JPH07283122A - 周辺露光装置 - Google Patents
周辺露光装置Info
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- JPH07283122A JPH07283122A JP6089131A JP8913194A JPH07283122A JP H07283122 A JPH07283122 A JP H07283122A JP 6089131 A JP6089131 A JP 6089131A JP 8913194 A JP8913194 A JP 8913194A JP H07283122 A JPH07283122 A JP H07283122A
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- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F9/00—Registration or positioning of originals, masks, frames, photographic sheets or textured or patterned surfaces, e.g. automatically
- G03F9/70—Registration or positioning of originals, masks, frames, photographic sheets or textured or patterned surfaces, e.g. automatically for microlithography
- G03F9/7003—Alignment type or strategy, e.g. leveling, global alignment
- G03F9/7007—Alignment other than original with workpiece
- G03F9/7011—Pre-exposure scan; original with original holder alignment; Prealignment, i.e. workpiece with workpiece holder
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
- G03F7/70216—Mask projection systems
- G03F7/70358—Scanning exposure, i.e. relative movement of patterned beam and workpiece during imaging
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
- G03F7/70691—Handling of masks or workpieces
- G03F7/70791—Large workpieces, e.g. glass substrates for flat panel displays or solar panels
Abstract
(57)【要約】
【目的】 安価で、組立が容易で、且つ高精度の周辺露
光装置を提供する。 【構成】 基板位置検出機構６Ａ，６Ｂ，６Ｃで紫外線
照射ヘッド２の走査方向に対する角形基板１の基準辺１
ａの傾きを検出し、紫外線照射ヘッド２の移動軌跡が角
形基板１の基準辺１ａと平行になるように、基板位置検
出機構６Ａ，６Ｂ，６Ｃの検出結果に応じて、露光制御
ユニット７でＸ軸駆動ユニット４を制御するようにし
た。これにより照明光学系や遮光のためのマスクを用い
る必要も、角形基板の基準辺が紫外線の走査方向と平行
になるように角形基板をアライメントする必要もなくな
る。
光装置を提供する。 【構成】 基板位置検出機構６Ａ，６Ｂ，６Ｃで紫外線
照射ヘッド２の走査方向に対する角形基板１の基準辺１
ａの傾きを検出し、紫外線照射ヘッド２の移動軌跡が角
形基板１の基準辺１ａと平行になるように、基板位置検
出機構６Ａ，６Ｂ，６Ｃの検出結果に応じて、露光制御
ユニット７でＸ軸駆動ユニット４を制御するようにし
た。これにより照明光学系や遮光のためのマスクを用い
る必要も、角形基板の基準辺が紫外線の走査方向と平行
になるように角形基板をアライメントする必要もなくな
る。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】この発明は、角形基板の表面に形
成された感光層のうち、マスクのパターンが露光される
領域周辺の不要な感光層領域を露光する周辺露光装置に
関する。
成された感光層のうち、マスクのパターンが露光される
領域周辺の不要な感光層領域を露光する周辺露光装置に
関する。
【０００２】
【従来の技術】近年、電卓、ワープロ、パソコン、携帯
テレビ等の表示装置として液晶表示装置が広く用いられ
ている。この液晶表示装置は、対向して配置される一対
のガラス基板を有し、各ガラス基板の対向面上に、透明
薄膜電極をフォトリソグラフィ法により所望の形状に
（例えば両ガラス基板上に形成される複数の帯状透明薄
膜電極が互いに直交するように）パターニングして作ら
れる。このフォトリソグラフィのための装置として、マ
スク上に形成された原画パターンを投影光学系を介して
ガラス基板上のフォトレジスト層（感光層）に露光する
ミラープロジェクション方式のアライナーやステッパー
が使われている。
テレビ等の表示装置として液晶表示装置が広く用いられ
ている。この液晶表示装置は、対向して配置される一対
のガラス基板を有し、各ガラス基板の対向面上に、透明
薄膜電極をフォトリソグラフィ法により所望の形状に
（例えば両ガラス基板上に形成される複数の帯状透明薄
膜電極が互いに直交するように）パターニングして作ら
れる。このフォトリソグラフィのための装置として、マ
スク上に形成された原画パターンを投影光学系を介して
ガラス基板上のフォトレジスト層（感光層）に露光する
ミラープロジェクション方式のアライナーやステッパー
が使われている。
【０００３】アライナーやステッパーは、角形のガラス
基板（角形基板）のほぼ全面に複数のマスクパターン
（例えば帯状のパターン）を露光するが、通常、ガラス
基板の周辺部に幅が数ｍｍ程度の帯状の余白を作るよう
に各マスクパターンの露光位置が決められている。この
ため、フォトリソグラフィ行程でポジ型のレジストを使
うと、現像処理の後、ガラス基板の周辺部に未露光のレ
ジストが帯状に残存することになる。この残存レジスト
（すなわち角形基板の表面に形成された感光層のうち、
マスクのパターンが露光される領域周辺の不要な感光層
領域）が後のプロセス処理中に悪影響を及ぼすことがあ
るので、前記マスクパターンの露光前または後に、前記
不要な感光層領域を露光し、現像処理によりこの不要な
感光層領域を除去する必要がある。
基板（角形基板）のほぼ全面に複数のマスクパターン
（例えば帯状のパターン）を露光するが、通常、ガラス
基板の周辺部に幅が数ｍｍ程度の帯状の余白を作るよう
に各マスクパターンの露光位置が決められている。この
ため、フォトリソグラフィ行程でポジ型のレジストを使
うと、現像処理の後、ガラス基板の周辺部に未露光のレ
ジストが帯状に残存することになる。この残存レジスト
（すなわち角形基板の表面に形成された感光層のうち、
マスクのパターンが露光される領域周辺の不要な感光層
領域）が後のプロセス処理中に悪影響を及ぼすことがあ
るので、前記マスクパターンの露光前または後に、前記
不要な感光層領域を露光し、現像処理によりこの不要な
感光層領域を除去する必要がある。
【０００４】従来、前記不要な感光層領域を露光する周
辺露光装置として、角形のガラス基板の表面全体に光を
照射可能な照明光学系を有し、ガラス基板表面の前記マ
スクパターンが露光されたまたは露光される領域（マス
クパターン形成領域）を遮蔽するマスクを照明光学系と
ガラス基板との間に配置し、マスクにより遮蔽された領
域及びマスクにより遮蔽されていない領域（前記不要な
感光層領域）を照明光学系により一括して露光するプロ
キシミティ方式のものが知られている。
辺露光装置として、角形のガラス基板の表面全体に光を
照射可能な照明光学系を有し、ガラス基板表面の前記マ
スクパターンが露光されたまたは露光される領域（マス
クパターン形成領域）を遮蔽するマスクを照明光学系と
ガラス基板との間に配置し、マスクにより遮蔽された領
域及びマスクにより遮蔽されていない領域（前記不要な
感光層領域）を照明光学系により一括して露光するプロ
キシミティ方式のものが知られている。
【０００５】また、他の周辺露光装置として、角形基板
の前記不要な感光層領域に紫外線を局所的に照射する少
なくとも１つの紫外線照射ヘッドを有し、ステージに載
置される角形基板の基準辺が前記紫外線の走査方向とほ
ぼ平行になるように、角形基板と前記走査方向とを位置
合わせ（アライメント）してから、紫外線照射ヘッドま
たは前記ステージのいずれか一方を移動させて紫外線を
走査することにより、前記不要な感光層領域に紫外線を
露光するように構成されたものが知られている。
の前記不要な感光層領域に紫外線を局所的に照射する少
なくとも１つの紫外線照射ヘッドを有し、ステージに載
置される角形基板の基準辺が前記紫外線の走査方向とほ
ぼ平行になるように、角形基板と前記走査方向とを位置
合わせ（アライメント）してから、紫外線照射ヘッドま
たは前記ステージのいずれか一方を移動させて紫外線を
走査することにより、前記不要な感光層領域に紫外線を
露光するように構成されたものが知られている。
【０００６】
【発明が解決しようとする課題】しかし、上述した前者
の周辺露光装置には、次のような問題がある。第１に、
前記照明光学系及び前記マスクパターン形成領域を遮蔽
するマスクが必要であり、このマスクをマスクパターン
毎に用意する必要があるので、コストが高くなってしま
い、また、角形基板が大型化すると、照明光学系及びマ
スクが大きくなり、コストがより一層高くなってしま
う。第２に、照明光学系により露光したい箇所はマスク
周囲の不要な感光層領域のみであり、照明光学系の照明
光の大部分が使用されていないので、エネルギーが無駄
に消費されてしまう。第３に、角形基板のマスクパター
ン形成領域とマスクとを位置合わせするアライメント機
構が必要となり、このアライメント機構を光学式のもの
で構成するとコストが高くなってしまい、その機構を機
械式のもので構成すると、アライメント精度を高くする
こと及びその作業が難しいという問題がある。
の周辺露光装置には、次のような問題がある。第１に、
前記照明光学系及び前記マスクパターン形成領域を遮蔽
するマスクが必要であり、このマスクをマスクパターン
毎に用意する必要があるので、コストが高くなってしま
い、また、角形基板が大型化すると、照明光学系及びマ
スクが大きくなり、コストがより一層高くなってしま
う。第２に、照明光学系により露光したい箇所はマスク
周囲の不要な感光層領域のみであり、照明光学系の照明
光の大部分が使用されていないので、エネルギーが無駄
に消費されてしまう。第３に、角形基板のマスクパター
ン形成領域とマスクとを位置合わせするアライメント機
構が必要となり、このアライメント機構を光学式のもの
で構成するとコストが高くなってしまい、その機構を機
械式のもので構成すると、アライメント精度を高くする
こと及びその作業が難しいという問題がある。
【０００７】また、上述した後者の周辺露光装置には、
次のような問題がある。第１に、角形基板の基準辺が紫
外線の走査方向とほぼ平行になるように、角形基板と走
査方向とをアライメントするために、例えば基準辺に当
接する２箇のアライメントピンを走査方向と平行に設置
するが、この設置精度が紫外線による露光位置の精度に
直接影響するので、その設置作業を高精度に行う必要が
あり、その作業が非常に難しいという問題がある。第２
に、角形基板の摩擦係数が大きいと、角形基板をアライ
メントするのが難しくなってしまうという問題がある。
次のような問題がある。第１に、角形基板の基準辺が紫
外線の走査方向とほぼ平行になるように、角形基板と走
査方向とをアライメントするために、例えば基準辺に当
接する２箇のアライメントピンを走査方向と平行に設置
するが、この設置精度が紫外線による露光位置の精度に
直接影響するので、その設置作業を高精度に行う必要が
あり、その作業が非常に難しいという問題がある。第２
に、角形基板の摩擦係数が大きいと、角形基板をアライ
メントするのが難しくなってしまうという問題がある。
【０００８】この発明は、このような事情に鑑みてなさ
れたもので、その課題は安価で、組立が容易で、且つ高
精度の周辺露光装置を提供することである。
れたもので、その課題は安価で、組立が容易で、且つ高
精度の周辺露光装置を提供することである。
【０００９】
【課題を解決するための手段】前述の課題を解決するた
め請求項１記載の発明の周辺露光装置は、ステージ上に
載置され、表面に感光層を有する角形基板の周辺部に、
紫外線を照射する紫外線照射ヘッドと、前記紫外線が前
記角形基板の周辺部を走査するように、前記紫外線照射
ヘッドを前記角形基板の基準辺とほぼ平行に移動させる
紫外線照射ヘッド走査手段とを備えている周辺露光装置
において、前記紫外線照射ヘッドの走査方向とほぼ直交
する方向に前記紫外線照射ヘッドを移動させる紫外線照
射ヘッド移動手段と、前記紫外線照射ヘッドの走査方向
に対する前記角形基板の基準辺の傾きを検出する傾き検
出手段と、前記紫外線照射ヘッドの移動軌跡が前記角形
基板の基準辺とほぼ平行になるように、前記傾き検出手
段の検出結果に応じて、前記紫外線照射ヘッド移動手段
を制御する制御手段とを備えている。
め請求項１記載の発明の周辺露光装置は、ステージ上に
載置され、表面に感光層を有する角形基板の周辺部に、
紫外線を照射する紫外線照射ヘッドと、前記紫外線が前
記角形基板の周辺部を走査するように、前記紫外線照射
ヘッドを前記角形基板の基準辺とほぼ平行に移動させる
紫外線照射ヘッド走査手段とを備えている周辺露光装置
において、前記紫外線照射ヘッドの走査方向とほぼ直交
する方向に前記紫外線照射ヘッドを移動させる紫外線照
射ヘッド移動手段と、前記紫外線照射ヘッドの走査方向
に対する前記角形基板の基準辺の傾きを検出する傾き検
出手段と、前記紫外線照射ヘッドの移動軌跡が前記角形
基板の基準辺とほぼ平行になるように、前記傾き検出手
段の検出結果に応じて、前記紫外線照射ヘッド移動手段
を制御する制御手段とを備えている。
【００１０】また、請求項２記載の発明の周辺露光装置
は、前記制御手段は、前記紫外線照射ヘッド移動手段を
制御して、更に前記角形基板の所望の領域に紫外線を照
射する。
は、前記制御手段は、前記紫外線照射ヘッド移動手段を
制御して、更に前記角形基板の所望の領域に紫外線を照
射する。
【００１１】更に、請求項３記載の発明の周辺露光装置
は、前記ステージ上の前記角形基板の向きをほぼ９０゜
回転させる基板回転手段を備えている。
は、前記ステージ上の前記角形基板の向きをほぼ９０゜
回転させる基板回転手段を備えている。
【００１２】
【作用】請求項１記載の発明の周辺露光装置では、傾き
検出手段で紫外線照射ヘッドの走査方向に対する角形基
板の基準辺の傾きを検出し、紫外線照射ヘッドの移動軌
跡が角形基板の基準辺と平行になるように、傾き検出手
段の検出結果に応じて、制御手段で紫外線照射ヘッド移
動手段を制御するようにしたので、照明光学系や遮光の
ためのマスクを用いる必要もないし、角形基板の基準辺
が紫外線の走査方向と平行になるように角形基板をアラ
イメントする必要もない。
検出手段で紫外線照射ヘッドの走査方向に対する角形基
板の基準辺の傾きを検出し、紫外線照射ヘッドの移動軌
跡が角形基板の基準辺と平行になるように、傾き検出手
段の検出結果に応じて、制御手段で紫外線照射ヘッド移
動手段を制御するようにしたので、照明光学系や遮光の
ためのマスクを用いる必要もないし、角形基板の基準辺
が紫外線の走査方向と平行になるように角形基板をアラ
イメントする必要もない。
【００１３】また、請求項２記載の発明の周辺露光装置
では、制御手段で紫外線照射ヘッド移動手段を制御し
て、更に角形基板の所望の領域に紫外線を照射するよう
にしたので、所望の角度をつけて露光することができ
る。
では、制御手段で紫外線照射ヘッド移動手段を制御し
て、更に角形基板の所望の領域に紫外線を照射するよう
にしたので、所望の角度をつけて露光することができ
る。
【００１４】更に、請求項３記載の発明の周辺露光装置
では、前記ステージ上の前記角形基板の向きをほぼ９０
゜回転させる基板回転手段を備えており、回転による位
置誤差と角度誤差とが分かるので、所望の方向へ露光す
ることができる。
では、前記ステージ上の前記角形基板の向きをほぼ９０
゜回転させる基板回転手段を備えており、回転による位
置誤差と角度誤差とが分かるので、所望の方向へ露光す
ることができる。
【００１５】
【実施例】以下、この発明の一実施例を図面に基づいて
説明する。
説明する。
【００１６】図１はこの発明の一実施例に係る周辺露光
装置を示す平面図である。この周辺露光装置は、角形の
ガラス基板（以下角形基板という）１の表面に形成され
た感光層のうち、マスクのパターンが露光される領域
（マスクパターン形成領域）の周辺の不要な感光層領域
（主に感光層の周辺部であり、角形基板によっては感光
層の中央付近に十字形の不要な感光層領域を入れる場合
もある。）を露光するためのものである。
装置を示す平面図である。この周辺露光装置は、角形の
ガラス基板（以下角形基板という）１の表面に形成され
た感光層のうち、マスクのパターンが露光される領域
（マスクパターン形成領域）の周辺の不要な感光層領域
（主に感光層の周辺部であり、角形基板によっては感光
層の中央付近に十字形の不要な感光層領域を入れる場合
もある。）を露光するためのものである。
【００１７】周辺露光装置は、図１及び図２に示すよう
に、不要な感光層領域に紫外線を局所的に照射する２つ
の紫外線照射ヘッド２と、図示しない自動搬送機構によ
り搬送されてくる角形基板１を真空吸着してほぼ水平に
保持するホルダ（ステージ）３と、２つの紫外線照射ヘ
ッド２を保持し、この２つの紫外線照射ヘッド２をＸ軸
方向に移動させるＸ軸駆動ユニット（紫外線照射ヘッド
移動手段）４と、Ｘ軸駆動ユニット４を保持し、このユ
ニット４をＹ方向に移動させるＹ軸駆動ユニット（紫外
線照射ヘッド走査手段）５と、３つの基板位置検出機構
（傾き検出手段）６Ａ，６Ｂ，６Ｃと、Ｘ軸駆動ユニッ
ト４、Ｙ軸駆動ユニット５、３つの基板位置検出機構６
Ａ，６Ｂ，６Ｃ及び後述の回転ユニット１１を制御する
露光制御ユニット（制御手段）７とを備えている。
に、不要な感光層領域に紫外線を局所的に照射する２つ
の紫外線照射ヘッド２と、図示しない自動搬送機構によ
り搬送されてくる角形基板１を真空吸着してほぼ水平に
保持するホルダ（ステージ）３と、２つの紫外線照射ヘ
ッド２を保持し、この２つの紫外線照射ヘッド２をＸ軸
方向に移動させるＸ軸駆動ユニット（紫外線照射ヘッド
移動手段）４と、Ｘ軸駆動ユニット４を保持し、このユ
ニット４をＹ方向に移動させるＹ軸駆動ユニット（紫外
線照射ヘッド走査手段）５と、３つの基板位置検出機構
（傾き検出手段）６Ａ，６Ｂ，６Ｃと、Ｘ軸駆動ユニッ
ト４、Ｙ軸駆動ユニット５、３つの基板位置検出機構６
Ａ，６Ｂ，６Ｃ及び後述の回転ユニット１１を制御する
露光制御ユニット（制御手段）７とを備えている。
【００１８】前記２つの紫外線照射ヘッド２には、紫外
線照射装置８（図２参照）から紫外線がライトガイド
（例えば光ファイバ）９を介して供給されるようになっ
ている。紫外線照射ヘッド２は、角形基板１の表面上に
紫外線を局所的に照射する（例えば矩形の照射領域を持
つスポット状の紫外線を照射する）。そして、紫外線照
射ヘッド２は、Ｘ軸駆動ユニット４及びＹ軸駆動ユニッ
ト５によって、角形基板１の表面から一定の距離を保ち
ながら、Ｘ方向及びＹ方向に平行移動できる。
線照射装置８（図２参照）から紫外線がライトガイド
（例えば光ファイバ）９を介して供給されるようになっ
ている。紫外線照射ヘッド２は、角形基板１の表面上に
紫外線を局所的に照射する（例えば矩形の照射領域を持
つスポット状の紫外線を照射する）。そして、紫外線照
射ヘッド２は、Ｘ軸駆動ユニット４及びＹ軸駆動ユニッ
ト５によって、角形基板１の表面から一定の距離を保ち
ながら、Ｘ方向及びＹ方向に平行移動できる。
【００１９】前記Ｙ軸駆動ユニット５は、支柱５ａによ
って定盤１０上に支持されている。
って定盤１０上に支持されている。
【００２０】前記ホルダ３は、図２に示すように、定盤
１０上に設けられた９０°回転ユニット（基板回転手
段）１１に固定され、９０°ずつの回転が可能である。
また、ホルダ３には、３つの基板位置検出機構６Ａ，６
Ｂ，６Ｃが取り付けられている。基板位置検出機構６
Ａ，６Ｂは角形基板１の基準辺１ａに当接するピン６０
Ａ，６０Ｂを、基板位置検出機構６Ｃは角形基板１の他
の一辺１ｂに当接するピン６０Ｃを、それぞれ有してい
る。
１０上に設けられた９０°回転ユニット（基板回転手
段）１１に固定され、９０°ずつの回転が可能である。
また、ホルダ３には、３つの基板位置検出機構６Ａ，６
Ｂ，６Ｃが取り付けられている。基板位置検出機構６
Ａ，６Ｂは角形基板１の基準辺１ａに当接するピン６０
Ａ，６０Ｂを、基板位置検出機構６Ｃは角形基板１の他
の一辺１ｂに当接するピン６０Ｃを、それぞれ有してい
る。
【００２１】各基板位置検出機構６Ａ，６Ｂは、図１及
び図２に示すように、ホルダ３に固定された支持部材６
１と、支持部材６１上に摺動自在に設けられた直進ガイ
ド６２と、この直進ガイド６２上に駆動伝達ブロック６
３を介して固定されたピン６０Ａ，６０Ｂと、直進ガイ
ド６２を付勢してピン６０Ａ，６０Ｂを基準辺１ａに押
し当てるばね６４と、ピン６０Ａ，６０Ｂをばね６４の
付勢力に抗して基準辺１ａから引き離すためのエアシリ
ンダ６５と、ピン６０Ａ，６０Ｂが基準辺１ａに当接し
たときの位置を検出するポジションセンサ６６とで構成
されている。同様に、基板位置検出機構６Ｃは、支持部
材６１と、直進ガイド６２と、この直進ガイド６２上に
駆動伝達ブロック６３を介して固定されたピン６０Ｃ
と、ピン６０Ｃを前記一辺１ｂに押し当てるばね６４
と、ピン６０Ｃをばね６４の付勢力に抗して一辺１ｂか
ら引き離すためのエアシリンダ６５と、ピン６０Ｃが一
辺１ｂに当接したときの位置を検出するポジションセン
サ６６とで構成されている。
び図２に示すように、ホルダ３に固定された支持部材６
１と、支持部材６１上に摺動自在に設けられた直進ガイ
ド６２と、この直進ガイド６２上に駆動伝達ブロック６
３を介して固定されたピン６０Ａ，６０Ｂと、直進ガイ
ド６２を付勢してピン６０Ａ，６０Ｂを基準辺１ａに押
し当てるばね６４と、ピン６０Ａ，６０Ｂをばね６４の
付勢力に抗して基準辺１ａから引き離すためのエアシリ
ンダ６５と、ピン６０Ａ，６０Ｂが基準辺１ａに当接し
たときの位置を検出するポジションセンサ６６とで構成
されている。同様に、基板位置検出機構６Ｃは、支持部
材６１と、直進ガイド６２と、この直進ガイド６２上に
駆動伝達ブロック６３を介して固定されたピン６０Ｃ
と、ピン６０Ｃを前記一辺１ｂに押し当てるばね６４
と、ピン６０Ｃをばね６４の付勢力に抗して一辺１ｂか
ら引き離すためのエアシリンダ６５と、ピン６０Ｃが一
辺１ｂに当接したときの位置を検出するポジションセン
サ６６とで構成されている。
【００２２】なお、エアシリンダ６５には、不図示のエ
ア供給源から供給されるエアをエアシリンダ６５の本体
に導入するための不図示のスイッチが設けられている。
ア供給源から供給されるエアをエアシリンダ６５の本体
に導入するための不図示のスイッチが設けられている。
【００２３】この不図示のスイッチは、露光制御ユニッ
ト７の制御により前述のエアをエアシリンダ６５の本体
に導入する。
ト７の制御により前述のエアをエアシリンダ６５の本体
に導入する。
【００２４】前記３つの基板位置検出機構６Ａ，６Ｂ，
６Ｃによって、ホルダ３で保持された角形基板１の位置
を検出する。また、基板位置検出機構６Ａ，６Ｂによっ
てホルダ３で保持された角形基板１の基準辺１ａの、水
平面内での傾き（紫外線ヘッド２の走査方向に対する傾
き）を検出する。
６Ｃによって、ホルダ３で保持された角形基板１の位置
を検出する。また、基板位置検出機構６Ａ，６Ｂによっ
てホルダ３で保持された角形基板１の基準辺１ａの、水
平面内での傾き（紫外線ヘッド２の走査方向に対する傾
き）を検出する。
【００２５】ピン６０Ａ，６０Ｂが基準辺１ａに当接し
且つピン６０Ｃが一辺１ｂに当接したときの、各ピン６
０Ａ，６０Ｂ，６０Ｃの位置を表わす位置検出信号が露
光制御ユニット７のメモリに入力され、その値が記憶さ
れる。
且つピン６０Ｃが一辺１ｂに当接したときの、各ピン６
０Ａ，６０Ｂ，６０Ｃの位置を表わす位置検出信号が露
光制御ユニット７のメモリに入力され、その値が記憶さ
れる。
【００２６】そして、露光制御ユニット７は、紫外線照
射ヘッド２の移動軌跡が基準辺１ａとほぼ平行になるよ
うにＸ軸駆動ユニット４を制御する。
射ヘッド２の移動軌跡が基準辺１ａとほぼ平行になるよ
うにＸ軸駆動ユニット４を制御する。
【００２７】次に、この実施例の周辺露光装置の動作を
説明する。
説明する。
【００２８】ここでは、図３に示すように、角形基板１
の基準辺１ａと平行である不要な感光層領域ＥＸ１，Ｅ
Ｘ２と、基準辺１ａと直交する不要な感光層領域ＥＸ
３，ＥＸ４とに紫外線を露光する場合について説明す
る。
の基準辺１ａと平行である不要な感光層領域ＥＸ１，Ｅ
Ｘ２と、基準辺１ａと直交する不要な感光層領域ＥＸ
３，ＥＸ４とに紫外線を露光する場合について説明す
る。
【００２９】最初に、露光制御ユニット７は、１枚目の
角形基板１についてテスト露光を以下の手順で行う。
角形基板１についてテスト露光を以下の手順で行う。
【００３０】まず、露光制御ユニット７は、各基板位置
検出機構６Ａ，６Ｂ，６Ｃのエアシリンダ６５にエアを
供給するように不図示のスイッチを制御し、各エアシリ
ンダ６５により各ピン６０Ａ，６０Ｂ，６０Ｃを後退さ
せておく。
検出機構６Ａ，６Ｂ，６Ｃのエアシリンダ６５にエアを
供給するように不図示のスイッチを制御し、各エアシリ
ンダ６５により各ピン６０Ａ，６０Ｂ，６０Ｃを後退さ
せておく。
【００３１】この状態で、図示しない自動搬送機構によ
り搬送されてくる１枚目の角形基板１を、アライメント
することなく、ホルダ３により真空吸着して水平に保持
する。
り搬送されてくる１枚目の角形基板１を、アライメント
することなく、ホルダ３により真空吸着して水平に保持
する。
【００３２】その後、露光制御ユニット７は、各基板位
置検出機構６Ａ，６Ｂ，６Ｃのエアシリンダ６５からエ
アを抜くようにエアシリンダ６５を制御し、後退させて
いたピン６０Ａ，６０Ｂを角形基板１の基準辺１ａに、
ピン６０Ｃを一辺１ｂに各ばね６４の付勢力によりそれ
ぞれ当接させる。このとき、各基板位置検出機構６Ａ，
６Ｂのポジションセンサ６６により角形基板１の基準辺
１ａの位置が、基板位置検出機構６Ｃのポジションセン
サ６６により角形基板１の一辺１ｂの位置がそれぞれ検
出され、これらの各位置情報が基準の位置情報（例えば
零位置）として露光制御ユニット７のメモリに記憶され
るとともに、露光制御ユニット７の演算部が両検出機構
６Ａ，６Ｂのポジションセンサ６６からの各位置情報に
基づき基準辺１ａの傾きを演算し、その値がメモリに記
憶される。
置検出機構６Ａ，６Ｂ，６Ｃのエアシリンダ６５からエ
アを抜くようにエアシリンダ６５を制御し、後退させて
いたピン６０Ａ，６０Ｂを角形基板１の基準辺１ａに、
ピン６０Ｃを一辺１ｂに各ばね６４の付勢力によりそれ
ぞれ当接させる。このとき、各基板位置検出機構６Ａ，
６Ｂのポジションセンサ６６により角形基板１の基準辺
１ａの位置が、基板位置検出機構６Ｃのポジションセン
サ６６により角形基板１の一辺１ｂの位置がそれぞれ検
出され、これらの各位置情報が基準の位置情報（例えば
零位置）として露光制御ユニット７のメモリに記憶され
るとともに、露光制御ユニット７の演算部が両検出機構
６Ａ，６Ｂのポジションセンサ６６からの各位置情報に
基づき基準辺１ａの傾きを演算し、その値がメモリに記
憶される。
【００３３】次に、露光制御ユニット７は、紫外線照射
ヘッド２を不要な感光層領域ＥＸ１，ＥＸ２の間隔に応
じた所定距離だけ離した状態で、Ｘ軸駆動ユニット４を
Ｙ軸駆動ユニット５によりＹ方向に移動させることによ
り、紫外線照射ヘッド２によって不要な感光層領域ＥＸ
１，ＥＸ２に紫外線をＹ方向に走査して露光する。この
とき、紫外線照射ヘッド２をＸ方向には変位させない。
ヘッド２を不要な感光層領域ＥＸ１，ＥＸ２の間隔に応
じた所定距離だけ離した状態で、Ｘ軸駆動ユニット４を
Ｙ軸駆動ユニット５によりＹ方向に移動させることによ
り、紫外線照射ヘッド２によって不要な感光層領域ＥＸ
１，ＥＸ２に紫外線をＹ方向に走査して露光する。この
とき、紫外線照射ヘッド２をＸ方向には変位させない。
【００３４】露光後、露光制御ユニット７は、９０°回
転ユニット１１によりホルダ３及び角形基板１を９０°
回転させる。
転ユニット１１によりホルダ３及び角形基板１を９０°
回転させる。
【００３５】そして、露光制御ユニット７は、紫外線照
射ヘッド２を不要な感光層領域ＥＸ３，ＥＸ４の間隔に
応じた所定距離だけ離した状態で、Ｘ軸駆動ユニット４
をＹ軸駆動ユニット５によりＹ方向に移動させることに
より、紫外線照射ヘッド２によって不要な感光層領域Ｅ
Ｘ３，ＥＸ４に紫外線をＹ方向に走査して露光する。こ
のときも、紫外線照射ヘッド２をＸ方向には変位させな
い。
射ヘッド２を不要な感光層領域ＥＸ３，ＥＸ４の間隔に
応じた所定距離だけ離した状態で、Ｘ軸駆動ユニット４
をＹ軸駆動ユニット５によりＹ方向に移動させることに
より、紫外線照射ヘッド２によって不要な感光層領域Ｅ
Ｘ３，ＥＸ４に紫外線をＹ方向に走査して露光する。こ
のときも、紫外線照射ヘッド２をＸ方向には変位させな
い。
【００３６】露光後、角形基板１を現像し、この現像に
より除去された各不要な感光層領域ＥＸ１，ＥＸ２，Ｅ
Ｘ３，ＥＸ４の位置誤差及び角度誤差を測定により求め
る。
より除去された各不要な感光層領域ＥＸ１，ＥＸ２，Ｅ
Ｘ３，ＥＸ４の位置誤差及び角度誤差を測定により求め
る。
【００３７】以上述べた１枚目の角形基板１についての
テスト露光を終了した後、２枚目の角形基板１をアライ
メントすることなく、ホルダ３により真空吸着して水平
に保持する。このとき、各基板位置検出機構６Ａ，６
Ｂ，６Ｃのポジションセンサ６６により得られる２枚目
の角形基板１の各位置情報及びその基準辺１ａの傾き
と、前記１枚目の角形基板１についての記憶された前記
基準の各位置情報及びその基準辺１ａの傾きとから、１
枚目の角形基板１に対する２枚目の角形基板１の相対的
な位置（両基板のＸ，Ｙ方向の位置ずれ量及び基準辺１
ａの傾き角度のずれ量）が露光制御ユニット７の演算部
で演算される。
テスト露光を終了した後、２枚目の角形基板１をアライ
メントすることなく、ホルダ３により真空吸着して水平
に保持する。このとき、各基板位置検出機構６Ａ，６
Ｂ，６Ｃのポジションセンサ６６により得られる２枚目
の角形基板１の各位置情報及びその基準辺１ａの傾き
と、前記１枚目の角形基板１についての記憶された前記
基準の各位置情報及びその基準辺１ａの傾きとから、１
枚目の角形基板１に対する２枚目の角形基板１の相対的
な位置（両基板のＸ，Ｙ方向の位置ずれ量及び基準辺１
ａの傾き角度のずれ量）が露光制御ユニット７の演算部
で演算される。
【００３８】そして、この演算結果と前記テスト露光で
得られた不要な感光層領域ＥＸ１，ＥＸ２の前記位置誤
差及び角度誤差とから、露光制御ユニット７は、紫外線
照射ヘッド２を不要な感光層領域ＥＸ１，ＥＸ２に紫外
線を露光する際の正確な露光開始位置に位置させるため
のオフセット量Ａ１を演算するとともに、紫外線照射ヘ
ッド２からの紫外線を不要な感光層領域ＥＸ１，ＥＸ２
に対する露光開始位置からＹ方向へ走査するにつれて、
紫外線照射ヘッド２をＸ方向ーどれだけ変位させるか、
その変位量Ｂ１を演算する。
得られた不要な感光層領域ＥＸ１，ＥＸ２の前記位置誤
差及び角度誤差とから、露光制御ユニット７は、紫外線
照射ヘッド２を不要な感光層領域ＥＸ１，ＥＸ２に紫外
線を露光する際の正確な露光開始位置に位置させるため
のオフセット量Ａ１を演算するとともに、紫外線照射ヘ
ッド２からの紫外線を不要な感光層領域ＥＸ１，ＥＸ２
に対する露光開始位置からＹ方向へ走査するにつれて、
紫外線照射ヘッド２をＸ方向ーどれだけ変位させるか、
その変位量Ｂ１を演算する。
【００３９】また、露光制御ユニット７は、前記相対的
な位置の演算結果と前記テスト露光で得られた不要な感
光層領域ＥＸ３，ＥＸ４の前記位置誤差及び角度誤差と
から、紫外線照射ヘッド２を、不要な感光層領域ＥＸ
３，ＥＸ４に紫外線を露光する際の正確な露光開始位置
に位置させるためのオフセット量Ａ２を演算するととも
に、紫外線照射ヘッド２からの紫外線を不要な感光層領
域ＥＸ３，ＥＸ４に対する露光開始位置からＹ方向へ走
査するにつれて、紫外線照射ヘッド２をＸ方向へどれだ
け変位させるか、その変位量Ｂ２を演算させる。
な位置の演算結果と前記テスト露光で得られた不要な感
光層領域ＥＸ３，ＥＸ４の前記位置誤差及び角度誤差と
から、紫外線照射ヘッド２を、不要な感光層領域ＥＸ
３，ＥＸ４に紫外線を露光する際の正確な露光開始位置
に位置させるためのオフセット量Ａ２を演算するととも
に、紫外線照射ヘッド２からの紫外線を不要な感光層領
域ＥＸ３，ＥＸ４に対する露光開始位置からＹ方向へ走
査するにつれて、紫外線照射ヘッド２をＸ方向へどれだ
け変位させるか、その変位量Ｂ２を演算させる。
【００４０】そして、前記２枚目の角形基板１の不要な
感光層領域ＥＸ１，ＥＸ２に紫外線を露光する際に、前
記露光制御ユニット７は、前記オフセット量Ａ１及び変
位量Ｂ１に基づいてＸ軸駆動ユニット４及びＹ軸駆動ユ
ニット５を制御し、これによって、紫外線照射ヘッド２
が正確な露光開始位置から紫外線のＹ方向への走査を開
始するとともに、両紫外線の移動軌跡が基準辺１ａと平
行になる。その結果、不要な感光層領域ＥＸ１，ＥＸ２
に紫外線が基準辺１ａと平行に露光される。
感光層領域ＥＸ１，ＥＸ２に紫外線を露光する際に、前
記露光制御ユニット７は、前記オフセット量Ａ１及び変
位量Ｂ１に基づいてＸ軸駆動ユニット４及びＹ軸駆動ユ
ニット５を制御し、これによって、紫外線照射ヘッド２
が正確な露光開始位置から紫外線のＹ方向への走査を開
始するとともに、両紫外線の移動軌跡が基準辺１ａと平
行になる。その結果、不要な感光層領域ＥＸ１，ＥＸ２
に紫外線が基準辺１ａと平行に露光される。
【００４１】また、前記２枚目の角形基板１の不要な感
光層領域ＥＸ３，ＥＸ４に紫外線を露光する際にも、前
記露光制御ユニット７は、前記オフセット量Ａ２及び変
位量Ｂ２に基づいてＸ軸駆動ユニット４及びＹ軸駆動ユ
ニット５を制御し、これによって、紫外線照射ヘッド２
が正確な露光開始位置から紫外線のＹ方向への走査を開
始するとともに、両紫外線の移動軌跡が基準辺１ａと平
行になる。その結果、不要な感光層領域ＥＸ３，ＥＸ４
にも紫外線が基準辺１ａと直交する方向に露光される。
光層領域ＥＸ３，ＥＸ４に紫外線を露光する際にも、前
記露光制御ユニット７は、前記オフセット量Ａ２及び変
位量Ｂ２に基づいてＸ軸駆動ユニット４及びＹ軸駆動ユ
ニット５を制御し、これによって、紫外線照射ヘッド２
が正確な露光開始位置から紫外線のＹ方向への走査を開
始するとともに、両紫外線の移動軌跡が基準辺１ａと平
行になる。その結果、不要な感光層領域ＥＸ３，ＥＸ４
にも紫外線が基準辺１ａと直交する方向に露光される。
【００４２】３枚目以降の角形基板１についても、前記
２枚目の角形基板１と同様に露光がなされる。
２枚目の角形基板１と同様に露光がなされる。
【００４３】また、上記一実施例によれば、紫外線をＹ
方向へ走査する際の前記変位量Ｂ１，Ｂ２を任意に設定
することにより、前記不要な感光層領域ＥＸ１，ＥＸ
２，ＥＸ３，ＥＸ４に紫外線を任意の角度をつけて露光
することもできる。
方向へ走査する際の前記変位量Ｂ１，Ｂ２を任意に設定
することにより、前記不要な感光層領域ＥＸ１，ＥＸ
２，ＥＸ３，ＥＸ４に紫外線を任意の角度をつけて露光
することもできる。
【００４４】
【発明の効果】以上説明したように請求項１記載の発明
の周辺露光装置によれば、照明光学系や遮光のためのマ
スクを用いる必要もないし、角形基板の基準辺が紫外線
の走査方向と平行になるように角形基板をアライメント
する必要もないので、安価で、組立が容易で、且つ高精
度の周辺露光を行うことができる。
の周辺露光装置によれば、照明光学系や遮光のためのマ
スクを用いる必要もないし、角形基板の基準辺が紫外線
の走査方向と平行になるように角形基板をアライメント
する必要もないので、安価で、組立が容易で、且つ高精
度の周辺露光を行うことができる。
【００４５】また、請求項２記載の発明の周辺露光装置
によれば、制御手段で紫外線照射ヘッド移動手段を制御
して、更に角形基板の所望の領域に紫外線を照射するよ
うにしたので、所望の角度をつけて露光することができ
る。
によれば、制御手段で紫外線照射ヘッド移動手段を制御
して、更に角形基板の所望の領域に紫外線を照射するよ
うにしたので、所望の角度をつけて露光することができ
る。
【００４６】更に、請求項３記載の発明の周辺露光装置
によれば、基板回転手段でステージ上の角形基板の向き
をほぼ９０゜回転させることができ、回転による位置誤
差と角度誤差とは分かるので、所望の方向へ露光するこ
とができる。
によれば、基板回転手段でステージ上の角形基板の向き
をほぼ９０゜回転させることができ、回転による位置誤
差と角度誤差とは分かるので、所望の方向へ露光するこ
とができる。
【図１】図１はこの発明の一実施例に係る周辺露光装置
の平面図である。
の平面図である。
【図２】図２は図１のＡ−Ａ線に沿う断面図である。
【図３】図３は図１の周辺露光装置の動作を説明するた
めの図である。
めの図である。
１ 角形基板 ２ 紫外線照射ヘッド ４ Ｘ軸駆動ユニット ５ Ｙ軸駆動ユニット ６Ａ，６Ｂ，６Ｃ 基板位置検出機構 ７ 露光制御ユニット １１ ９０゜回転ユニット
Claims (3)
- 【請求項１】 ステージ上に載置され、表面に感光層を
有する角形基板の周辺部に、紫外線を照射する紫外線照
射ヘッドと、 前記紫外線が前記角形基板の周辺部を走査するように、
前記紫外線照射ヘッドを前記角形基板の基準辺とほぼ平
行に移動させる紫外線照射ヘッド走査手段とを備えてい
る周辺露光装置において、 前記紫外線照射ヘッドの走査方向とほぼ直交する方向に
前記紫外線照射ヘッドを移動させる紫外線照射ヘッド移
動手段と、 前記紫外線照射ヘッドの走査方向に対する前記角形基板
の基準辺の傾きを検出する傾き検出手段と、 前記紫外線照射ヘッドの移動軌跡が前記角形基板の基準
辺とほぼ平行になるように、前記傾き検出手段の検出結
果に応じて、前記紫外線照射ヘッド移動手段を制御する
制御手段とを備えていることを特徴とする周辺露光装
置。 - 【請求項２】 前記制御手段は、前記紫外線照射ヘッド
移動手段を制御して、更に前記角形基板の所望の領域に
紫外線を照射することを特徴とする請求項１記載の周辺
露光装置。 - 【請求項３】 前記ステージ上の前記角形基板の向きを
ほぼ９０゜回転させる基板回転手段を備えていることを
特徴とする請求項１又は２記載の周辺露光装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP08913194A JP3413947B2 (ja) | 1994-04-04 | 1994-04-04 | 周辺露光装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP08913194A JP3413947B2 (ja) | 1994-04-04 | 1994-04-04 | 周辺露光装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH07283122A true JPH07283122A (ja) | 1995-10-27 |
| JP3413947B2 JP3413947B2 (ja) | 2003-06-09 |
Family
ID=13962333
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP08913194A Expired - Lifetime JP3413947B2 (ja) | 1994-04-04 | 1994-04-04 | 周辺露光装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3413947B2 (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2010079147A (ja) * | 2008-09-29 | 2010-04-08 | Orc Mfg Co Ltd | 周辺露光装置及び周辺露光方法 |
-
1994
- 1994-04-04 JP JP08913194A patent/JP3413947B2/ja not_active Expired - Lifetime
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2010079147A (ja) * | 2008-09-29 | 2010-04-08 | Orc Mfg Co Ltd | 周辺露光装置及び周辺露光方法 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP3413947B2 (ja) | 2003-06-09 |
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