JPH073020A - ポリイミド形成物質溶液およびその被覆材料としての用途 - Google Patents
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Abstract
(57)【要約】
【目的】 改良したポリイミド形成物質溶液を提供す
る。 【構成】 A)芳香族もしくは部分芳香族ジアミンおよ
びB)イミド形成芳香族もしくは部分芳香族テトラカル
ボン酸のテトラエステルまたはこのテトラエステルと相
応するトリ−、ジ−もしくはモノエステルとの混合物を
含有するポリイミド形成物質溶液。
る。 【構成】 A)芳香族もしくは部分芳香族ジアミンおよ
びB)イミド形成芳香族もしくは部分芳香族テトラカル
ボン酸のテトラエステルまたはこのテトラエステルと相
応するトリ−、ジ−もしくはモノエステルとの混合物を
含有するポリイミド形成物質溶液。
Description
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、ポリイミド形成物質溶
液に関する。
液に関する。
【0002】また、本発明は、かかる溶液を被膜の製造
に使用する方法に関する。
に使用する方法に関する。
【0003】
【従来の技術】ポリイミドは金属ワイヤー、ガラスおよ
び石英繊維、ならびにシリコン基板(シリコンウェハ
ー)の被覆への使用が増加している。特にエレクトロニ
クスおよびマイクロエレクトロニクスにおいて、例えば
回路製造の中間層または最上層として使用される。
び石英繊維、ならびにシリコン基板(シリコンウェハ
ー)の被覆への使用が増加している。特にエレクトロニ
クスおよびマイクロエレクトロニクスにおいて、例えば
回路製造の中間層または最上層として使用される。
【0004】基板は、通常ポリイミドまたはポリアミン
酸の溶液で塗布され、ポリアミン酸は基板表面でイミド
へ変換する。
酸の溶液で塗布され、ポリアミン酸は基板表面でイミド
へ変換する。
【0005】しかしながら、ポリイミドまたはポリアミ
ン酸の溶液は、加工用に十分低い粘度とするためには比
較的低濃度でなければならない。典型的な市販製品は、
一般的に12〜20重量%の固形分を含んでいるにすぎ
ない。
ン酸の溶液は、加工用に十分低い粘度とするためには比
較的低濃度でなければならない。典型的な市販製品は、
一般的に12〜20重量%の固形分を含んでいるにすぎ
ない。
【0006】低濃度であることは乾燥中に高収縮を生じ
ることになる。この収縮はポリイミド表面において、ポ
リイミド層以下の構造に多かれ少なかれ影響を与える。
ることになる。この収縮はポリイミド表面において、ポ
リイミド層以下の構造に多かれ少なかれ影響を与える。
【0007】例えば、回路に必要な多層被膜の場合特に
構造の不正確さを生じる。
構造の不正確さを生じる。
【0008】このような理由および溶剤の過剰量を避け
るためには、より高濃度溶液が望ましい。高濃度は、原
則としてポリイミドの出発材料のみを含有する溶液を用
いることにより可能である。しかしながら、テトラカル
ボン酸二無水物およびジアミンは長期保存寿命を有せず
重合してポリアミン酸を生成するので、テトラカルボン
酸二無水物の代わりにテトラカルボン酸ジエステルが使
用された。
るためには、より高濃度溶液が望ましい。高濃度は、原
則としてポリイミドの出発材料のみを含有する溶液を用
いることにより可能である。しかしながら、テトラカル
ボン酸二無水物およびジアミンは長期保存寿命を有せず
重合してポリアミン酸を生成するので、テトラカルボン
酸二無水物の代わりにテトラカルボン酸ジエステルが使
用された。
【0009】米国特許第3700649号には、ポリイ
ミド被膜製造のための、ベンゾフェノンテトラカルボン
酸ジエステルおよび非常に低塩基性のジアミンの溶液が
記載されている。エステル化のアルコールとしてアルカ
ノールおよびベンジルアルコールが挙げられる。
ミド被膜製造のための、ベンゾフェノンテトラカルボン
酸ジエステルおよび非常に低塩基性のジアミンの溶液が
記載されている。エステル化のアルコールとしてアルカ
ノールおよびベンジルアルコールが挙げられる。
【0010】米国特許第3347808号に開示され
る、テトラカルボン酸ジエステルおよびジアミンの溶液
の場合には、エステル化成分としてアルカノールを用い
る。
る、テトラカルボン酸ジエステルおよびジアミンの溶液
の場合には、エステル化成分としてアルカノールを用い
る。
【0011】米国特許第4874835号はジアミンお
よびオキシジフタル酸のアルカノールジエステルの溶液
に関する。
よびオキシジフタル酸のアルカノールジエステルの溶液
に関する。
【0012】米国特許第4960824号は、芳香脂肪
族テトラカルボン酸のアルカノールジエステルおよびm
−フェニレンジアミン、p−フェニレンジアミンおよび
4−アミノフェニルエーテルからなる群から選ばれる少
なくとも1種のジアミンの溶液を開示する。
族テトラカルボン酸のアルカノールジエステルおよびm
−フェニレンジアミン、p−フェニレンジアミンおよび
4−アミノフェニルエーテルからなる群から選ばれる少
なくとも1種のジアミンの溶液を開示する。
【0013】独国特許出願P4135056.1号およ
びP4135058.8号は、ジアミンおよびテトラカ
ルボン酸ジエステルのようなポリイミド形成出発材料の
溶液、および被覆のためのその使用について記載する。
びP4135058.8号は、ジアミンおよびテトラカ
ルボン酸ジエステルのようなポリイミド形成出発材料の
溶液、および被覆のためのその使用について記載する。
【0014】従来の技術によれば、ジエステル以外のエ
ステルの使用は有益なものと考えられていない。しかし
ながら、純粋なジエステルの使用は、おそらく重合体塩
の形成により長期保存時に粘度増加を生じるという欠点
がある。他の欠点は、約30μm以上の厚い層の形成過
程で気泡を生じることである。しかしながら、このよう
な厚い層はチップ製造時のバッファ層にとって必要であ
る。
ステルの使用は有益なものと考えられていない。しかし
ながら、純粋なジエステルの使用は、おそらく重合体塩
の形成により長期保存時に粘度増加を生じるという欠点
がある。他の欠点は、約30μm以上の厚い層の形成過
程で気泡を生じることである。しかしながら、このよう
な厚い層はチップ製造時のバッファ層にとって必要であ
る。
【0015】
【発明が解決しようとする課題】本発明の目的は、改良
したポリイミド形成物質溶液を提供することである。
したポリイミド形成物質溶液を提供することである。
【0016】
【課題を解決するための手段】我々は、この目的がA)
芳香族もしくは部分芳香族ジアミンおよびB)イミド形
成芳香族もしくは部分芳香族テトラカルボン酸のテトラ
エステルまたはこのテトラエステルと相応するトリ−、
ジ−もしくはモノエステルとの混合物を含有するポリイ
ミド形成物質溶液、ならびにこの溶液をポリイミド被膜
の製造に使用することにより達成されることを見出し
た。
芳香族もしくは部分芳香族ジアミンおよびB)イミド形
成芳香族もしくは部分芳香族テトラカルボン酸のテトラ
エステルまたはこのテトラエステルと相応するトリ−、
ジ−もしくはモノエステルとの混合物を含有するポリイ
ミド形成物質溶液、ならびにこの溶液をポリイミド被膜
の製造に使用することにより達成されることを見出し
た。
【0017】新規溶液は、ポリイミドの出発材料とし
て、芳香族もしくは部分芳香族ジアミンおよび芳香族も
しくは部分芳香族テトラカルボン酸エステルを含有す
る。
て、芳香族もしくは部分芳香族ジアミンおよび芳香族も
しくは部分芳香族テトラカルボン酸エステルを含有す
る。
【0018】適当なジアミンは、少なくとも1個の芳香
環を含有する芳香族もしくは部分芳香族ジアミン、特に
アミノ基が芳香核に結合するものである。これらは芳香
環、縮合芳香環系、または例えば単結合、エーテル、カ
ルボニルもしくはスルホニル基、または脂肪族炭化水素
基、特に1〜8個の炭素原子のものによって、および所
望ならば、また硫黄、窒素もしくは酸素のようなヘテロ
原子によって結合される複数の芳香環を有するジアミン
である。芳香環または芳香環系は、特に、C1−C6 −
アルキルまたはC1 −C6 −アルコキシ基、または塩素
およびフッ素のようなハロゲン原子によって置換されて
いてもよい。
環を含有する芳香族もしくは部分芳香族ジアミン、特に
アミノ基が芳香核に結合するものである。これらは芳香
環、縮合芳香環系、または例えば単結合、エーテル、カ
ルボニルもしくはスルホニル基、または脂肪族炭化水素
基、特に1〜8個の炭素原子のものによって、および所
望ならば、また硫黄、窒素もしくは酸素のようなヘテロ
原子によって結合される複数の芳香環を有するジアミン
である。芳香環または芳香環系は、特に、C1−C6 −
アルキルまたはC1 −C6 −アルコキシ基、または塩素
およびフッ素のようなハロゲン原子によって置換されて
いてもよい。
【0019】適当な物質の例は、ベンジジン、ジメチル
ベンジジン、ジメトキシベンジジン、ジエトキシベンジ
ジン、ジアミノジフェニルスルホン、ジアミノジフェニ
ルプロパン、ジアミノジフェニルスルフィド、4,4’
−ビス[2−(4−アミノフェニル)プロパン]フェニ
レン/ビスアニリン P、4,4’−ジメチル−3,
3’−ジアミノジフェニルスルホン、4,4’−ジメチ
ル−3,3’−ジアミノジフェニルスルフィド、p−フ
ェニレンジアミン、m−フェニレンジアミン、ジエチル
トルイレンジアミン、ジアミノメトキシベンゼン、キシ
リレンジアミン、ジアミノクメン、ジアミノナフタレ
ン、ジアミノナフトール、ジアミノナフトキノン、ジア
ミノアントラセン、、ジアミノアントラキノン、ジアミ
ノフェナントレン、9,10−ビス(4−アミノフェニ
ル)アントラセン、3,5−ジエチル−2,4−ジアミ
ノトルエン、3,5−ジエチル−2,6−ジアミノトル
エン、ジイソプロピルフェニレンジアミン、4,4’−
メチレンビス−(2,6−ジイソプロピルアニリン)、
4,4’−メチレンビス−(2−メチル−6−イソプロ
ピルアニリン)、2,6−ジイソプロピルアニリン、
1,3−ジアミノ−4−メトキシベンゼン、ヘキサフル
オロ−2,2−ビス(3−アミノ−4,5−ジメチルフ
ェニル)プロパン、2,2−ビス(4,4’−アミノフ
ェニル)プロパン、ビス(4,4’−アミノフェニル)
スルホン、ビス(4,4’−アミノフェニル)スルフィ
ド、、ビス(3,3’−アミノフェニル)スルホン、ビ
ス(3,3’−アミノフェニル)スルフィド、2,2−
ビス[4−(4−アミノフェノキシ)フェニル]プロパ
ン、2,2−ビス[4−(4−アミノフェノキシ)フェ
ニル]ヘキサフルオロプロパン、ビス[4−(アミノフ
ェノキシ)フェニル]スルホン、ビス[4−(アミノフ
ェノキシ)フェニル]スルフィド、2,2−ビス[4−
(3−アミノフェノキシ)フェニル]ヘキサフルオロプ
ロパン、ビス[4−(3−アミノフェノキシ)フェニ
ル]スルホン、ビス[4−(3−アミノフェノキシ)フ
ェニル]スルフィド、4,4’−ビス(4−アミノフェ
ノキシ)ビフェニル、4,4’−ビス(3−アミノフェ
ノキシ)ビフェニル、1,4’−ビス(4−アミノフェ
ノキシ)フェニレン、1,3’−ビス(4−アミノフェ
ノキシ)フェニレン、ジアミノジフェニルメタン、ジア
ミノジフェノキシフェニルスルホン、ジアミノジフェノ
キシフェニルスルフィド、ジアミノジフェニルオキシ
ド、ジアミノピリジン、ビス(4−アミノフェニル)ジ
アルキルシラン、3,3’−ジヒドロキシ−4,4’−
ジアミノビフェニル、9,9’−ビス(4−アミノ)フ
ルオレン、o−トルイジンスルホン、ジアミノベンズア
ニリド、アクリジンジアミン、およびメチレンビスアン
トラニルアミドである。
ベンジジン、ジメトキシベンジジン、ジエトキシベンジ
ジン、ジアミノジフェニルスルホン、ジアミノジフェニ
ルプロパン、ジアミノジフェニルスルフィド、4,4’
−ビス[2−(4−アミノフェニル)プロパン]フェニ
レン/ビスアニリン P、4,4’−ジメチル−3,
3’−ジアミノジフェニルスルホン、4,4’−ジメチ
ル−3,3’−ジアミノジフェニルスルフィド、p−フ
ェニレンジアミン、m−フェニレンジアミン、ジエチル
トルイレンジアミン、ジアミノメトキシベンゼン、キシ
リレンジアミン、ジアミノクメン、ジアミノナフタレ
ン、ジアミノナフトール、ジアミノナフトキノン、ジア
ミノアントラセン、、ジアミノアントラキノン、ジアミ
ノフェナントレン、9,10−ビス(4−アミノフェニ
ル)アントラセン、3,5−ジエチル−2,4−ジアミ
ノトルエン、3,5−ジエチル−2,6−ジアミノトル
エン、ジイソプロピルフェニレンジアミン、4,4’−
メチレンビス−(2,6−ジイソプロピルアニリン)、
4,4’−メチレンビス−(2−メチル−6−イソプロ
ピルアニリン)、2,6−ジイソプロピルアニリン、
1,3−ジアミノ−4−メトキシベンゼン、ヘキサフル
オロ−2,2−ビス(3−アミノ−4,5−ジメチルフ
ェニル)プロパン、2,2−ビス(4,4’−アミノフ
ェニル)プロパン、ビス(4,4’−アミノフェニル)
スルホン、ビス(4,4’−アミノフェニル)スルフィ
ド、、ビス(3,3’−アミノフェニル)スルホン、ビ
ス(3,3’−アミノフェニル)スルフィド、2,2−
ビス[4−(4−アミノフェノキシ)フェニル]プロパ
ン、2,2−ビス[4−(4−アミノフェノキシ)フェ
ニル]ヘキサフルオロプロパン、ビス[4−(アミノフ
ェノキシ)フェニル]スルホン、ビス[4−(アミノフ
ェノキシ)フェニル]スルフィド、2,2−ビス[4−
(3−アミノフェノキシ)フェニル]ヘキサフルオロプ
ロパン、ビス[4−(3−アミノフェノキシ)フェニ
ル]スルホン、ビス[4−(3−アミノフェノキシ)フ
ェニル]スルフィド、4,4’−ビス(4−アミノフェ
ノキシ)ビフェニル、4,4’−ビス(3−アミノフェ
ノキシ)ビフェニル、1,4’−ビス(4−アミノフェ
ノキシ)フェニレン、1,3’−ビス(4−アミノフェ
ノキシ)フェニレン、ジアミノジフェニルメタン、ジア
ミノジフェノキシフェニルスルホン、ジアミノジフェノ
キシフェニルスルフィド、ジアミノジフェニルオキシ
ド、ジアミノピリジン、ビス(4−アミノフェニル)ジ
アルキルシラン、3,3’−ジヒドロキシ−4,4’−
ジアミノビフェニル、9,9’−ビス(4−アミノ)フ
ルオレン、o−トルイジンスルホン、ジアミノベンズア
ニリド、アクリジンジアミン、およびメチレンビスアン
トラニルアミドである。
【0020】ジアミンの混合物もまた特に適する。
【0021】特に好ましいジアミンは、ジアミノジフェ
ニルメタン、ジアミノジフェニルスルホン、4,4’−
ジアミノジフェニルオキシド、2,2−ビス[4−(4
−アミノフェノキシ)フェニル]プロパンおよび2,2
−ビス[4−(4−アミノフェノキシ)フェニル]ヘキ
サフルオロプロパンである。
ニルメタン、ジアミノジフェニルスルホン、4,4’−
ジアミノジフェニルオキシド、2,2−ビス[4−(4
−アミノフェノキシ)フェニル]プロパンおよび2,2
−ビス[4−(4−アミノフェノキシ)フェニル]ヘキ
サフルオロプロパンである。
【0022】成分Bは、イミド形成芳香族もしくは部分
芳香族テトラカルボン酸のテトラエステルまたはこのテ
トラエステルと相応するトリ−、ジ−もしくはモノエス
テルとの混合物である。
芳香族テトラカルボン酸のテトラエステルまたはこのテ
トラエステルと相応するトリ−、ジ−もしくはモノエス
テルとの混合物である。
【0023】特に適するテトラカルボン酸エステルは、
少なくとも1個の芳香環を有する、芳香族または部分芳
香族テトラカルボン酸二無水物から誘導されるものであ
る。これらは芳香環、縮合芳香環系、または例えば単結
合、エーテル、カルボニルもしくはスルホニル基、また
は脂肪族炭化水素基、特に1〜8個の炭素原子のものに
よって、および所望ならば、また硫黄、窒素もしくは酸
素のようなヘテロ原子によって結合される複数の芳香環
を有するテトラカルボン酸エステルである。芳香環また
は芳香環系は、特に、C1 −C6 −アルキルまたはC1
−C6 −アルコキシ基、または塩素およびフッ素のよう
なハロゲン原子によって置換されていてもよい。
少なくとも1個の芳香環を有する、芳香族または部分芳
香族テトラカルボン酸二無水物から誘導されるものであ
る。これらは芳香環、縮合芳香環系、または例えば単結
合、エーテル、カルボニルもしくはスルホニル基、また
は脂肪族炭化水素基、特に1〜8個の炭素原子のものに
よって、および所望ならば、また硫黄、窒素もしくは酸
素のようなヘテロ原子によって結合される複数の芳香環
を有するテトラカルボン酸エステルである。芳香環また
は芳香環系は、特に、C1 −C6 −アルキルまたはC1
−C6 −アルコキシ基、または塩素およびフッ素のよう
なハロゲン原子によって置換されていてもよい。
【0024】テトラカルボン酸エステルが誘導される次
のテトラカルボン酸二無水物が例として挙げられる。
のテトラカルボン酸二無水物が例として挙げられる。
【0025】2,3,9,10−ペリレンテトラカルボ
ン酸二無水物、1,4,5,8−ナフタレンテトラカル
ボン酸二無水物、2,6−ジクロロナフタレン−1,
4,5,8−テトラカルボン酸二無水物、2,7−ジク
ロロナフタレン−1,4,5,8−テトラカルボン酸二
無水物、フェナントレン−1,8,9,10−テトラカ
ルボン酸二無水物、ピロメリト酸二無水物、3,3’,
4,4’−ビフェニルテトラカルボン酸二無水物、2,
2’,3,3’−ビフェニルテトラカルボン酸二無水
物、4,4’−イソプロピリデンジフタル酸二無水物、
ヘキサフルオロイソプロピリデン−2,2−ビスフタル
酸二無水物、3,3’−イソプロピリデンジフタル酸二
無水物、4,4’−オキシジフタル酸二無水物、4,
4’−スルホニルジフタル酸二無水物、3,3’−オキ
シジフタル酸二無水物、4,4’−メチレンジフタル酸
二無水物、4,4’−チオジフタル酸二無水物、4,
4’−アセチリデンジフタル酸二無水物、2,3,6,
7−ナフタレンテトラカルボン酸二無水物、1,2,
4,5−ナフタレンテトラカルボン酸二無水物、1,
2,5,6−ナフタレンテトラカルボン酸二無水物、ベ
ンゼン−1,2,3,4−テトラカルボン酸二無水物、
チオフェン−2,3,4,5−テトラカルボン酸二無水
物、1−(3’,4’−ジカルボキシフェニル)−1,
3,3−トリメチルインダン−5,6−ジカルボン酸二
無水物、1−(3’,4’−ジカルボキシフェニル)−
1,3,3−トリメチルインダン−6,7−ジカルボン
酸二無水物、1−(3’,4’−ジカルボキシフェニ
ル)−3−メチルインダン−5,6−ジカルボン酸二無
水物、1−(3’,4’−ジカルボキシフェニル)−3
−メチルインダン−6,7−ジカルボン酸二無水物、
3,3’,4,4’−ベンゾフェノンテトラカルボン酸
二無水物、4,5,3’,4’−ベンゾフェノンテトラ
カルボン酸二無水物、および2,2’−ビス[4−
(3,4−ジカルボキシフェノキシ)フェニル]プロパ
ン二無水物。
ン酸二無水物、1,4,5,8−ナフタレンテトラカル
ボン酸二無水物、2,6−ジクロロナフタレン−1,
4,5,8−テトラカルボン酸二無水物、2,7−ジク
ロロナフタレン−1,4,5,8−テトラカルボン酸二
無水物、フェナントレン−1,8,9,10−テトラカ
ルボン酸二無水物、ピロメリト酸二無水物、3,3’,
4,4’−ビフェニルテトラカルボン酸二無水物、2,
2’,3,3’−ビフェニルテトラカルボン酸二無水
物、4,4’−イソプロピリデンジフタル酸二無水物、
ヘキサフルオロイソプロピリデン−2,2−ビスフタル
酸二無水物、3,3’−イソプロピリデンジフタル酸二
無水物、4,4’−オキシジフタル酸二無水物、4,
4’−スルホニルジフタル酸二無水物、3,3’−オキ
シジフタル酸二無水物、4,4’−メチレンジフタル酸
二無水物、4,4’−チオジフタル酸二無水物、4,
4’−アセチリデンジフタル酸二無水物、2,3,6,
7−ナフタレンテトラカルボン酸二無水物、1,2,
4,5−ナフタレンテトラカルボン酸二無水物、1,
2,5,6−ナフタレンテトラカルボン酸二無水物、ベ
ンゼン−1,2,3,4−テトラカルボン酸二無水物、
チオフェン−2,3,4,5−テトラカルボン酸二無水
物、1−(3’,4’−ジカルボキシフェニル)−1,
3,3−トリメチルインダン−5,6−ジカルボン酸二
無水物、1−(3’,4’−ジカルボキシフェニル)−
1,3,3−トリメチルインダン−6,7−ジカルボン
酸二無水物、1−(3’,4’−ジカルボキシフェニ
ル)−3−メチルインダン−5,6−ジカルボン酸二無
水物、1−(3’,4’−ジカルボキシフェニル)−3
−メチルインダン−6,7−ジカルボン酸二無水物、
3,3’,4,4’−ベンゾフェノンテトラカルボン酸
二無水物、4,5,3’,4’−ベンゾフェノンテトラ
カルボン酸二無水物、および2,2’−ビス[4−
(3,4−ジカルボキシフェノキシ)フェニル]プロパ
ン二無水物。
【0026】テトラカルボン酸エステルの混合物も特に
適当である。オキシジフタル酸二無水物、ベンゾフェノ
ンテトラカルボン酸二無水物、ビフェニルテトラカルボ
ン酸二無水物またはヘキサフルオロイソプロピリデン−
2,2−ビスフタル酸二無水物から誘導されるテトラカ
ルボン酸エステルの混合物は特に有利と判明した。
適当である。オキシジフタル酸二無水物、ベンゾフェノ
ンテトラカルボン酸二無水物、ビフェニルテトラカルボ
ン酸二無水物またはヘキサフルオロイソプロピリデン−
2,2−ビスフタル酸二無水物から誘導されるテトラカ
ルボン酸エステルの混合物は特に有利と判明した。
【0027】テトラカルボン酸エステルのエステル基
は、例えばメタノール、エタノール、プロパノール、イ
ソプロパノール、ブタノールまたはイソブタノールのよ
うな、C1 −C20−アルカノールならびに対応するより
高級同族体から誘導される。シクロアルキルエステルも
適当であり、シクロヘキシルおよびメチルシクロヘキシ
ルエステルが好ましい。また、適当なアルコール成分は
芳香族アルコール、例えばフェノール、クモールもしく
はクレゾール、または部分芳香族アルコール、例えばベ
ンジルアルコール、1−ヒドロキシ−2−フェニルエタ
ン、1−ヒドロキシ−3−フェニルエタンもしくはアル
コキシフェニルアルコール、例えばフェノキシエチル、
フェノキシプロピルもしくはフェノキシブチルアルコー
ル、ならびにモノフェノキシエチレングリコールまたは
モノフェノキシプロピレングリコールである。
は、例えばメタノール、エタノール、プロパノール、イ
ソプロパノール、ブタノールまたはイソブタノールのよ
うな、C1 −C20−アルカノールならびに対応するより
高級同族体から誘導される。シクロアルキルエステルも
適当であり、シクロヘキシルおよびメチルシクロヘキシ
ルエステルが好ましい。また、適当なアルコール成分は
芳香族アルコール、例えばフェノール、クモールもしく
はクレゾール、または部分芳香族アルコール、例えばベ
ンジルアルコール、1−ヒドロキシ−2−フェニルエタ
ン、1−ヒドロキシ−3−フェニルエタンもしくはアル
コキシフェニルアルコール、例えばフェノキシエチル、
フェノキシプロピルもしくはフェノキシブチルアルコー
ル、ならびにモノフェノキシエチレングリコールまたは
モノフェノキシプロピレングリコールである。
【0028】他の適当なアルコール成分は、N−ヒドロ
キシアルキルピロリドン、例えばN−ヒドロキシエチル
ピロリドンもしくはN−ヒドロキシプロピルピロリド
ン、またはN−ヒドロキシシクロアルキルピロリドン、
例えばN−ヒドロキシシクロヘキシルピロリドン、およ
びこれら物質の異性体である。
キシアルキルピロリドン、例えばN−ヒドロキシエチル
ピロリドンもしくはN−ヒドロキシプロピルピロリド
ン、またはN−ヒドロキシシクロアルキルピロリドン、
例えばN−ヒドロキシシクロヘキシルピロリドン、およ
びこれら物質の異性体である。
【0029】さらに、多官能価アルコールも少量で用い
ることができる。
ることができる。
【0030】テトラエステルの製造は、テトラカルボン
酸二無水物を前記アルコールで慣用法によりエステル化
して行われる。アルコール成分は通常5〜20倍過剰で
用いられる。エステル化は好ましくは80〜200℃で
行われる。完全なエステル化はこのような温度において
達成することができる。反応時間は1〜6時間である。
必要ならば、エステル化触媒、例えばジメチルアミノピ
リジンまたはp−トルエンスルホン酸を添加することが
できる。
酸二無水物を前記アルコールで慣用法によりエステル化
して行われる。アルコール成分は通常5〜20倍過剰で
用いられる。エステル化は好ましくは80〜200℃で
行われる。完全なエステル化はこのような温度において
達成することができる。反応時間は1〜6時間である。
必要ならば、エステル化触媒、例えばジメチルアミノピ
リジンまたはp−トルエンスルホン酸を添加することが
できる。
【0031】上述のエステルの多くは市場で入手でき
る。
る。
【0032】唯一種のアルコール成分を含有するテトラ
エステルに加えて、エステル交換反応により得ることが
できる混合エステルも使用できる。例えば、特に低級ア
ルコールのテトラエステルを高沸点アルコールで、例え
ばテトラメチルまたはテトラエチルエステルをフェノキ
シアルキルアルコールでエステル交換することができ
る。エステル交換度は臨界的ではない。
エステルに加えて、エステル交換反応により得ることが
できる混合エステルも使用できる。例えば、特に低級ア
ルコールのテトラエステルを高沸点アルコールで、例え
ばテトラメチルまたはテトラエチルエステルをフェノキ
シアルキルアルコールでエステル交換することができ
る。エステル交換度は臨界的ではない。
【0033】他の適当な成分Bはテトラエステルとジエ
ステルとの混合物であり、対称および非対称ジエステル
の両方とも用いることができる。ジエステルは一般に5
0〜80℃の比較的低エステル交換反応温度で得ること
ができる。
ステルとの混合物であり、対称および非対称ジエステル
の両方とも用いることができる。ジエステルは一般に5
0〜80℃の比較的低エステル交換反応温度で得ること
ができる。
【0034】当業者に公知のジエステルの製造において
は、少量のトリ−またはテトラエステルが形成されう
る。より少量においてのみモノエステルが形成される。
は、少量のトリ−またはテトラエステルが形成されう
る。より少量においてのみモノエステルが形成される。
【0035】精製エステルの代わりに相応する粗製エス
テルを用いるならば、当業者が知るように、粗製エステ
ルは相応する高級または低級エステルを含有してもよ
い。
テルを用いるならば、当業者が知るように、粗製エステ
ルは相応する高級または低級エステルを含有してもよ
い。
【0036】テトラエステルおよびジエステルの混合物
は80モル%以下のジエステルを含有でき、テトラエス
テル40〜60モル%およびジエステル40〜60モル
%の混合物が好ましく用いられる。テトラエステルまた
はジエステルのアルコール成分は同じでも異なってもよ
い。
は80モル%以下のジエステルを含有でき、テトラエス
テル40〜60モル%およびジエステル40〜60モル
%の混合物が好ましく用いられる。テトラエステルまた
はジエステルのアルコール成分は同じでも異なってもよ
い。
【0037】新規溶液は、好ましくはテトラエステル、
またはテトラエステルとジエステルとの混合物を含有す
る。
またはテトラエステルとジエステルとの混合物を含有す
る。
【0038】テトラカルボン酸エステルおよびジアミン
の適当な溶剤の例は、極性有機溶剤、例えば脂肪族また
は芳香族アルコール、エーテル、ケトン、アルデヒドま
たはエステルである。
の適当な溶剤の例は、極性有機溶剤、例えば脂肪族また
は芳香族アルコール、エーテル、ケトン、アルデヒドま
たはエステルである。
【0039】高極性溶剤、例えばN−メチルピロリド
ン、ホルムアミド、ジメチルホルムアミド、アルキルア
ルキレンジ尿素、例えばジメチルエチレンジ尿素または
ジメチルプロピレンジ尿素、ジメチルスルホキシド、ブ
チロラクトン、ピロリドン、ジアルキルアセトアミド、
グリコール、グリコールエステルおよびグリコールエー
テルが好ましく用いられる。
ン、ホルムアミド、ジメチルホルムアミド、アルキルア
ルキレンジ尿素、例えばジメチルエチレンジ尿素または
ジメチルプロピレンジ尿素、ジメチルスルホキシド、ブ
チロラクトン、ピロリドン、ジアルキルアセトアミド、
グリコール、グリコールエステルおよびグリコールエー
テルが好ましく用いられる。
【0040】テトラカルボン酸エステルの製造において
通常過剰量で用いられるアルコールも明らかに溶剤とし
て好ましい。
通常過剰量で用いられるアルコールも明らかに溶剤とし
て好ましい。
【0041】溶剤または溶剤混合物の選択は、実際上テ
トラカルボン酸エステルおよびジアミンの溶解度または
極性に依る。
トラカルボン酸エステルおよびジアミンの溶解度または
極性に依る。
【0042】必要ならば、脂肪族または芳香族炭化水素
のような非極性溶剤もまた溶剤混合物中に存在させるこ
とができる。
のような非極性溶剤もまた溶剤混合物中に存在させるこ
とができる。
【0043】新規溶液はテトラカルボン酸エステルおよ
びジアミンを、好ましくは1.5:1〜1:1.5、特
に好ましくは約1:1のモル比で含有する溶液の固体含
有量は、好ましくは30〜60重量%である。
びジアミンを、好ましくは1.5:1〜1:1.5、特
に好ましくは約1:1のモル比で含有する溶液の固体含
有量は、好ましくは30〜60重量%である。
【0044】溶液の製造のために、テトラカルボン酸エ
ステル、ジアミンおよび溶剤は如何なる順序で合体して
もよい。例えば、テトラカルボン酸二無水物をアルコー
ルの過剰と反応してテトラカルボン酸エステルをまず製
造し、次いで得られた混合物にジアミンを、所望により
さらに溶剤を添加することが可能である。必要ならば、
室温または高温、例えば30〜120℃、特に40〜8
0℃において、全成分を溶解するために攪拌を行う。
ステル、ジアミンおよび溶剤は如何なる順序で合体して
もよい。例えば、テトラカルボン酸二無水物をアルコー
ルの過剰と反応してテトラカルボン酸エステルをまず製
造し、次いで得られた混合物にジアミンを、所望により
さらに溶剤を添加することが可能である。必要ならば、
室温または高温、例えば30〜120℃、特に40〜8
0℃において、全成分を溶解するために攪拌を行う。
【0045】新規溶液は慣用の添加剤、例えばイミド形
成の触媒、染料、顔料、充填剤、レベリング剤および粘
度調節剤を含有することができる。
成の触媒、染料、顔料、充填剤、レベリング剤および粘
度調節剤を含有することができる。
【0046】これらは非常に広範囲の基材、例えば金
属、ガラスまたはシリコンに被膜を形成するための被覆
材料として適当である。被膜の硬化は、最終温度を好ま
しくは150〜450℃、特に好ましくは300〜40
0℃にして行われる。数段階に温度を最終温度まで徐々
に上昇して硬化工程を行うことが特に有利であると判っ
た。
属、ガラスまたはシリコンに被膜を形成するための被覆
材料として適当である。被膜の硬化は、最終温度を好ま
しくは150〜450℃、特に好ましくは300〜40
0℃にして行われる。数段階に温度を最終温度まで徐々
に上昇して硬化工程を行うことが特に有利であると判っ
た。
【0047】新規溶液はまた、厚く気泡のない平坦な被
膜を製造するために用いることができる。
膜を製造するために用いることができる。
【0048】 略語 NMP N−メチルピロリドン MPG エチレングリコールモノフェニルエーテル DMAP ジメチルアミノピリジン PTS p−トルエンスルホン酸 BPDA ビフェニルテトラカルボン酸二無水物 BTS−TM テトラメチルベンゾフェノンテトラカルボキシラート PMS ピロメリト酸 PMS−TM テトラメチルピロメリタート BAPP 2,2−ビス[4−(4−アミノフェノキシ)フェニル]プ ロパン
【0049】
例1 NMP114.10g、BPDA44.13g(0.1
5モル)、DMAP0.50gおよびMPG69.10
g(0.50モル)の混合物を120℃で30分間攪拌
し、60℃に冷却し、BTS−TM62.14g(0.
15モル)を加え、激しく攪拌しながらBAPP12
3.15g(0.30モル)を加え、60℃で60分間
攪拌を続けて、次いで冷却する。
5モル)、DMAP0.50gおよびMPG69.10
g(0.50モル)の混合物を120℃で30分間攪拌
し、60℃に冷却し、BTS−TM62.14g(0.
15モル)を加え、激しく攪拌しながらBAPP12
3.15g(0.30モル)を加え、60℃で60分間
攪拌を続けて、次いで冷却する。
【0050】実質的に全てのアルデヒド基が転化するの
を保証するためにMPGの過剰量を使用する。
を保証するためにMPGの過剰量を使用する。
【0051】例2 最初にNMP100.00gおよびMPG80.00g
を取り、それにDMAP0.50gを攪拌しながら溶解
し、PMS−TM93.08g(0.30モル)を60
℃で完全に攪拌して加える。次いでBAPP123.1
5g(0.30モル)を加えて60℃で60分間攪拌を
続け、冷却する。
を取り、それにDMAP0.50gを攪拌しながら溶解
し、PMS−TM93.08g(0.30モル)を60
℃で完全に攪拌して加える。次いでBAPP123.1
5g(0.30モル)を加えて60℃で60分間攪拌を
続け、冷却する。
【0052】例3 最初にNMP250.00gおよびMPG280.00
gを取り、それにPMS−TM93.08g(0.30
モル)を攪拌しながら溶解し、PTS0.50gの添加
後、130℃に加熱し、この温度に1時間保つ。次いで
水流ポンプによる減圧下110〜125℃で留出物33
8.00gを低温に冷却した受器中へ留去し、60℃に
冷却する。BAPP123.15g(0.30モル)を
60℃で完全に攪拌して加え、60℃で60分間攪拌を
続け、冷却する。
gを取り、それにPMS−TM93.08g(0.30
モル)を攪拌しながら溶解し、PTS0.50gの添加
後、130℃に加熱し、この温度に1時間保つ。次いで
水流ポンプによる減圧下110〜125℃で留出物33
8.00gを低温に冷却した受器中へ留去し、60℃に
冷却する。BAPP123.15g(0.30モル)を
60℃で完全に攪拌して加え、60℃で60分間攪拌を
続け、冷却する。
【0053】GC分析によれば、留出物はメタノール1
1.7gを含有し、かくして、ピロメリト酸のメチルお
よびMPGエステルの混合物がエステル交換反応により
形成された。
1.7gを含有し、かくして、ピロメリト酸のメチルお
よびMPGエステルの混合物がエステル交換反応により
形成された。
【0054】例4(比較例) 最初にNMP100.00gを取り、それにPMDA6
5.45g(0.30モル)を攪拌しながら懸濁し、D
MAP0.50gおよびメタノル128.00g(1.
0モル)を加え、70℃で60分間攪拌し、BAPP1
23.15g(0.30モル)を加え、60℃で60分
間攪拌を続け、冷却する。
5.45g(0.30モル)を攪拌しながら懸濁し、D
MAP0.50gおよびメタノル128.00g(1.
0モル)を加え、70℃で60分間攪拌し、BAPP1
23.15g(0.30モル)を加え、60℃で60分
間攪拌を続け、冷却する。
【0055】実質的に全てのアルデヒド基が転化するの
を保証するためにメタノールの過剰量を使用する。
を保証するためにメタノールの過剰量を使用する。
【0056】
【表1】 (1)室温で50日後、o.k.は外観、粘度およびフ
ィルム形成で変化がないことを意味する。
ィルム形成で変化がないことを意味する。
【0057】(2)120mm直径のシート状金属覆い
上に2g重量をサンプリングし、空気下300℃で2時
間後の残量。
上に2g重量をサンプリングし、空気下300℃で2時
間後の残量。
【0058】(3)溶液を楔形ニップをもつナイフ塗布
機を用いて金属シート上に塗布し、10℃/minの速
度で300℃まで加熱し、次いでこの温度に1時間保持
する。冷却後、平滑な気泡のないフィルムが得られる最
高の層厚を測定する。
機を用いて金属シート上に塗布し、10℃/minの速
度で300℃まで加熱し、次いでこの温度に1時間保持
する。冷却後、平滑な気泡のないフィルムが得られる最
高の層厚を測定する。
【0059】(4)楔形ニップを用いて被覆された
(3)からの金属シートを、マンドレル試験機の1mm
直径の試験マンドレル上に曲げる。
(3)からの金属シートを、マンドレル試験機の1mm
直径の試験マンドレル上に曲げる。
【0060】例1、2および3は、高エステル化テトラ
カルボン酸を含有する新規溶液が純粋なジエステルを含
有する例4(比較例)に比較して進歩向上を示してい
る。進歩向上は特に肉厚層においてもフィルム形成能に
おいて優れる。
カルボン酸を含有する新規溶液が純粋なジエステルを含
有する例4(比較例)に比較して進歩向上を示してい
る。進歩向上は特に肉厚層においてもフィルム形成能に
おいて優れる。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 ゲールハルト、ホフマン ドイツ、67166、オターシュタット、パペ ルシュトラーセ、22
Claims (3)
- 【請求項1】 A) 芳香族もしくは部分芳香族ジアミ
ンおよび B) イミド形成芳香族もしくは部分芳香族テトラカル
ボン酸のテトラエステルまたはこのテトラエステルと相
応するトリ−、ジ−もしくはモノエステルとの混合物を
含有するポリイミド形成物質溶液。 - 【請求項2】 請求項1に記載のポリイミド形成物質溶
液を被膜の製造に使用する方法。 - 【請求項3】 請求項1に記載のポリイミド形成物質溶
液を被覆材料として使用して得られる、ポリイミドで被
覆された物品。
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
DE4313246A DE4313246A1 (de) | 1993-04-23 | 1993-04-23 | Lösungen polyimidbildender Substanzen und deren Verwendung als Beschichtungsmittel |
DE4313246.4 | 1993-04-23 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH073020A true JPH073020A (ja) | 1995-01-06 |
Family
ID=6486145
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP6056472A Pending JPH073020A (ja) | 1993-04-23 | 1994-03-28 | ポリイミド形成物質溶液およびその被覆材料としての用途 |
Country Status (6)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US5489644A (ja) |
EP (1) | EP0621299B1 (ja) |
JP (1) | JPH073020A (ja) |
AT (1) | ATE155156T1 (ja) |
CA (1) | CA2119515A1 (ja) |
DE (2) | DE4313246A1 (ja) |
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Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2014159551A (ja) * | 2013-01-28 | 2014-09-04 | Jnc Corp | 熱硬化性組成物、硬化膜および電子部品 |
Family Cites Families (9)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US3347808A (en) * | 1966-07-05 | 1967-10-17 | Monsanto Co | Coating compositions |
US3700649A (en) * | 1971-07-06 | 1972-10-24 | Int Harvester Co | Polyimides of benzophenone tetracarboxylic acid esters and aromatic diamines having a basicity constant of less than 10-" and method of preparation |
EP0048080B1 (en) * | 1980-09-12 | 1988-07-06 | Imi-Tech Corporation | Polyimides |
US4874835A (en) * | 1987-09-14 | 1989-10-17 | General Electric Company | Polyetherimides and precursors therefor from oxydiphtalic anhydride diester and a mixture of diamines |
JPH0696570B2 (ja) * | 1987-10-30 | 1994-11-30 | 宇部興産株式会社 | ビフェニルテトラカルボン酸二無水物の製造法 |
US4960824A (en) * | 1988-09-26 | 1990-10-02 | General Electric Company | Storage stable polyimide precursor solutions and method of preparation |
US5004627A (en) * | 1989-10-10 | 1991-04-02 | Ethyl Corporation | Polyimides for mold release |
DE4135058A1 (de) * | 1991-10-24 | 1993-04-29 | Basf Lacke & Farben | Loesungen von polyimidbildenden ausgangsstoffen |
DE4135056A1 (de) * | 1991-10-24 | 1993-04-29 | Basf Lacke & Farben | Loesungen von polyimidbildenden ausgangsstoffen |
-
1993
- 1993-04-23 DE DE4313246A patent/DE4313246A1/de not_active Withdrawn
-
1994
- 1994-03-21 CA CA002119515A patent/CA2119515A1/en not_active Abandoned
- 1994-03-28 JP JP6056472A patent/JPH073020A/ja active Pending
- 1994-03-31 US US08/220,496 patent/US5489644A/en not_active Expired - Fee Related
- 1994-04-08 AT AT94105423T patent/ATE155156T1/de not_active IP Right Cessation
- 1994-04-08 DE DE59403276T patent/DE59403276D1/de not_active Expired - Fee Related
- 1994-04-08 EP EP94105423A patent/EP0621299B1/de not_active Expired - Lifetime
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
EP0621299B1 (de) | 1997-07-09 |
DE4313246A1 (de) | 1994-10-27 |
EP0621299A1 (de) | 1994-10-26 |
CA2119515A1 (en) | 1994-10-24 |
US5489644A (en) | 1996-02-06 |
ATE155156T1 (de) | 1997-07-15 |
DE59403276D1 (de) | 1997-08-14 |
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