JPH07302542A - 電子ビーム加工によるシャドウマスクの製造方法 - Google Patents

電子ビーム加工によるシャドウマスクの製造方法

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JPH07302542A
JPH07302542A JP11745694A JP11745694A JPH07302542A JP H07302542 A JPH07302542 A JP H07302542A JP 11745694 A JP11745694 A JP 11745694A JP 11745694 A JP11745694 A JP 11745694A JP H07302542 A JPH07302542 A JP H07302542A
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JP
Japan
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electron beam
metal plate
shadow mask
hole
shape
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Application number
JP11745694A
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English (en)
Inventor
Yoshinao Otsuka
芳直 大塚
Tadashi Yamazaki
正 山崎
Atsushi Imamura
淳 今村
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Taiheiyo Kinzoku KK
Pacific Metals Co Ltd
Original Assignee
Taiheiyo Kinzoku KK
Pacific Metals Co Ltd
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  • Welding Or Cutting Using Electron Beams (AREA)

Abstract

(57)【要約】 【目的】 電子ビーム穴明け加工法により、素材が大型
で板厚が厚い場合でも、穴の断面形状が盃形で、かつ、
壁面が平滑なカラーブラウン管用シャドウマスクの製造
方法を提供する。 【構成】 金属板を穿孔するに際し、電子ビームの焦点
位置を前記金属板に対し、アンダーフォーカスに保ちつ
つ電子ビームを照射すること、また、これに加え電子ビ
ームの焦点距離を金属板に対し、−0.2〜−2.0m
mに保ちつつ電子ビームを照射し、穴形状を丸形または
長丸形とし、かつ、断面形状を盃形とすることを特徴と
する。 【効果】 シャドウマスクの穴断面形状として理想的な
形状が得られる。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明はカラーブラウン管に使用
されるシャドウマスクの穿孔方法に関するものである。
【0002】
【従来の技術】一般にカラーブラウン管のシャドウマス
クは、図7のようにパネル21とファンネル22からな
る外囲器を有し、そのパネル21の内面に形成された
青、緑、赤に発光する3色蛍光体層からなる蛍光面23
に対向して、その内側に多数の電子ビーム通過孔が所定
形状、配列で形成されたシャドウマスク24が装着され
ている。また、ファンネル22のネック25内に3電子
ビーム26B、26G、26Rを放出する電子銃27が
配置されている。
【0003】このようなカラーブラウン管は、例えば特
開平3−173040にみられるように従来よりフォト
エッチング法により製造されている。すなわち、アルミ
キルド鋼やニッケル−鉄合金であるアンバーなどからな
る、板厚0.1〜0.3mmの板状シャドウマスク素材
の両面に、感光剤を塗布し乾燥して感光剤被膜を形成す
る。その両面の感光剤被膜にシャドウマスクの電子ビー
ム通過孔に対応する、ネガパターンの形成されたネガ版
を真空吸着により密着させて露光し、両面の感光剤被膜
に上記ネガパターンを焼付ける。その後、上記感光剤被
膜を現像して未感光部分を除去し乾燥した後、上記シャ
ドウマスク素材にエッチング液を例えばスプレイして電
子ビーム通過孔を開孔することにより形成している。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】大型カラーブラウン管
用シャドウマスクのように、シャドウマスク素材が大型
で板厚が厚い場合には、ネガ版の中間部にエア残りによ
り密着不良部ができ、電子ビーム通過孔の寸法不良やむ
らなどが発生する。また、素材として低膨張のニッケル
−鉄合金である例えば、アンバー材の比較的厚い板を使
用した場合、多くの工程と時間が必要になり、穿孔され
た穴の断面形状は両面からエッチングされるとエッチン
グむらが起こり、形成された穴の面積が大きくなった
り、不揃いな形状となり、材料強度が弱くなる。さら
に、材料中にMnSなどその他の非金属介在物が存在す
るとエッチングによりエッチング壁面にへこみが生じ、
電子ビームの透過むらを発生しやすい。また、アンバー
合金では加工性が悪く、シャドウマスクを支えている部
分(純鉄系)との釣り合いがなくなるので、使用の上で
問題がある。さらにアンバー合金は純鉄と違いエッチン
グされるとNiCl2 を生じるが、それが液中に溜ると
エッチングが抑制されるので液を交換しなければならな
い。FeCl2 と分離することはできるが回収を行なう
となると、処理設備に莫大な費用を要する。
【0005】この対策として、シャドウマスクに歪みが
でないように板厚を厚くすると、エッチングに時間がか
かりその結果として穴径が大きくなってしまう欠点があ
る。また、サイドの曲面部分では、表と裏のパターンを
少しずらして穴を明けると、穴断面のくびれ部の高さが
変わりムラが発生する等の欠点があった。
【0006】
【課題を解決するための手段】本発明は上記課題を解決
するためになされたものであって、シャドウマスクの製
造において、電子ビーム穴明け加工法により、金属板を
穿孔するに際し、電子ビームの焦点位置を前記金属板に
対し、アンダーフォーカスに保ちつつ電子ビームを照射
し、穴形状を丸形または長丸形とし、かつ、その断面形
状を盃形に形成することを特徴とする電子ビーム加工に
よるシャドウマスクの製造方法、および電子ビームの焦
点距離を前記金属板に対し、−0.2〜−2.0mmの
アンダーフォーカスに保ちつつ電子ビームを照射しする
ことを特徴とする電子ビーム加工によるシャドウマスク
の製造方法にある。
【0007】
【作用】本発明者等は前記の如き欠点を有しないシャド
ウマスクの製造について、鋭意検討を重ねた結果新規な
製造方法として、電子ビーム穴明け加工法を適用するこ
とによりカラーブラウン管の電子銃から放出される電子
ビームを、十分にかつ、むらなく通過させることができ
る丸穴或は長丸穴を、少ない工程で短時間により厚い板
状シャドウマスク素材に穿孔でき、素材の強度低下をで
きる限り少なくした精度の高い穴断面形状をもち、か
つ、安価な費用により容易に製造できる加工条件を見い
だし本発明を完成するに至った。
【0008】電子ビームによる金属板への穴明け加工方
法について図面に基づき簡単に説明すると、図3(a)
〜(d)は、従来通常に行われている電子ビーム穴明け
加工法を工程順に示した断面図で、被穴明け金属板2は
回転ドラム或はマニプレータ(図示せず)に通常バッキ
ング材5(気化し易い樹脂)を介してセットされる。し
かして収束された電子ビーム1が金属板2の穴明けすべ
き個所に照射され、照射された表面3が局部的に加熱・
溶融し穴明けが開始される(図3a)。次いで電子ビー
ム1が浸透していき、電子ビーム1によって気化された
材料で満たされた空洞部4が金属板2の深くまで生成
し、そのまわりに溶融材料が生成する(図3b)。更に
金属板2の溶融が深部にまで進み、遂に電子ビーム1が
金属板2の裏面を貫通しバッキング材5まで到達する
(図3c)。貫通穴はバッキング材5の持つ高い蒸気圧
によって貫通穴に存在する気化溶融材料18を外部へ飛
散放出し穴明けが完了する(図3d)。
【0009】さらに図4は本発明に使用した電子ビーム
穴明け装置の基本構造を示すもので、図において、電子
銃7により発生した電子ビーム1は陽極11で加速さ
れ、ブランキングシステム12でパルス化され、次いで
下部コラム8の収束レンズ13で収束、更に偏光レンズ
14により偏光されて、回転ドラム17上に固定された
金属板2に照射される。なお図中9は電極、10は陰
極、15は遮蔽板、16は加工チャンバー、19はワー
クディスタンスである。また、下部コラム8には図示し
ないが、パルス電流を制御するファラデーカップ、同電
流を監視するロゴブスキーコイル、ビームの位置調整を
するアライメントコイル、ビームの真円度を調整するス
ティグメーター等が設けられている。また本電子ビーム
穴明け装置の寸法、性能は表1に示す通りである。
【0010】
【表1】
【0011】ここで、シャドウマスクにおける穴断面形
状の良否について若干述べると、シャドウマスク中央部
は比較的問題はないが、サイドに近くなると曲面の曲率
が大きくなり、電子ビームが通過する場合斜めに入射す
るため、図2のように穴断面形状がストレート形では電
子ビームが壁にぶつかり通過できない、これを避けるた
めには出口側が膨らむ盃形が必要となる。そこで本発明
者等は前記の装置を使用し、電子ビーム加工法における
電子ビーム焦点と加工後の穴断面形状について種々の研
究調査を行い、新規な加工方法を開発した。
【0012】図5は穴明け加工法における電子ビームの
焦点位置を模式図で示したもので、ジャストフォーカス
とは金属板の加工表面、即ち、接触面にビーム焦点が位
置する状態であり(図5a)、オーバーフォーカスとは
金属板の加工表面より上方に離れた所にビーム焦点が位
置する状態である(図5b)。またアンダーフォーカス
とは金属板の加工表面より下方に離れた所に焦点が位置
する状態である(図5c)。
【0013】図6は電子ビーム焦点位置の差による、加
工後の穴断面形状を模式図で示したもので、図から分か
るようにオーバーフォーカスの場合は不均一で、かつ、
大きな波形となり(図6a)、ジャストフォーカスの場
合も軽度ではあるが、やはり波形となる(図6b)。ま
たアンダーフォーカスの場合は深い盃形となる(図6
c)。
【0014】本発明者等は電子ビーム焦点位置により、
形成される穴形状が、前記のようになる事実を探究の結
果得たもので、この事実に基づきシャドウマスクの製造
において、これを適正に適用することにより、非常に良
好な穴形状を有するシャドウマスクの製造が可能である
との知見を得ることができた。電子ビームによる穴明け
加工において、アンダーフォーカスを選択すれば、厚い
シャドウマスク素材においても穴断面形状を、盃形に形
成することができ、材料強度を低下させることなくカラ
ーブラウン管において、電子銃より照射された電子ビー
ムを十分にかつむらなく通過させることができる。
【0015】穴明け加工に際し、穴の壁面は、電子ビー
ムが照射されると瞬時に蒸発し高い蒸気圧を生じる下敷
き材料を、金属板の下に敷いて穿孔することにより、壁
面に付着する再凝固層をできる限り少なくし、平滑にす
ることができる。さらに穿孔部にMnSなどのような非
金属介在物が存在しても、電子ビーム穴明け加工法にお
いては、フォトエッチングのように優先的に腐食されて
脱落することが起こらず、均一で平滑な壁面が得られ
る。かつ、電子ビームを高頻度にパルス化することによ
り、従来のフォトエッチング法のように多くの工程を踏
まずに、短時間に穿孔することができる。
【0016】実際には、図4に示す装置を用いてバッキ
ング材5を貼り付けた金属板2を回転ドラム17に取り
付け、電子ビームの加速電圧120〜150kV、パル
ス電流5〜80mA、出力0.6〜12kW、ワークデ
ィスタンス25〜150mmの範囲で適宜選択し、金属
板2にパルス電子ビームを照射し穴明けする。一つの穴
明けが完了すると、回転ドラムの回転により金属板2を
穴ピッチの距離だけ高速に移動させ、次のパルス電子ビ
ームにより次の穴が明けられる。この穴明けサイクル時
間は3〜12×10-4秒であり、1秒間に100〜70
0の穴が明けられる。このようにして金属板2に電子ビ
ームにより高速で、且つ、連続的に穴明けすることがで
きる。例えば、30インチ型ブラウン管用シャドウマス
クの場合、穴径0.2mm、穴ピッチ0.5mmの丸穴
を20〜30分で全数穴明けできる。また、長丸穴を穴
明けするには、回転する金属板に一つの穴当たりの電子
ビーム照射を若干長く当てればよい。
【0017】本発明電子ビーム穴明け加工によって穿孔
された穴断面形状は、図1に示す如く盃形を呈し、ブラ
ウン管において電子ビームが斜めに入射しても、シャド
ウマスクに穿孔された穴の壁面が邪魔にならず、電子ビ
ームの通過を充分に保証し得る。次に本発明での電子ビ
ーム加工での加工条件の限定理由について説明する。ま
ず、電子ビームの焦点位置であるが、前記したようにオ
ーバーフォーカスでは形状が極端に悪く、次いでジャス
トフォーカの場合は若干改善されているが、図6にみら
れるようにアンダーフォーカスではシャドウマスクの穴
形状として理想的な盃形が得られる。また、後述する実
施例からも明らかなように電子ビームの焦点距離は被加
工金属板から−0.2〜−2.0mmの距離に保つと最
適の穴断面形状が得られる。
【0018】
【実施例】以下実施例を表3と表4に比較例を表5に示
し両者の比較により本発明の効果を説明する。なお、実
施に供した金属板の化学組成を表2に示す。
【0019】
【表2】
【0020】種々の材質の金属板および板厚に対して丸
穴の場合、穴径φ0.20mm、穴ピッチ0.30m
m、長丸穴の場合0.20mm×0.40mm、穴ピッ
チ0.80mmとし穴明け加工を加速電圧120kV、
ワークデスタンス150mmの設定条件で電子ビーム加
工を行った。加工条件は電子ビーム焦点位置および距離
を変化させて実施した。
【0021】
【表3】
【0022】
【表4】
【0023】
【表5】
【0024】表3の実施例1〜6は板厚0.3mmのア
ルミキルド鋼板について、穴形状を丸形とし、アンダー
フォーカスで電子ビーム焦点距離を変えながら穿孔した
例で、−0.2〜−2.0mmの場合は極めて良好であ
り、−2.1〜−3.5mmの場合でも良好な結果が得
られている。また実施例7〜12は板厚を0.5mmと
厚くして実施した例で、板厚をかえても同様に良好な結
果が得られている。実施例13〜19は穴形状を長丸形
にして実施した例で、長丸形の場合にも同様の傾向を示
し良好な結果を得た。表4の実施例20以降は金属板を
アンバーに変えて穿孔を行った例で、実施例20〜25
は板厚0.3mmで穴形状を丸形とし、実施例26〜3
1は板厚を0.5mmで同じく丸形を、実施例32〜3
7は長丸形の場合であり、アルミキルド鋼板と同様に何
れも良好な結果が得られている。
【0025】表5の比較例はアルミキルド鋼板とアンバ
ーについて、穴形状を丸形と長丸形で電子ビーム焦点位
置および距離を、ジャストフォーカスとオーバーフォー
カスで実施した例で、何れも穴断面形状、精度共不良で
あった。以上実施例及び比較例の結果から明らかなよう
に、本発明の電子ビーム焦点位置がアンダーフォーカス
の場合は穴断面形状、精度共概ね良好な成績が得られて
おり、特に電子ビームの焦点距離が−0.2〜−2.0
mmの場合はすこぶる良好な結果が得られた。これに対
し比較例では電子ビーム焦点位置が、ジャストフォーカ
ス又はオーバーフォーカスであり、何れの結果も不良で
あった。
【0026】
【発明の効果】以上述べたのように、本発明によれば板
状のシャドウマスク素材に電子ビーム穴明け加工によ
り、穴形状を丸形あるいは長丸形に穿孔すると、その断
面形状は盃形で、かつ、壁面が平滑な穴が得られ、しか
も所定の位置に精度良く配置され、カラーブラウン管用
シャドウマスクの製造が容易になり、特に大型、かつ、
板厚の厚いシャドウマスクの製造に適用して大きな効果
が得られる。また、穿孔部にMnSなどその他の非金属
介在物が存在しても壁面の平滑に影響なく、シャドウマ
スク素材を短時間に穿孔できる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明によって穿孔された穴断面形状を示す図
【図2】従来のシャドウマスクの穴断面形状を示す図
【図3】(a)〜(d)は通常の電子ビーム加工による
穴明け加工法を工程順に示した模式断面図
【図4】電子ビーム穴明け加工装置の基本構造図
【図5】電子ビーム焦点位置を示す模式図
【図6】電子ビーム焦点位置の差による穴明け加工後の
穴断面形状を模式的に示した図
【図7】カラーブラウン管の構造を示す図
【符号の説明】
1 電子ビーム 2 金属板 3 金属板表面 4 空洞部 5 バッキング材 6 電子ビーム焦点 7 電子銃 8 下部コラム 9 電極 10 陰極 11 陽極 12 ブラッキングシステム 13 収束レンズ 14 偏光レンズ 15 遮蔽板 16 加工チャンバー 17 回転ドラム 18 気化溶融材料 19 ワークディスタンス 21 パネル 22 ファンネル 23 蛍光面 24 シャドウマスク 25 ネック 26B,26G,26R 電子ビーム 27 電子銃
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 今村 淳 東京都千代田区大手町1−6−1 大平洋 金属株式会社内

Claims (4)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 電子ビーム穴明け加工法により、金属板
    を穿孔するに際し、電子ビームの焦点位置を前記金属板
    に対し、アンダーフォーカスに保ちつつ電子ビームを照
    射し、穴形状を丸形で、かつ、その断面形状を盃形に形
    成することを特徴とする電子ビーム加工によるシャドウ
    マスクの製造方法。
  2. 【請求項2】 電子ビーム穴明け加工法により、金属板
    を穿孔するに際し、電子ビームの焦点位置を前記金属板
    に対し、アンダーフォーカスに保ちつつ電子ビームを照
    射し、穴形状を長丸形で、かつ、断面形状を盃形に形成
    することを特徴とする電子ビーム加工によるシャドウマ
    スクの製造方法。
  3. 【請求項3】 電子ビーム穴明け加工法により、金属板
    を穿孔するに際し、電子ビームの焦点位置を前記金属板
    に対し、アンダーフォーカスに保ちつつ、且つ、電子ビ
    ーム焦点距離を前記金属板に対し、−0.2〜−2.0
    mmとして電子ビームを照射しすることを特徴とする請
    求項1および請求項2記載の電子ビーム加工によるシャ
    ドウマスクの製造方法。
  4. 【請求項4】 電子ビーム穴明け加工法により、金属板
    を穿孔するに際し、電子ビームの焦点位置を前記金属板
    に対し、アンダーフォーカスに保ちつつ電子ビームを照
    射し、連続的に多数の穴を明けることを特徴とする請求
    項1ないし請求項3記載の電子ビーム加工によるシャド
    ウマスクの製造方法。
JP11745694A 1994-05-09 1994-05-09 電子ビーム加工によるシャドウマスクの製造方法 Pending JPH07302542A (ja)

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Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR100340945B1 (ko) * 1999-12-23 2002-06-20 장인순 전자빔을 이용한 천공장치
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