JPH07278495A - シリカ系被膜形成用組成物 - Google Patents

シリカ系被膜形成用組成物

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JPH07278495A
JPH07278495A JP7764094A JP7764094A JPH07278495A JP H07278495 A JPH07278495 A JP H07278495A JP 7764094 A JP7764094 A JP 7764094A JP 7764094 A JP7764094 A JP 7764094A JP H07278495 A JPH07278495 A JP H07278495A
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JP
Japan
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film
composition
tetramethoxysilane
water
component
Prior art date
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Pending
Application number
JP7764094A
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English (en)
Inventor
Takashi Chokai
傑 鳥海
Masaki Yamamoto
昌樹 山本
Atsushi Toda
淳 遠田
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Mitsubishi Chemical Corp
Original Assignee
Mitsubishi Chemical Corp
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Publication date
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Abstract

(57)【要約】 【目的】 塗布液としての保存安定性が良好で、厚膜で
透明でクラックがなく表面硬度の高いシリカ被膜が得ら
れる。 【構成】 (A)モノマー含有率が1%以下であるテト
ラメトキシシランの部分加水分解物 (B)脂肪族一価のアルコール (C)水及び (D)pKaが1.0を超えてかつ2.0以下の有機カ
ルボン酸 を必須成分とするシリカ系被膜形成用組成物

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明はシリカ系被膜形成用組成
物に関するものである。
【0002】
【従来の技術】各種シリケートを原料にゾルゲル法を用
いて樹脂、金属やセラミックをはじめ各種基材表面にシ
リカ被膜を形成することが各分野で行なわれている。こ
れらは、基盤の傷発生の防止、電気の絶縁、水分や各種
薬品による侵食防止などを主な目的とする。シラン化合
物を含む溶液の基盤上への塗布・造膜は、含浸法、ディ
ッピング法、スピンコーティング法、スプレー法などで
行なわれる。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、一般に
シラン系の塗布液は保存中にゆっくりと反応が進み、形
成される膜は液製造時と違った性状を呈するようになる
等、保存安定性に問題がある。また形成される膜の厚み
が十分でなく、厚膜を得ようとすると重ね塗りをする必
要があり作業性に問題がある。
【0004】
【課題を解決するための手段】そこで本発明者らはこれ
らの従来の問題点に対し鋭意検討した結果、シリカ系被
膜形成用塗布液として下記の成分を必須成分としてなる
組成物が、保存安定性に優れ、これを用いることにより
厚膜であり透明でクラックがなく表面硬度の高いシリカ
被膜が得られることを見いだし、本願発明に到達した。
【0005】(A)モノマー成分の含量が1%以下のテ
トラメトキシシランの部分加水分解物 (B)脂肪族一価のアルコール (C)水 (D)pKaが1.0を超えてかつ2.0以下の有機カ
ルボン酸 以下に本発明の詳細を説明する。
【0006】本発明で用いられるA成分は、加水分解反
応自体は公知の方法によることができる。例えば、上記
テトラメトキシシランに所定量の水を加えて酸触媒存在
下で、副生するメタノールを留去しながら通常、室温か
ら100℃で反応させる。この反応によりメトキシシラ
ンは加水分解し、さらにこれにつづく縮合反応によりヒ
ドロキシル基を分子中に2以上有する液状の分解物(平
均重合度2から8、好ましくは3〜6)として得られ
る。加水分解の程度は、使用する水の量により適宜調節
することができるが、本発明においては通常40〜90
%程度、さらに好ましくは60〜80%程度から選ばれ
る。こうして得られたテトラメトキシシランのオリゴマ
ーにはモノマーが通常2〜10%程度含有されている。
さらに、オリゴマーを煮沸し、モノマーを気化させ不活
性ガスとともにモノマーを除去することにより、モノマ
ー含量が1%以下、好ましくは0.3%以下にする。も
し、モノマーが多量に含有されていると塗布液としての
保存安定性に欠け、保存中に増粘し、塗布工程で厚みが
均一な膜の塗布が困難となるほか、さらに増粘すると塗
膜の形成自体が困難となる。
【0007】本発明のB成分の脂肪族一価のアルコール
は特に限定されるものではなく、A成分のメトキシシラ
ンのオリゴマーを均一に溶解させうるものであればよ
い。具体的には、メタノール、エタノール、イソプロピ
ルアルコール、ブタノール、あるいは2−メトキシエタ
ノール、2−エトキシエタノール、2−(2−エトキシ
エトキシ)エタノール、2−(2−メトキシエトキシ)
エタノール、2−ブトキシエタノール、2−(2−ブト
キシエトキシ)エタノール等が挙げられる。これらのア
ルコールはA成分であるメトキシシランおよびその加水
分解物の溶解性に優れている。B成分として例示した上
記の溶媒の中から1種類または2種類以上を混合して用
いる以外に、これらの溶媒に一般的な他の溶媒を混合し
て用いてもよい。他の溶媒としては具体的にエチルエー
テル、ブチルエーテル等のエーテル類、エチレングリコ
ール、プロピレングリコール等の多価アルコール類、ア
セトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン
等のケトン類、酢酸エチル、アセト酢酸エチル等のエス
テル類が挙げられる。ただし、脂肪族一価のアルコール
に対するこれらの溶媒の使用量は、得られる膜の均一性
の面から脂肪族一価のアルコール100重量部に対し5
0重量部以下とすることが好ましい。B成分のA成分に
対する好適な量は、A成分100重量部に対し溶媒50
〜1000重量部が好ましい。溶媒が50重量部以下の
場合、液の基材への展開性が悪く、厚みが均一な塗布が
困難なものとなる。一方、溶媒が1000重量部より多
いと、極端に厚みが小さい膜しか得られず、さらにリコ
ートするなどの必要性が生じる。
【0008】本発明のC成分の水はA成分のメトキシシ
ランに残存するメトキシ基の加水分解反応を進行させる
ために必要である。水の必要量は原料として用いるA成
分そのものの残りのメトキシ基の加水分解率に応じて異
なるものであるが、加水分解率100%当量に対し、
0.5倍量以上が好ましい。もし、水の量が少ない場合
には、塗布後に高温焼成して得られる膜の極端に厚みが
小さくなるばかりでなく、膜表面の平坦性が著しく損な
われるなどの問題が生じる。
【0009】本発明のD成分のpKaが1.0を超えて
かつ2.0以下の有機カルボン酸は、A成分のメトキシ
シランに残存するメトキシ基の加水分解反応の進行とそ
れに続く縮合・硬化反応に必要な触媒である。pKaが
1.0を超えてかつ2.0以下の有機カルボン酸でアル
コール/水系溶媒に溶解するものであれば特に限定され
るものではないが、具体的には、マレイン酸、シュウ
酸、トリクロロ酢酸等が挙げられる。一般にシリケート
オリゴマーの加水分解および縮合反応の触媒には、有機
カルボン酸の以外の酸または塩基触媒の使用が可能であ
るが、特にpKaが1.0を超えてかつ2.0以下の有
機カルボン酸は他の触媒に比べて塗布液の保存安定性か
らも優れている。好ましい添加量はA成分のメトキシシ
ラン100重量部に対して0.3重量部以上である。D
成分の量がこれ未満の組成から被膜を形成すると、得ら
れる膜の厚みは極端に小さいものとなる。
【0010】本発明は上記A〜Eの4成分を主成分とす
るが、その配合方法は室温でアルコールを含む溶媒にテ
トラメトキシシランの部分加水分解物を溶解した後、次
いで水、有機カルボン酸を添加するのが一般的である。
こうして得られた本発明の組成物を各種塗布法にてセラ
ミック、金属等の基材に造膜し、次いで、溶媒を揮発後
に400℃以上で加熱硬化することで、硬度に優れたシ
リカ被膜を得ることができる。
【0011】
【実施例】以下、実施例により本発明をさらに詳細に説
明する。
【0012】(合成例)攪拌機と還流用コンデンサーお
よび温度計をつけた500mlの3つ底フラスコに、テ
トラメトキシシラン234gとメタノール74gを加え
て混合した後に、0.05%塩酸22.2gを加え、液
温65℃で2時間加水分解反応を行なった。ついでコン
デンサーを抽出管に取り替え、液温が150℃になるま
で昇温し、メタノールで抽出させさらに150℃、3時
間加熱し縮合を行なった。この様にして加水分解物を得
た。重合度は3〜6で一分子中のヒドロキシル基は10
以上であった。このテトラメトキシシランオリゴマー中
のモノマー量は5%であった。引き続き、100〜15
0℃に加熱したジャケットにテトラメトキシシランオリ
ゴマーで煮沸させて気化したモノマーを不活性ガスとと
もに系外に排出し、モノマー量が0.2%であるテトラ
メトキシシラン部分加水分解物Aを得た。
【0013】実施例1 エタノール62.1gに上記合成例により得られたテト
ラメトキシシランの部分加水分解物A31.0gを混合
し、室温下で撹拌し均一に溶解させた。これに水6.6
gとマレイン酸(pKa=1.92)0.31gをこの
順序で加え、マレイン酸が溶解するまでさらに撹拌して
シリカ系被膜形成用塗布液の組成物を得た。この溶液は
23℃で100日放置してもゲル化することはなかっ
た。この組成物にガラスを漬けた後、23℃、相対湿度
55%でガラスを300mm/minで引き上げ120
℃の熱風オーブンにて2分間溶媒を揮発させた後、さら
に熱風オーブンにて450℃、30分加熱硬化した。膜
は透明でクラックは見あたらなかった。得られた膜の特
性について表1に示す。
【0014】実施例2 実施例1で使用したマレイン酸の代わりにシュウ酸(p
Ka=1.04)を用いた以外は実施例1と同じ様に液
を作製した。膜は透明でクラックは見あたらなかった。
得られた膜の特性について表1に示す。
【0015】実施例3 実施例1で使用したマレイン酸の代わりにトリクロロ酢
酸(pKa=1.91)を用いた以外は実施例1と同じ
様に液を作製した。膜は透明でクラックは見あたらなか
った。得られた膜の特性について表1に示す。
【0016】比較例1 合成例に示したテトラメトキシシランの部分加水分解物
に関し、加水分解および縮合反応後にモノマーを系外に
排出しない、モノマーを5%含むオリゴマーをテトラメ
トキシシランの部分加水分解物の代わりに用いた以外は
実施例1と同じ条件で配合した。調液後25日で増粘が
認められ、実施例1と同じ条件で造膜できなかった。
【0017】比較例2 テトラメトキシシランの部分加水分解物の代わりに、テ
トラエトキシシランの部分加水分解物を用いたこと以外
は実施例1と同じ条件で調液し、組成物を得た。膜は透
明でクラックは見あたらなかった。得られた膜の特性に
ついて表1に示す。
【0018】比較例3 2−エトキシエタノール66.7gにテトラメトキシシ
ラン部分加水分解物A33.3gを溶解し、水を加えず
にマレイン酸0.34gを加えた以外は実施例1と同じ
条件で調液し、組成物を得た。実施例1と同様に被膜を
形成した。膜の厚みは低くかつむらが大きかった。得ら
れた膜の特性について表1に示す。
【0019】比較例4 マレイン酸の代わりにヒドラジン(pKa=7.97)
を同量用いた以外は実施例1と同条件で調液したとこ
ろ、4成分混合後1時間で組成物は増粘、白濁した。そ
の結果透明で均一な厚みの膜は得られなかった。
【0020】 (1)鉛筆硬度はJIS K5651に準拠した。
【0021】表からも明らかなように本発明の組成物を
用いることにより、さらにこれを用いることにより厚膜
であり透明でクラックがなく表面硬度の高いシリカ被膜
が得られる。
【0022】
【発明の効果】本発明により、塗布液としての保存安定
性が良好で、さらにこれを用いることにより厚膜であり
透明でクラックがなく表面硬度の高いシリカ被膜が得ら
れる。

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 (A)モノマー含有率が1%以下である
    テトラメトキシシランの部分加水分解物 (B)脂肪族一価のアルコール (C)水及び (D)pKaが1.0を超えてかつ2.0以下の有機カ
    ルボン酸 を必須成分とするシリカ系被膜形成用組成物
JP7764094A 1994-04-15 1994-04-15 シリカ系被膜形成用組成物 Pending JPH07278495A (ja)

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Application Number Priority Date Filing Date Title
JP7764094A JPH07278495A (ja) 1994-04-15 1994-04-15 シリカ系被膜形成用組成物

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JP7764094A JPH07278495A (ja) 1994-04-15 1994-04-15 シリカ系被膜形成用組成物

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JPH07278495A true JPH07278495A (ja) 1995-10-24

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ID=13639501

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JP7764094A Pending JPH07278495A (ja) 1994-04-15 1994-04-15 シリカ系被膜形成用組成物

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JP (1) JPH07278495A (ja)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2010254734A (ja) * 2009-04-21 2010-11-11 National Institute Of Advanced Industrial Science & Technology コーティング組成物

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JP2010254734A (ja) * 2009-04-21 2010-11-11 National Institute Of Advanced Industrial Science & Technology コーティング組成物

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