JPH07295143A - 写真フィルム支持体、写真要素及び写真フィルム支持体の製造方法 - Google Patents

写真フィルム支持体、写真要素及び写真フィルム支持体の製造方法

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JPH07295143A
JPH07295143A JP7088167A JP8816795A JPH07295143A JP H07295143 A JPH07295143 A JP H07295143A JP 7088167 A JP7088167 A JP 7088167A JP 8816795 A JP8816795 A JP 8816795A JP H07295143 A JPH07295143 A JP H07295143A
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layer
film
photographic
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antistatic
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JP7088167A
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English (en)
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Charles T Havens
トーマス ヘブンス チャールズ
John E Rieth
エドワード リース ジョン
Alfred B Fant
ブルース ファント アルフレッド
Raymond T Jones
トーマス ジョーンズ レイモンド
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Eastman Kodak Co
Original Assignee
Eastman Kodak Co
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    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03CPHOTOSENSITIVE MATERIALS FOR PHOTOGRAPHIC PURPOSES; PHOTOGRAPHIC PROCESSES, e.g. CINE, X-RAY, COLOUR, STEREO-PHOTOGRAPHIC PROCESSES; AUXILIARY PROCESSES IN PHOTOGRAPHY
    • G03C1/00Photosensitive materials
    • G03C1/76Photosensitive materials characterised by the base or auxiliary layers
    • G03C1/85Photosensitive materials characterised by the base or auxiliary layers characterised by antistatic additives or coatings

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  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Laminated Bodies (AREA)
  • Coating Of Shaped Articles Made Of Macromolecular Substances (AREA)

Abstract

(57)【要約】 【目的】 現像されたフィルムネガへのごみ蓄積を少な
くするための写真フィルム支持体を提供する。 【構成】 上表面及び下表面並びに上表面と下表面との
間に存する帯電防止層を有するクリアーで透明なポリマ
ーフィルムからなる写真フィルム支持体並びに帯電防止
剤を含有するフィルム形成性被覆組成物を第一のクリア
ーで透明なポリマーフィルムに適用してポリマーフィル
ム上に帯電防止層を形成せしめ、そして帯電防止層の自
由表面を第一のポリマーフィルムと同じ化学組成を有す
る第二のポリマーフィルムでオーバーコートすることか
らなる写真フィルム支持体の製造方法。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は写真要素、特に改良され
た写真要素用の写真フィルム支持体に関する。
【0002】
【従来の技術】可塑化セルローストリアセテートは写真
支持体としての広範囲な用途が見出されてきた。これら
の支持体はセルローストリアセテートドープをホイール
又はバンド上に流延し、溶媒を蒸発させて、次の処理の
ために流延表面から剥がすことができる点にまでシート
を硬化させることによって製造される。この方法の改善
に於いて、ドープの第二層を予め流延したトリアセテー
トシートに適用し、次いで乾燥して二層構造を形成させ
る。基本的な利点は単層流延に比較して多層流延につい
てのより高い速度である。
【0003】実際問題として、写真支持体は再生利用で
きなくてはならない。通常の製造廃物を単純に棄てるこ
とは法外なコストになるであろう。フレークにしたセル
ローストリアセテート廃物についての典型的な回収サイ
クルは、一連の洗浄及び濯ぎサイクル中に存在する全て
の乳剤及びバッキング層を除去し、次いでこれを溶媒中
に再溶解して流延のためのドープを作る。このドープは
透明で均質な支持体を作らなくてはならない。
【0004】静電荷の蓄積の問題を克服するために、帯
電防止層を設けることが写真要素の製造に於ける従来の
常套手段である。写真要素に使用するために広範囲の種
々の帯電防止層が知られている。米国特許第4,20
3,769号に記載されている一つの特に有用な帯電防
止剤は五酸化バナジウムである。この帯電防止層は普
通、帯電防止剤を写真現像液による劣化から保護するた
めにバリヤー層でオーバーコートされている。これらの
オーバーコートは、フィルムの外側バッキング層であっ
てもよく、又は次いで写真乳剤層のような追加の機能層
でオーバーコートされていてもよい。
【0005】これらのバリヤー層又はオーバーコートは
帯電防止層の劣化を十分に防ぐ役割を果たす。しかしな
がら、これらは製品及びその製造工程の複雑さを増し、
そしてコストを増大させる。更に、現像液中の水につい
てのこれらの層のバリヤー性は、支持体性能の他の面を
損なうかも知れない特定の性能条件を必要とする。例え
ば、疎水性層は現像処理の間のフィルム支持体の適当な
水切れを妨げ、それ故現像した画像上に水斑を残す。更
に、フィルム支持体の乳剤側に帯電防止層を設けること
を望む場合には、乳剤層は疎水性層に対して接着力が劣
るので、接着促進層を含ませることが一般的に必要であ
る。
【0006】一般に、写真製品で用いられる帯電防止剤
は製造操作の間に移送により蓄積される電荷の消散を容
易にするために表面に又は表面近傍に配置される。この
目的のためには有効であるが、この帯電防止層の位置
は、写真現像液によってその導電性が減少するか又は完
全に無くなるおそれがある。意図的に除去される帯電防
止層の例はハレーション防止層としても使用される導電
性カーボン皮膜であり、これは映写を可能にするために
後で除去される。その導電性が思いがけず減少する帯電
防止層の例は、種々のネガ及びポジ画像形成性要素で用
いられるイオン性導体であるポリ(ベンジルトリメチル
アンモニウムクロリド−共−エチレングリコールジメタ
クリレート)である。それ故、現像されたフィルムネガ
へのごみの蓄積を減少させるために、写真要素用の永久
的工程残存性(process surviving)帯電防止剤につい
てのニーズがある。
【0007】
【課題を解決するための手段】本発明は、写真フィルム
支持体が上表面及び下表面並びに上表面と下表面との間
に存する帯電防止層を有するクリアーで透明なポリマー
フィルムである写真フィルム支持体並びにこのフィルム
支持体上に少なくとも1個のハロゲン化銀感光性層を有
する写真要素を提供する。即ち、本発明は、先行技術方
法により工程残存性機能を得るために必要な層の数を減
少させる付随する利点を有する工程残存性帯電防止剤性
能を有する写真要素を提供する。
【0008】本発明は、例えば、溶媒溶液から容易に流
延されるセルローストリアセテート、セルロースジアセ
テート、セルロースアセテートブチレート、硝酸セルロ
ース、ポリスチレン、ポリオレフィン等のような溶液流
延写真フィルム支持体に最も適用することができ、それ
でこれらの支持体が好ましい。しかしながら、本発明は
またポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタ
レート、ポリカーボネート等を含むポリエステルのよう
な溶融流延されるポリマーからの写真フィルム支持体に
も適用することができる。
【0009】溶液流延法による写真フィルム支持体の製
造に於いて、この目的のためにセルローストリアセテー
トが広く用いられてきており、上記のようにその他の適
当な材料も使用することができるが、単純化する目的で
セルローストリアセテートを本発明に於いて引用する。
セルローストリアセテートをポリマーの溶媒溶液である
ドープの形態でホイール又は連続バンドのような適当な
表面上に流延する。米国特許第2,932,855号に
教示されているものに従う共流延のようなどのような適
当な方法も、流延するときセルローストリアセテートの
表面に帯電防止層を適用するために使用することがで
き、この場合セルローストリアセテートベース支持体と
帯電防止層との両方を上記の特許に示されているような
適当な流延装置により同時に流延して、多層構造を得
る。更に、本発明による構造を得るために帯電防止層の
上の第三の層を同時に流延することができる。同様に、
セルローストリアセテート材料の第一の層を流延表面上
に流延し、次いで帯電防止層及びセルローストリアセテ
ートの第二の層を最初の流延ステーションから移動させ
た流延ステーションで適用することができる。これは一
般に多流延と呼ばれる。この方法に於いて、帯電防止層
を一つの流延ステーションで適用し、第二のセルロース
トリアセテート層を第二の多流延ステーションで適用す
ることができる。また、両方の層を、上記の特許に記載
されているような適当な装置を使用する単一分離流延ス
テーションで最初のセルローストリアセテート層に適用
してもよい。本発明により種々の層を適用するためのそ
の他の適当な方法には、浸漬ロールコーティング、押出
コーティング、グラビア及びスキムパンエアーナイフが
含まれる。
【0010】本発明による好ましい態様に於いて、第二
の帯電防止層をセルローストリアセテートフィルムの何
れかの外表面に適用することができる。これは好ましく
は別の流延ステーション又は内側セルローストリアセテ
ート若しくはジアセテート層と組み合わせた共流延によ
ってライン内で行われる。この第二の帯電防止層に滑剤
を添加することが望ましいかも知れない。更に、第二の
帯電防止層は工程残存性であってもよく、又は所望する
ことに依存して上記のフィルム支持体に形成される写真
要素の現像処理で除去してもよい。例えば、第二の帯電
防止層がハレーション防止層として機能する場合には、
写真要素の現像処理は映画フィルムの現像で現在使用さ
れているようにこの層を除去するようになるであろう。
第二の帯電防止層は本発明による支持体を使用して写真
要素のどのような適当な位置に適用してもよい。
【0011】上記のように、本発明はまたポリエステル
等のような溶融流延フィルムの製造に適用することがで
きる。この方法に於いて、適当なフィルムベースを形成
するために、ポリエチレンテレフタレートのような溶融
ポリマーを表面上に流延し、機械方向及び横方向に延伸
することによって配向させそして熱処理する、このフィ
ルムの製造のための通常の方法が使用される。米国特許
第4,042,569号、同第4,497,865号、
同第4,617,164号及び同第5,093,064
号にはこの方法が記載されている。上記のようにしてフ
ィルムを形成した後、これに帯電防止層を適用する。帯
電防止層をフィルムに適当に接着させることを可能にす
るために接着促進皮膜をフィルムに最初に添加すること
が望ましいか又は必要である。これはポリエチレンテレ
フタレートのようなポリエステルフィルムの製造に於い
て普通に行われており、時々延伸工程の前又は間にポリ
エステルに適用される。帯電防止層をこれに適用した
後、ポリマーの溶液流延工程を含む全ての適当な方法に
よって適用することができる同じポリマーのオーバーコ
ートを帯電防止層の上に形成することができる。第二の
接着促進層が必要であるかも知れない。上記のように、
製造の容易性及び製造工程で必要な工程の数のために、
本発明は特に溶液流延フィルムの製造に適用することが
できる。
【0012】本発明の実施に於いて、米国特許第3,0
33,679号に開示されているようなコポリマーのア
ルカリ金属塩、米国特許第3,437,484号に開示
されているようなポリビニルアルコールバインダー中の
塩化ナトリウム又は塩化カリウムのようなアルカリ金属
塩、米国特許第3,525,621号に開示されている
ようなコロイドシリカと有機帯電防止剤との組合せ、米
国特許第3,630,740号に開示されているような
イオン性フィルム形成性高分子電解質、米国特許第3,
681,070号に開示されているようなスルホン酸基
を含有する有機コポリマー、米国特許第4,542,0
95号に開示されているような非イオン性界面活性ポリ
マー及びアルカリ金属塩、米国特許第4,916,01
1号に開示されているような架橋スチレンスルホネート
−マレイン酸コポリマー、米国特許第4,203,76
9号に開示されているような五酸化バナジウム帯電防止
剤、米国特許第4,237,194号、同第4,30
8,332号及び同第4,526,706号に開示され
ているようなポリアニリン塩含有帯電防止層、米国特許
第4,070,189号に開示されているような第四級
アンモニウムポリマー帯電防止層、米国特許第4,39
4,441号、同第4,418,141号及び同第4,
495,276号に開示されているような導電性金属酸
化物等のようなどのような適当な帯電防止性物質も本発
明によるフィルム支持体の中間層又はトップ層として適
用することができる。上記の特許に記載された特定の帯
電防止性物質の被覆量及び適用方法を、本発明による帯
電防止層を製造する際に使用することができる。引用し
た特許のそれぞれを本明細書に参照して含める。
【0013】本発明による帯電防止剤を含有するフィル
ム支持体上の写真要素は一般的に、少なくとも1個のハ
ロゲン化銀乳剤層のような感光性層からなっている。こ
の層は例えば、当該技術分野で公知であるような増感色
素で特定の放射線スペクトルに対して増感することがで
きる。追加の感光性層をスペクトルの他の部分に対して
増感してもよい。感光性層はそれに付随する色素形成性
化合物又はカプラーを含むか又は有していてよい。例え
ば、赤感光性乳剤は一般的にそれに付随するシアンカプ
ラーを有し、緑感光性乳剤はイエローカプラーを付随す
るであろう。マット粒子を含むか又は含まないオーバー
コート層、下塗層、界面活性剤、フィルター色素、保護
層、バリヤー層、現像抑制剤放出型化合物等のようなそ
の他の層及び添加物が、当該技術分野で公知のように本
発明の写真要素中に存在していてもよい。写真要素並び
にその種々の層及び添加物の詳細な記述は、Research D
isclosure (リサーチディスクロージャー)17643及びJa
mes 著、写真処理の理論(The Theory of the Photogra
phic Process)、第4版、1977年に記載されてい
る。
【0014】本発明による写真要素は、参照して本明細
書に含めるResearch Disclosure 22534 、1983年1月に
開示されている。更に、参照して本明細書に全部を含め
る米国特許第4,980,267号に開示されている感
光性要素は、本発明によるオーバーコート層による保護
に特に適用することができる。所望ならば、Kenneth Ma
son Publications, Ltd., Dudley Annex, 12a NorthStr
eet, Emsworth, Hampshire P010 7DQ, 英国により刊行
されたResearch Disclosure, 1992 年11月、Item 34390
(その内容を参照して本明細書に含める)に記載されて
いるように、写真要素を適用された磁性層と一緒に使用
することができる。
【0015】
【実施例】下記の例で本発明を更に説明する。
【0016】例1 2個のセルローストリアセテートの層の間に五酸化バナ
ジウム帯電防止層を挟むことによって写真支持体を製造
した。帯電防止被覆組成物は下記のようにして製造し
た。帯電防止被覆溶液 アセトン 40.54% エタノール 44.95% 水 14.36% 硝酸セルロース 0.10% 五酸化バナジウム 0.05%
【0017】この被覆溶液を浸漬ロールコーティングに
よって、最終厚さが約0.1mm(0.004インチ)厚
さである実質的に硬化し、可塑化したセルローストリア
セテートシートに適用した。次いで帯電防止組成物を乾
燥して五酸化バナジウムの約8.6mg/m2 (0.8mg
/平方フィート)の乾燥重量を得た。次いでウエブを、
可塑化したセルローストリアセテートの層を五酸化バナ
ジウムの上に適用する押出ダイの方に移送した。乾燥し
たとき、この層は約0.025mm(0.001インチ)
厚さであった。乾燥した複合構造体は光学的に透明であ
った。複合構造体の抵抗率を水電極抵抗率法(WER)
により測定し、1.9×109 オーム/□であり写真応
用のための帯電防止層として受容できる値であることが
わかった。写真現像処理の後でこの抵抗率は変化しなか
った。抵抗率の測定方法は下記の通りである。
【0018】既知の幅及び長さ(典型的に1インチ×1
0インチ)のフィルム支持体片を、21℃(70°F)
及び50%RHで最小17時間コンディショニングする。
支持体片の二つの末端を直流電圧源及び電流計に接続さ
れた電極として作用する食塩水中に浸漬することによっ
て電気回路を完結させるために、この支持体片を用い
る。フィルム支持体の内部抵抗率を電圧及び電流読みか
らオームの法則により算出し、オーム/□の単位で報告
する。
【0019】例2 例1で製造した写真フィルム支持体を、フィルム支持体
の回収及び再生利用について評価した。支持体の一部を
細断し、次いで下記の処理に付した。 1)90.5℃(195°F)で苛性洗浄。 2)水濯ぎ。 3)90.5℃(195°F)で硫酸/過マンガン酸カ
リウム洗浄。 4)90.5℃(195°F)で重亜硫酸ナトリウム洗
浄。 5)4回新鮮な水濯ぎ。 6)乾燥。 7)少量成分のメチルアルコール及びブチルアルコール
を含む塩化メチレンからなるドープ溶媒混合物に溶解。 このドープは僅かに黄色色相を有し均一でクリアーであ
った。このドープから流延した写真支持体は透明で欠陥
がなかった。このドープは微粒子を除くために濾過する
ことができるが、驚くべきことにこの工程は不必要であ
った。
【0020】例3 下記の成分を一緒にして均一になるまで混合することに
よって写真支持体ドープを製造した。 ブチルアルコール 16.0g メタノール 56.0g 塩化メチレン 727.5g リン酸トリフェニル 18.6g ジメトキシエチルフタレート 1.6g セルローストリアセテート 155.3g このドープをドローナイフによってガラス板上に762
μm(30ミル)厚さの層に流延しながら、同時に例1
の帯電防止塗布溶液を第二のドローナイフによって未硬
化のドープ層の上に18μm(0.7ミル)厚さの層で
適用した。この複合構造体を乾燥して透明な支持体を得
た。この支持体は所望するならば次いで次の多流延層を
受け取ることができる。
【0021】例4 例1に於けるようにして写真支持体を製造し、次いで裏
表面を表1に記載した滑剤で約5.3mg/m2 (0.5
mg/平方フィート)で被覆した。
【0022】 表1 セルローストリアセテート上に被覆したワックス 滑剤 紙クリップ摩擦 SL92 ポリマーワックス、Daniel Products Co. 0.18 SL280 ポリエチレンワックス、Daniel Products Co. 0.29 SL508 カルナウバワックス、Daniel Products Co. 0.21 SL523 ポリマーワックス、Daniel Products Co. 0.24 カルナウバワックス 0.20
【0023】これらの支持体の外観は写真要素の製造用
に受容し得るものであった。例1の帯電防止溶液を硬化
したセルローストリアセテート支持体上に直接被覆し、
次いでセルロースジアセテート161mg/m2 (15mg
/ft2 )、硝酸セルロース53mg/m2 (5mg/ft2
及び表2に記載の滑剤21.5mg/m2 (2mg/ft2
からなるバリヤー層でオーバーコートすることによって
比較支持体を製造した。
【0024】表2 バリヤー層内の内部滑剤として被覆したワックス−比較 滑剤 外観 SL92 曇り SL280 曇り SL508 曇り SL523 曇り カルナウバワックス3型 曇り
【0025】本発明によるフィルム支持体上にワックス
を直接被覆することによって、バリヤー層内に内部滑剤
としてワックスを含有させることに比較して、良好な外
観と適当な摩擦性との組合せが得られる。皮膜の曇り外
観はワックスとバリヤー層との非相溶性のためであると
信じられる。バリヤー層上にワックスを直接被覆するこ
とは追加の被覆ステーションを必要とするのでコストを
増大させることに注目されたい。
【0026】例5 本例は二つの帯電防止層(一つは表面帯電特性を制御す
るためのものであり、他のものは工程残存性帯電防止性
を与えることを意図するものである)を用いたフィルム
支持体を記載する。例1に記載したような写真支持体を
製造して、バッキング層に被覆した表3に記載した滑剤
を有するフィルム構造体A及びBを作った。中間帯電防
止層無しにトリアセテートの2個の層及び表3の滑剤を
含む皮膜を多流延することによって、第二の写真フィル
ム構造体Cを製造した。続いて、フィルム支持体を、5
0%相対湿度での衝突電荷(impact charge )、摩擦係
数及び写真現像処理後のWER導電率について評価し
た。衝突電荷は下記のようにして測定する。
【0027】抵抗率についての試験に於けるようにして
コンディショニングしたフィルム片を静電除去器(stat
ic eliminator )に通し、次いで対象の表面に制御した
様式で電気的に絶縁されたステンレススチール製プラン
ジャーで衝撃を加える。衝突ヘッドに生じた静電荷の量
を測定し、試験表面に生じた電荷と関連付ける。この衝
突電荷をマイクロクーロン/平方メートルで報告する。
絶対値が大きくなるほど、表面は実際の使用で電荷分離
を一層起こし易くなるであろう。2種の滑剤の一つであ
るセチルリン酸カリウムは湿潤環境下でのイオン伝導の
結果として電荷を消散し得る。
【0028】 表3 フィルム構造体A フィルム構造体B フィルム構造体C フィルムベース 導電性 導電性 非導電性 滑剤(21.5mg/m2) セチルリン酸 Byk331(シリコー セチルリン酸 カリウム ンポリエーテル) カリウム 金属対バック衝突 −15 −120 −15 電荷(マイクロク ーロン/m2) C41処理したWER 6.3×108 6.3×108 1012 (オーム/□) 摩擦係数 0.24 0.20 0.24
【0029】衝突電荷試験に於いて、絶対値が小さくな
るほど、フィルムを接地していない金属ローラの上に移
送するとき静電保護が一層強くなる。それで、これに関
して帯電防止剤を適用した表面と共に変動させることが
好ましい。現像されたネガに蓄積されたごみを減少させ
るので、109 オーム/□以下のWER導電率が適当で
ある。本発明によるこの試料は工程残存性導電率を与え
る。
【0030】例6 本例は二つの帯電防止層(一つはハレーション防止性を
与えながら表面帯電特性を制御することを意図するもの
であり、他のものは工程残存性帯電防止性を与えること
を意図するものである)を用いたフィルム支持体を記載
する。
【0031】例1に記載したような写真支持体を製造し
て下記のフィルム構造体Aを作った。比較フィルム構造
体Bを作るために、第二の写真フィルム支持体を中間帯
電防止層無しにトリアセテートの2個の層を多流延する
ことによって製造した。続いて、両方のフィルム支持体
に米国特許第4,914,011号(本明細書に参照し
て含める)に記載されているような写真技術分野に於い
て公知の導電性カーボン組成物を被覆し、写真現像処理
及び導電性カーボン層の除去後にWER導電率について
評価した。結果を表4に示す。
【0032】 表4 フィルム構造体A フィルム構造体B フィルムベース 導電性 非導電性 処理したWER(オーム/□) 6.3×108 1012 109 オーム/□以下の導電率は静電保護を与え、フィ
ルムを見る際に好ましくない取り扱い及び映写の間にフ
ィルム上に蓄積されるごみを減少させる。この試験は公
知の表面適用導電性カーボン組成物に加えて工程残存性
導電性フィルムベースを使用することの利点を示してい
る。
【0033】例7 ハレーション防止層を有する例6Aのセルローストリア
セテートフィルム支持体を、セルローストリアセテート
支持体の他の側に下記の層で順に被覆する(被覆量はg
/m2 である)。
【0034】接着促進層 この層には硝酸セルロース0.05g/m2 及びゼラチ
ン0.10g/m2 が含まれている。
【0035】低感度シアン色素形成性層 この層は、赤増感立方体臭沃化銀乳剤(1.5モル%沃
化物)(0.31μm粒子サイズ)(1.16g/
2 )及び赤増感平板状粒子臭沃化銀乳剤(3モル%沃
化物)(0.75μm直径×0.14μm厚さ)(1.
31)、化合物J(0.965)、化合物F(0.01
1)、化合物L(0.65)並びにゼラチン(2.9
6)のブレンドからなる。
【0036】高感度シアン色素形成性層 この層は、1.40μmの直径及び0.12μmの厚さ
を有する赤増感平板状粒子臭沃化銀乳剤(6モル%沃化
物)(0.807)、化合物J(0.102)、化合物
K(0.065)、化合物L(0.102)及びゼラチ
ン(1.506)からなる。
【0037】中間層 この層は化合物F(0.054)、カブリ防止剤及びゼ
ラチン(1.291)からなる。
【0038】低感度マゼンタ色素形成性層 この層は、緑増感平板状粒子臭沃化銀乳剤(3モル%沃
化物)(粒子直径0.55μm及び厚さ0.08μm)
(0.473)及び平板状粒子臭沃化銀乳剤(3モル%
沃化物)(粒子直径0.52μm及び厚さ0.09μ
m)(0.495)、化合物G(0.161)、化合物
I(0.108)並びにゼラチン(2.916)のブレ
ンドからなる。
【0039】高感度マゼンタ色素形成性層 この層は、緑増感平板状粒子臭沃化銀乳剤(3モル%沃
化物)(粒子直径1.05μm及び厚さ0.12μm)
(0.536)及び平板状粒子臭沃化銀乳剤(3モル%
沃化物)(粒子直径0.75μm及び厚さ0.14μ
m)、化合物G(0.258)、化合物H(0.05
4)並びにゼラチン(1.119)のブレンドからな
る。
【0040】中間層 この層はCarey−Lea銀(0.43)、化合物F
(0.054)、カブリ防止剤及びゼラチン(0.86
1)からなる。
【0041】低感度イエロー色素形成性層 この層は、青増感平板状粒子臭沃化銀乳剤(3モル%沃
化物)(粒子直径0.57μm及び厚さ0.12μm)
(0.274)及び青増感臭沃化銀乳剤(0.3モル%
沃化物)(粒子直径0.52μm及び厚さ0.09μ
m)(0.118)、化合物C(1.022)、化合物
D(0.168)並びにゼラチン(1.732)のブレ
ンドからなる。
【0042】高感度イエロー色素形成性層 この層は、青増感平板状粒子臭沃化銀乳剤(3モル%沃
化物)(粒子直径1.10μm及び厚さ0.12μm)
(0.43)、化合物C(0.161)、化合物D
(0.054)、化合物E(0.003)及びゼラチン
(0.791)のブレンドからなる。
【0043】UV吸収層 この層はハロゲン化銀リップマン乳剤(0.215)、
化合物A(0.108)、化合物B(0.106)及び
ゼラチン(0.538)からなる。
【0044】オーバーコート この層は、1992年10月30日付けで出願され本願
と同一の譲受人に譲渡された出願中の米国特許出願第0
7/968,801号(本明細書に参照して含める)に
記載されているようなビニルトルエンで被覆した不溶性
シリカマット粒子からなる。このようにして製造した写
真フィルムに35mmフォーマットで穴を開け、このフィ
ルムを35mmカメラ内で露光し、標準現像焼付け機で現
像処理した。現像処理したフィルムを標準現像焼付け高
速プリンターでプリントした。未露光、露光済み及び現
像済みフィルムには帯電防止性のために欠陥が無かっ
た。現像処理前及び現像処理後の写真要素のWER導電
率は実質的に同じものであった。上記の化合物A〜Lの
構造は下記の通りである。
【0045】
【化1】
【0046】
【化2】
【0047】
【化3】
【0048】
【化4】
【0049】本発明の態様を以下に説明する。 1.上表面及び下表面並びに上表面と下表面との間に存
する帯電防止層を有するクリアーで透明なポリマーフィ
ルムからなる写真フィルム支持体。 2.帯電防止層に五酸化バナジウムが含有されている態
様1記載の写真フィルム支持体。 3.ポリマーフィルムがセルロースアセテートである態
様1記載の写真フィルム支持体。 4.ポリマーフィルムがセルローストリアセテートであ
る態様3記載の写真フィルム支持体。 5.第二の帯電防止層がポリマーフィルムの上側表面上
に配置されている態様1記載の写真フィルム支持体。 6.第二の帯電防止層に滑剤が含まれている態様5記載
の写真フィルム支持体。 7.第二の帯電防止層にハレーション防止剤が含まれて
いる態様5記載の写真フィルム支持体。 8.潤滑層がポリマーフィルムの上側表面上に配置され
ている態様1記載の写真フィルム支持体。 9.少なくとも1個の感光性ハロゲン化銀層を支持体上
に有し、該支持体が上表面及び下表面並びに上表面と下
表面との間に保持された帯電防止層を有するクリアーで
透明なポリマーフィルムからなる写真要素。 10.帯電防止層に五酸化バナジウムが含有されている
態様9記載の写真要素。 11.ポリマーフィルムがセルローストリアセテートで
ある態様9記載の写真要素。 12.第二の帯電防止層がポリマーフィルムの上側表面
上に配置されている態様9記載の写真要素。 13.第二の帯電防止層に滑剤が含まれている態様12
記載の写真要素。 14.第二の帯電防止層にハレーション防止剤が含まれ
ている態様12記載の写真要素。 15.潤滑層が感光性層を含む表面とは反対側のポリマ
ーフィルムの表面上に配置されている態様9記載の写真
要素。 16.帯電防止剤を含有するフィルム形成性被覆組成物
を第一のクリアーで透明なポリマーフィルムに適用して
ポリマーフィルム上に帯電防止層を形成せしめ、そして
この帯電防止層の自由表面を第一のポリマーフィルムと
同じ化学組成を有する第二のポリマーフィルムでオーバ
ーコートすることからなる写真フィルム支持体の製造方
法。 17.第一及び第二のポリマーフィルムがセルロースア
セテートである態様16記載の方法。 18.第一及び第二のポリマーフィルムがセルロースト
リアセテートである態様17記載の方法。
【0050】以上、本発明の好ましい態様と考えられる
ものを示し記載したが、種々の変更、代替及び修正を付
属する請求の範囲により定義される本発明の範囲から離
れることなく本発明に於いてなすことができることは当
業者に明かなことである。本発明をその好ましい態様を
特に参照して詳細に記載したが、その変更及び修正が本
発明の精神及び範囲内で有効であることはいうまでもな
い。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 アルフレッド ブルース ファント アメリカ合衆国,ニューヨーク 14626, ロチェスター,パイン バレー 158 (72)発明者 レイモンド トーマス ジョーンズ アメリカ合衆国,ニューヨーク 14580, ウェブスター,ガーデン レーン 958

Claims (3)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 上表面及び下表面並びに上表面と下表面
    との間に存する帯電防止層を有するクリアーで透明なポ
    リマーフィルムからなる写真フィルム支持体。
  2. 【請求項2】 少なくとも1個の感光性ハロゲン化銀層
    を支持体上に有してなり、該支持体が上表面及び下表面
    並びに上表面と下表面との間に存する帯電防止層を有す
    るクリアーで透明なポリマーフィルムからなる写真要
    素。
  3. 【請求項3】 帯電防止剤を含有するフィルム形成性被
    覆組成物を第一のクリアーで透明なポリマーフィルムに
    適用してポリマーフィルム上に帯電防止層を形成せし
    め、そしてこの帯電防止層の自由表面を第一のポリマー
    フィルムと同じ化学組成を有する第二のポリマーフィル
    ムでオーバーコートすることを含んでなる写真フィルム
    支持体の製造方法。
JP7088167A 1994-04-14 1995-04-13 写真フィルム支持体、写真要素及び写真フィルム支持体の製造方法 Pending JPH07295143A (ja)

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