又はＣｒ2 Ｏ
3 等の砥粒を分散させたポリッシング液でポリッシング
し、表面を平坦化する方法のことをいう。
【０００３】ポリッシング時に排出するＣＭＰ廃液は、
アルカリ溶液を用いる場合はｐＨが９〜１３、酸溶液の
場合はｐＨが１〜３が一般的であり、０．０１〜３μｍ
の砥粒を０．０１〜５％を含むため懸濁しており、その
ままの状態で排出することはできない。この廃液の処理
方法としては、液のｐＨの調製とともに凝集処理法を行
う方法が考えられるが、凝集処理法を行うには広い設置
スペースが必要で、凝集物の分離処理も大変である。
アルカリ溶液を用いる場合はｐＨが９〜１３、酸溶液の
場合はｐＨが１〜３が一般的であり、０．０１〜３μｍ
の砥粒を０．０１〜５％を含むため懸濁しており、その
ままの状態で排出することはできない。この廃液の処理
方法としては、液のｐＨの調製とともに凝集処理法を行
う方法が考えられるが、凝集処理法を行うには広い設置
スペースが必要で、凝集物の分離処理も大変である。
【０００４】また、ＣＭＰ溶液中に含まれるコロイダル
シリカは高価であり、これを再利用することが望まれて
いた。
シリカは高価であり、これを再利用することが望まれて
いた。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】前記のように、ＣＭＰ
廃液処理技術はまだ十分進んでいないのが現状である。
以上の点に鑑みて、本発明の課題は、効率の良いＣＭＰ
廃液処理方法を見出すことにある。
廃液処理技術はまだ十分進んでいないのが現状である。
以上の点に鑑みて、本発明の課題は、効率の良いＣＭＰ
廃液処理方法を見出すことにある。
【０００６】
【課題を解決するための手段】本発明は、多孔質膜を装
着したコンパクトな濾過装置でＣＭＰ廃液を濃縮するこ
とにより大幅に排水量を低減し、排水処理性を高めるこ
とと、濾過液はポリッシング液の濃度調整及びポリッシ
ング工程時の洗浄水として再利用し、濃縮液は濃度と必
要によりｐＨを調整することにより、ＣＭＰ剤として再
使用する方法を提供することにある。
着したコンパクトな濾過装置でＣＭＰ廃液を濃縮するこ
とにより大幅に排水量を低減し、排水処理性を高めるこ
とと、濾過液はポリッシング液の濃度調整及びポリッシ
ング工程時の洗浄水として再利用し、濃縮液は濃度と必
要によりｐＨを調整することにより、ＣＭＰ剤として再
使用する方法を提供することにある。
【０００７】即ち本発明は、（１）ケミカルメカニカル
ポリッシング液を用いてウエハーをポリッシングした際
生じる廃液を、まず、０．２μｍ以下の孔径を有する膜
で濾過し、該濾過液を１μｍ以上の孔径を有する膜を用
いて濾過することを特徴とするケミカルメカニカルポリ
ッシング液の再生方法、（２）ケミカルメカニカルポリ
ッシング液を用いてウエハーをポリッシングした際生じ
る廃液を、まず、１μｍ以上の孔径を有する膜を用いて
濾過し、該濾過液を０．２μｍ以下の孔径を有する膜で
濾過することを特徴とするケミカルメカニカルポリッシ
ング液の再生方法、及び（３）（１）及び（２）の再生
方法において、０．２μｍ以下の孔径を有する膜を透過
した廃液を、ケミカルメカニカルポリッシング液の濃度
調整及び／又はポリッシング工程時の洗浄水として利用
するケミカルメカニカルポリッシング液の再利用方法で
ある。
ポリッシング液を用いてウエハーをポリッシングした際
生じる廃液を、まず、０．２μｍ以下の孔径を有する膜
で濾過し、該濾過液を１μｍ以上の孔径を有する膜を用
いて濾過することを特徴とするケミカルメカニカルポリ
ッシング液の再生方法、（２）ケミカルメカニカルポリ
ッシング液を用いてウエハーをポリッシングした際生じ
る廃液を、まず、１μｍ以上の孔径を有する膜を用いて
濾過し、該濾過液を０．２μｍ以下の孔径を有する膜で
濾過することを特徴とするケミカルメカニカルポリッシ
ング液の再生方法、及び（３）（１）及び（２）の再生
方法において、０．２μｍ以下の孔径を有する膜を透過
した廃液を、ケミカルメカニカルポリッシング液の濃度
調整及び／又はポリッシング工程時の洗浄水として利用
するケミカルメカニカルポリッシング液の再利用方法で
ある。
【０００８】本発明のＣＭＰ廃液中の懸濁物質を濃縮し
て回収するのに用いる多孔質膜は２種類ある。まず、第
１段階で０．２μｍ以下の孔径を有する膜で濾過し、次
に１μｍ以上の孔径を有する膜で濾過して濾過する方法
について説明する。第１段階の濾過工程で０．２μｍ以
下の孔径を有する膜で透過すると、不純物のみを廃液中
の水およびイオンの一部が除去され、廃液の濃度が高く
なることにより、次段階の廃液の処理能力を高めること
を目的とする。０．２μｍ以上の孔径を有する膜を使用
すると、廃液中のコロイダルシリカやゴミまで膜を透過
する恐れがあり、かえって次段階の廃液の処理能力を落
とすことになる。この膜の好ましい孔径の範囲は、２０
〜５００オングストローム（限外濾過膜）である。
て回収するのに用いる多孔質膜は２種類ある。まず、第
１段階で０．２μｍ以下の孔径を有する膜で濾過し、次
に１μｍ以上の孔径を有する膜で濾過して濾過する方法
について説明する。第１段階の濾過工程で０．２μｍ以
下の孔径を有する膜で透過すると、不純物のみを廃液中
の水およびイオンの一部が除去され、廃液の濃度が高く
なることにより、次段階の廃液の処理能力を高めること
を目的とする。０．２μｍ以上の孔径を有する膜を使用
すると、廃液中のコロイダルシリカやゴミまで膜を透過
する恐れがあり、かえって次段階の廃液の処理能力を落
とすことになる。この膜の好ましい孔径の範囲は、２０
〜５００オングストローム（限外濾過膜）である。
【０００９】上記の膜の材質としては、ＣＭＰ排水のｐ
Ｈによって、耐アルカリ性あるいは耐酸性のある有機質
膜又は無機質膜が使用できる。例えば、ポリアクリロニ
トリル、ポリスルフォン、ポリエチレン、ポリプロピレ
ン、ポリフッ化ビニリデン、ポリテトラフルオロエチレ
ン、及びアルミナ等が挙げられる。膜の形状は、管状
膜、平板膜、スパイラル膜、中空糸膜等いずれの形状を
選択しても良い。
Ｈによって、耐アルカリ性あるいは耐酸性のある有機質
膜又は無機質膜が使用できる。例えば、ポリアクリロニ
トリル、ポリスルフォン、ポリエチレン、ポリプロピレ
ン、ポリフッ化ビニリデン、ポリテトラフルオロエチレ
ン、及びアルミナ等が挙げられる。膜の形状は、管状
膜、平板膜、スパイラル膜、中空糸膜等いずれの形状を
選択しても良い。
【００１０】膜濾過法は、膜濾過面と直交するように濾
過液を流す方法と膜濾過面と平行に濾過液を流す方法
（クロスフロー方式）が知られているが、どちらも採用
することができる。第１段階の膜は孔径が小さいので、
クロスフロー方式を採用すると好ましい。また、操作圧
力は２０〜７００ＫＰａの範囲で膜の耐圧性と濾過速度
及び濾過安定性を考慮して最適な値を定めると良い。
過液を流す方法と膜濾過面と平行に濾過液を流す方法
（クロスフロー方式）が知られているが、どちらも採用
することができる。第１段階の膜は孔径が小さいので、
クロスフロー方式を採用すると好ましい。また、操作圧
力は２０〜７００ＫＰａの範囲で膜の耐圧性と濾過速度
及び濾過安定性を考慮して最適な値を定めると良い。
【００１１】次に、第２段階の濾過工程では、１μｍ以
上の孔径を有する膜を使用する。この工程では、液中の
ゴミ等の不純物を除去することを目的とする。この孔径
が２μｍ未満であると濾過速度が遅くなる。しかし、逆
に大きすぎると不純物のカット性が悪くなるので、２〜
５０μｍのマイクロフィルター等を用いるとよい。膜の
材質、膜の形状及び膜濾過法は、上記の第１段階の膜と
同様に選択すればよい。第１段階の膜の材質等と第２段
階の膜の材質等は同じでも異なっていても構わない。
上の孔径を有する膜を使用する。この工程では、液中の
ゴミ等の不純物を除去することを目的とする。この孔径
が２μｍ未満であると濾過速度が遅くなる。しかし、逆
に大きすぎると不純物のカット性が悪くなるので、２〜
５０μｍのマイクロフィルター等を用いるとよい。膜の
材質、膜の形状及び膜濾過法は、上記の第１段階の膜と
同様に選択すればよい。第１段階の膜の材質等と第２段
階の膜の材質等は同じでも異なっていても構わない。
【００１２】続いて、第１段階で１μｍ以上の孔径を有
する膜を使用し、次に０．２μｍ以下の孔径を有する膜
を使用して濾過する方法について説明する。使用する
膜、その形状、使用方法は前記の方法と同様である。第
１段階で１μｍ以上の孔径を有する膜で濾過してから、
第２段階として０．２μｍ以下の孔径を有する膜に液を
かけると、廃液中に混入している比較的大きな不純物が
除去されるので、第２段階での濾過工程で目詰まりを起
こしたり、膜表面を傷つけることがないという長所を有
する。
する膜を使用し、次に０．２μｍ以下の孔径を有する膜
を使用して濾過する方法について説明する。使用する
膜、その形状、使用方法は前記の方法と同様である。第
１段階で１μｍ以上の孔径を有する膜で濾過してから、
第２段階として０．２μｍ以下の孔径を有する膜に液を
かけると、廃液中に混入している比較的大きな不純物が
除去されるので、第２段階での濾過工程で目詰まりを起
こしたり、膜表面を傷つけることがないという長所を有
する。
【００１３】さらに、膜の孔が目詰まりして濾過能力の
低下が起きるのを防ぐ方法として、定期的に濾過液によ
る逆圧洗浄を行うと良い。多孔質膜濾過液は、ポリッシ
ング剤の濃度調整又はポリッシング工程でのウェハーや
ポリッシング装置等の洗浄水として用いることができ
る。又、濾過液は透明なアルカリ溶液あるいは酸溶液な
ので、公知の方法によりｐＨを７に調整して放流するこ
ともできる。また、ｐＨの調製は、濾過工程の前でも、
各濾過工程の途中であっても構わない。
低下が起きるのを防ぐ方法として、定期的に濾過液によ
る逆圧洗浄を行うと良い。多孔質膜濾過液は、ポリッシ
ング剤の濃度調整又はポリッシング工程でのウェハーや
ポリッシング装置等の洗浄水として用いることができ
る。又、濾過液は透明なアルカリ溶液あるいは酸溶液な
ので、公知の方法によりｐＨを７に調整して放流するこ
ともできる。また、ｐＨの調製は、濾過工程の前でも、
各濾過工程の途中であっても構わない。
【００１４】濃縮液は、多孔質膜で濾過した液又はアル
カリ溶液（例えばＫＯＨ、ＮＨ4 ＯＨ等）もしくは酸溶
液（ＨＣｌ、ＨＮＯ3 等）で濃度とｐＨを調整し、再度
ポリッシング液として使用することができる。又、濃縮
液に無機凝集剤（ポリ塩化鉄、ポリ塩化アルミニウム
等）や高分子凝集剤（ポリアクリルアマイド等）を添加
後、遠心分離機（スクリューデカンタ型遠心分離機、デ
イスク遠心分離機）又はフィルタープレス機等で固液分
離することにより含水率の低い凝集物として処理する方
法をとることもできる。又、高濃度まで濃縮すると凝集
剤を添加するだけで固形化することもできる。
カリ溶液（例えばＫＯＨ、ＮＨ4 ＯＨ等）もしくは酸溶
液（ＨＣｌ、ＨＮＯ3 等）で濃度とｐＨを調整し、再度
ポリッシング液として使用することができる。又、濃縮
液に無機凝集剤（ポリ塩化鉄、ポリ塩化アルミニウム
等）や高分子凝集剤（ポリアクリルアマイド等）を添加
後、遠心分離機（スクリューデカンタ型遠心分離機、デ
イスク遠心分離機）又はフィルタープレス機等で固液分
離することにより含水率の低い凝集物として処理する方
法をとることもできる。又、高濃度まで濃縮すると凝集
剤を添加するだけで固形化することもできる。
【００１５】
【実施例】以下、本発明の実施例および比較例によって
具体的に説明する。
具体的に説明する。
【００１６】
【実施例１】ＳｉＯ2 皮膜を蒸着したシリコンウェハー
を、０．２〜０．６μｍの粒径分布を有するＳｉＯ
2 （Ｒｉｐｐｅｙ Ｃｏｒｐｏｒａｔｉｏｎ製のＣＡＢ
−Ｏ−ＳＰＥＲＳ ＳＣ−１１２）の１２％溶液を純水
で３％溶液（ｐＨ１０．５）に調整してポリッシングし
た。その後、シリコンウェハーを純水で洗浄し、濃度
０．２％、ｐＨ９．６のＣＭＰ廃液を得た。
を、０．２〜０．６μｍの粒径分布を有するＳｉＯ
2 （Ｒｉｐｐｅｙ Ｃｏｒｐｏｒａｔｉｏｎ製のＣＡＢ
−Ｏ−ＳＰＥＲＳ ＳＣ−１１２）の１２％溶液を純水
で３％溶液（ｐＨ１０．５）に調整してポリッシングし
た。その後、シリコンウェハーを純水で洗浄し、濃度
０．２％、ｐＨ９．６のＣＭＰ廃液を得た。
【００１７】その排水を、孔径０．０３μｍのＵＦ膜
（旭化成工業株式会社製のＡＣＰ−１０５０、ポリアク
リロニトリル膜、膜面積０．１ｍ2 、中空糸内径１．４
ｍｍ）を用いて、クロスフロー方式で濃縮した。濾過温
度３０〜４０℃、操作圧力は１００ＫＰａ、膜流路内の
流速は１．０ｍ／秒とし、濃度０．２％の廃液を４％ま
で濃縮した。その時の平均濾過速度は３リットル／分．
ｍ2 であり、濾過液は濁度０．０、ｐＨ９．４、ＣＯＤ
１．８ｍｇ／リットルであった。
（旭化成工業株式会社製のＡＣＰ−１０５０、ポリアク
リロニトリル膜、膜面積０．１ｍ2 、中空糸内径１．４
ｍｍ）を用いて、クロスフロー方式で濃縮した。濾過温
度３０〜４０℃、操作圧力は１００ＫＰａ、膜流路内の
流速は１．０ｍ／秒とし、濃度０．２％の廃液を４％ま
で濃縮した。その時の平均濾過速度は３リットル／分．
ｍ2 であり、濾過液は濁度０．０、ｐＨ９．４、ＣＯＤ
１．８ｍｇ／リットルであった。
【００１８】濾過液はポリッシング後のシリコンウェハ
ーとポリッシャーをプレリンスするのに用いた。濃縮液
は濾過液とＫＯＨ水溶液で濃度３％、ｐＨ１０．５に調
整後、５μｍのマイクロクリーンフィルター（キュノ株
式会社製）で濾過し、ポリッシング液として再生使用し
た。ポリッシング効果は新しいポリッシング液と同等で
あり、凝集等の問題も有していなかった。
ーとポリッシャーをプレリンスするのに用いた。濃縮液
は濾過液とＫＯＨ水溶液で濃度３％、ｐＨ１０．５に調
整後、５μｍのマイクロクリーンフィルター（キュノ株
式会社製）で濾過し、ポリッシング液として再生使用し
た。ポリッシング効果は新しいポリッシング液と同等で
あり、凝集等の問題も有していなかった。
【００１９】
【実施例２】実施例１で得られたＣＭＰ廃液を、５μｍ
のマイクロクリーンフィルター（キュノ株式会社製）で
濾過し、濾過液をＭＦ膜（旭化成工業株式会社製のＰＳ
Ｐ−１１３、ポリオレフィン膜、孔径０．１μｍ、膜面
積０．１ｍ2 、中空糸内径１．９ｍｍ）を用いて、クロ
スフロー方式で、濾過温度３０〜４０℃、操作圧力６０
ｋｐａ、膜流路内の流速１．５ｍ／秒の条件で、１２％
まで濃縮した。
のマイクロクリーンフィルター（キュノ株式会社製）で
濾過し、濾過液をＭＦ膜（旭化成工業株式会社製のＰＳ
Ｐ−１１３、ポリオレフィン膜、孔径０．１μｍ、膜面
積０．１ｍ2 、中空糸内径１．９ｍｍ）を用いて、クロ
スフロー方式で、濾過温度３０〜４０℃、操作圧力６０
ｋｐａ、膜流路内の流速１．５ｍ／秒の条件で、１２％
まで濃縮した。
【００２０】その時の平均濾過速度は、４リットル／分
・ｍ2 であり、濾過液の濁度は０．０、濃縮液のｐＨは
９．６であった。濾過液は、Ｈ2 ＳＯ4 溶液によってｐ
Ｈ７に調製して放流し、濃縮液は、ＫＯＨ溶液でｐＨ１
０．５に調製した。以上の方法で再生したポリッシング
液の効果は、新しいポリッシング液と同等であり、凝集
等の問題も有していなかった。
・ｍ2 であり、濾過液の濁度は０．０、濃縮液のｐＨは
９．６であった。濾過液は、Ｈ2 ＳＯ4 溶液によってｐ
Ｈ７に調製して放流し、濃縮液は、ＫＯＨ溶液でｐＨ１
０．５に調製した。以上の方法で再生したポリッシング
液の効果は、新しいポリッシング液と同等であり、凝集
等の問題も有していなかった。
【００２１】
【比較例１】実施例１で得たＣＭＰ廃液を、無機凝集剤
を用いて凝集処理した。ＣＭＰ排水４０００ｇに対し１
０％のポリ塩化アルミニウム３．２ｇを添加し、ＮａＯ
Ｈ水溶液をｐＨが７になるまで添加した。ゆっくり攪拌
後、静置し、上澄み液と凝集物に分離した。上澄み液は
濁度８０、ｐＨ７、ＣＯＤ３ｍｇ／リットルであり、凝
集物の分離が十分にできなかった。
を用いて凝集処理した。ＣＭＰ排水４０００ｇに対し１
０％のポリ塩化アルミニウム３．２ｇを添加し、ＮａＯ
Ｈ水溶液をｐＨが７になるまで添加した。ゆっくり攪拌
後、静置し、上澄み液と凝集物に分離した。上澄み液は
濁度８０、ｐＨ７、ＣＯＤ３ｍｇ／リットルであり、凝
集物の分離が十分にできなかった。
【００２２】
【比較例２】比較例１の凝集性を上げるために無機凝集
剤に高分子凝集剤を併用して凝集処理した。ＣＭＰ廃液
４０００ｇに対し１０％のポリ塩化アルミニゥム３．２
ｇを添加し、ＮａＯＨ水溶液をｐＨが７になるまで添加
した。その液に０．０５％の高分子凝集剤（ポリアクリ
ルアマイド、明成化学株式会社製のメイパム）３２ｇを
添加して、ゆっくり攪拌し、デカンテーションで上澄み
液と凝集物に分離できた。上澄み液は濁度５、ｐＨ７、
ＣＯＤ３ｍｇ／リットルであり放流できる水質を得た
が、凝集物の含水率は９５％であり、凝集物の発生量も
多く後処理が困難であった。
剤に高分子凝集剤を併用して凝集処理した。ＣＭＰ廃液
４０００ｇに対し１０％のポリ塩化アルミニゥム３．２
ｇを添加し、ＮａＯＨ水溶液をｐＨが７になるまで添加
した。その液に０．０５％の高分子凝集剤（ポリアクリ
ルアマイド、明成化学株式会社製のメイパム）３２ｇを
添加して、ゆっくり攪拌し、デカンテーションで上澄み
液と凝集物に分離できた。上澄み液は濁度５、ｐＨ７、
ＣＯＤ３ｍｇ／リットルであり放流できる水質を得た
が、凝集物の含水率は９５％であり、凝集物の発生量も
多く後処理が困難であった。
【００２３】
【比較例３】実施例１で得たＣＭＰ廃液を、実施例１と
同様にＵＦ膜で濃縮し、５μｍのマイクロクリーンフィ
ルターで濾過した。その濾過液（濃度３％、ｐＨ９．
６）を用いてウエハーをポリッシングした結果、実施例
１と同様の平坦性を得るのに、１．５倍のポリッシング
時間を必要とした。また、ｐＨ１０．５に調製したポリ
ッシング溶液と比較して、貯蔵安定性が悪く、砥粒の一
部が凝集し、沈降物の発生が見られた。
同様にＵＦ膜で濃縮し、５μｍのマイクロクリーンフィ
ルターで濾過した。その濾過液（濃度３％、ｐＨ９．
６）を用いてウエハーをポリッシングした結果、実施例
１と同様の平坦性を得るのに、１．５倍のポリッシング
時間を必要とした。また、ｐＨ１０．５に調製したポリ
ッシング溶液と比較して、貯蔵安定性が悪く、砥粒の一
部が凝集し、沈降物の発生が見られた。
【００２４】
【発明の効果】以上より明らかなごとく、本発明は低濃
度のＣＭＰ廃液をコンパクトな濾過装置で高濃度に濃縮
できる。濾過液はＣＭＰ剤の濃度調整又はポリッシング
後の洗浄水として使用できる。また、濃縮液は濃度とｐ
Ｈを調整すると再使用できる。再使用した際、液中の各
粒が膜を透過させているため、粒同志のの凝集が起こり
にくく、扱いやすい。
度のＣＭＰ廃液をコンパクトな濾過装置で高濃度に濃縮
できる。濾過液はＣＭＰ剤の濃度調整又はポリッシング
後の洗浄水として使用できる。また、濃縮液は濃度とｐ
Ｈを調整すると再使用できる。再使用した際、液中の各
粒が膜を透過させているため、粒同志のの凝集が起こり
にくく、扱いやすい。
【００２５】さらに、濃縮液に凝集剤を添加し、固液分
離すると含水率の低い凝集物として処理できるため、産
業上極めて有用である。
離すると含水率の低い凝集物として処理できるため、産
業上極めて有用である。
Claims (3)
- 【請求項１】 ケミカルメカニカルポリッシング液を用
いてウエハーをポリッシングした際生じる廃液を、ま
ず、０．２μｍ以下の孔径を有する膜で濾過し、該濾過
液を１μｍ以上の孔径を有する膜を用いて濾過すること
を特徴とするケミカルメカニカルポリッシング液の再生
方法。 - 【請求項２】 ケミカルメカニカルポリッシング液を用
いてウエハーをポリッシングした際生じる廃液を、ま
ず、１μｍ以上の孔径を有する膜を用いて濾過し、該濾
過液を０．２μｍ以下の孔径を有する膜で濾過すること
を特徴とするケミカルメカニカルポリッシング液の再生
方法。 - 【請求項３】 請求項１及び２の再生方法において、
０．２μｍ以下の孔径を有する膜を透過した廃液を、ケ
ミカルメカニカルポリッシング液の濃度調整及び／又は
ポリッシング工程時の洗浄水として利用するケミカルメ
カニカルポリッシング液の再利用方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP11555594A JPH07316846A (ja) | 1994-05-27 | 1994-05-27 | ケミカルメカニカルポリッシング液の再生方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP11555594A JPH07316846A (ja) | 1994-05-27 | 1994-05-27 | ケミカルメカニカルポリッシング液の再生方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH07316846A true JPH07316846A (ja) | 1995-12-05 |
Family
ID=14665446
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP11555594A Withdrawn JPH07316846A (ja) | 1994-05-27 | 1994-05-27 | ケミカルメカニカルポリッシング液の再生方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH07316846A (ja) |
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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| US6106728A (en) * | 1997-06-23 | 2000-08-22 | Iida; Shinya | Slurry recycling system and method for CMP apparatus |
| JP5563765B2 (ja) * | 2006-12-25 | 2014-07-30 | 日本碍子株式会社 | 排水処理システム及び排水処理方法 |
| WO2015133555A1 (ja) * | 2014-03-05 | 2015-09-11 | 千代田化工建設株式会社 | 油分を含む水からの油分の除去方法及び除去装置 |
| CN113289409A (zh) * | 2021-07-05 | 2021-08-24 | 东莞市柯林奥环保科技有限公司 | 一种抛光液回收的过滤系统 |
| CN115505339A (zh) * | 2022-10-31 | 2022-12-23 | 上海新昇半导体科技有限公司 | 一种粗抛光液的再利用方法 |
-
1994
- 1994-05-27 JP JP11555594A patent/JPH07316846A/ja not_active Withdrawn
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