JPH07272622A - 高精細微小透孔板の製造方法 - Google Patents

高精細微小透孔板の製造方法

Info

Publication number
JPH07272622A
JPH07272622A JP6414194A JP6414194A JPH07272622A JP H07272622 A JPH07272622 A JP H07272622A JP 6414194 A JP6414194 A JP 6414194A JP 6414194 A JP6414194 A JP 6414194A JP H07272622 A JPH07272622 A JP H07272622A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
layer
plate
corrosive liquid
minute
corrosion
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP6414194A
Other languages
English (en)
Inventor
Kazuo Shirakawa
和男 白川
Ryuji Ueda
龍二 上田
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Toppan Inc
Original Assignee
Toppan Printing Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Toppan Printing Co Ltd filed Critical Toppan Printing Co Ltd
Priority to JP6414194A priority Critical patent/JPH07272622A/ja
Publication of JPH07272622A publication Critical patent/JPH07272622A/ja
Pending legal-status Critical Current

Links

Abstract

(57)【要約】 【目的】本発明は、カラーテレビジョン受像管のシャド
ウマスク用などの、高精細微小透孔板の製造方法に関す
るものである。 【構成】従来の高精細微小透孔板の製造方法において、
の工程で形成した半球状の窪み(50)の底面部分に、腐
蝕液に接触して腐蝕液の能力を高める層(60)を形成した
後に、の工程で耐腐蝕性の保護層(40)を形成すること
によって、またの工程で、腐蝕液に接触して腐蝕液の
能力を高める物質を含有させた耐腐蝕性の保護層(40)を
形成することによって、従来の最小孔径(d)となる凸筋
状のエッチングの交点が生じないようにして、高精細な
微小透孔(50,51)の最小孔径が、ばらつきが少ない基準
孔径(D)になるように制御できる、高精細微小透孔板の
製造方法を提供するものである。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、カラーテレビジョン受
像管のシャドウマスク用などの、高精細微小透孔板の製
造方法に関するものである。
【0002】
【従来の技術】従来の、シャドウマスク用の高精細微小
透孔板の製造方法については、図1に示すように、シ
ャドウマスク用の金属薄板(10)の表裏対称位置に、小孔
径の微小透孔(20)のレジストパターン層(30)と、大孔径
の微小透孔(21)のレジストパターン層(31)とを、それぞ
れ形成して、大孔径の微小透孔(21)のレジストパター
ン層(31)を形成した金属薄板(10)の全面に、樹脂フィル
ムを貼着するなどして、耐腐蝕性の保護層(41)を形成し
て、小孔径の微小透孔(20)のレジストパターン層(30)
を形成した金属薄板(10)の面に、塩化第二鉄腐蝕液を用
いたスプレー法などで、金属薄板(10)の露出部分(20)を
ハーフエッチング(板厚の半分程度まで腐蝕すること,業
界用語)して、小孔径の微小透孔(20)の、基準孔径(D)
となる半球状の窪み(50)を形成して、この半球状の窪
み(50)を形成した金属薄板(10)の全面に、樹脂系ワニス
を塗布するなどして、耐腐蝕性の保護層(40)を形成し
て、大孔径側の金属薄板(10)の全面に形成した耐腐蝕性
の保護層(41)を除去して、この耐腐蝕性の保護層(41)
を除去した金属薄板(10)の面に、同様に塩化第二鉄腐蝕
液を用いたスプレー法などで、金属薄板(10)の露出部分
(21)をエッチングして、小孔径側の金属薄板(10)の面に
形成した半球状の窪み(50)に貫通する、大孔径の微小透
孔(21)の擂鉢状の窪み(51)を形成して、最後に、小孔
径側の金属薄板(10)の全面に形成した耐腐蝕性の保護層
(40)と、小孔径側と大孔径側との金属薄板(10)の表裏対
称位置に形成した微小透孔(20,21)のレジストパターン
層(30,31)とを、それぞれ除去して、シャドウマスク用
の高精細微小透孔板を製造しているものである。
【0003】図3は、従来の、シャドウマスク用の高精
細微小透孔板の部分断面図である。すなわち、前述した
従来の、シャドウマスク用の高精細微小透孔板の製造方
法において、の金属薄板(10)の露出部分(21)をエッチ
ングして、小孔径側の金属薄板(10)の面に形成した半球
状の窪み(50)に貫通する、大孔径の微小透孔(21)の擂鉢
状の窪み(51)を形成する時に、の工程で、半球状の窪
み(50)を形成した金属薄板(10)の全面に、耐腐蝕性の保
護層(40)が形成してあるために、半球状の窪み(50)の基
準孔径(D)が変化しないものであって、この半球状の窪
み(50)に貫通する擂鉢状の窪み(51)を形成することによ
って、シャドウマスク用の金属薄板(10)の板厚より小さ
い基準孔径(D)の、高精細な微小透孔(50,51)が形成で
きる状態を示したものである。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、前述し
た従来の、シャドウマスク用の高精細微小透孔板の製造
方法においては、で形成した半球状の窪み(50)を、
の工程で耐腐蝕性の保護層(40)が完全に覆っているため
に、の金属薄板(10)の露出部分(21)をエッチングし
て、この半球状の窪み(50)に貫通する擂鉢状の窪み(51)
を形成する時に、図3に示すように、最小孔径(d)とな
る凸筋状のエッチングの交点が生じるものであって、耐
腐蝕性の保護層(40)の種類や塩化第二鉄腐蝕液の比重,
温度やエッチングの時間などによって、この凸筋状のエ
ッチングの交点の形状がばらついて、高精細な微小透孔
(50,51)の最小孔径(d)の制御が難しいことが問題であ
った。
【0005】すなわち、前述した従来の、シャドウマス
ク用の高精細微小透孔板の製造方法においては、最終的
に得られたシャドウマスクにおいて、図3に示す基準孔
径(D)と最小孔径(d)との、5〜30μm程度の寸法差
のばらつきが避けられないものであって、高精細度を持
ったカラーテレビジョン受像管のシャドウマスクに"む
ら"が生じるものである。その結果、この"むら"が生じ
たシャドウマスクを用いて、例えばカラーテレビジョン
受像管のフェースプレートに3原色の蛍光体を形成する
工程で、形成した3原色の蛍光体が"むら"になって、高
精細度を持ったカラーテレビジョン受像管の製造歩留り
を悪くしているものである。
【0006】
【課題を解決するための手段】以上のような、高精細な
微小透孔(50,51)の最小孔径(d)の制御が難しい問題を
解決するために、本発明は、図1に示すように、金属
薄板(10)の両方の面の表裏対称位置に、微小透孔(20,2
1)のレジストパターン層(30,31)を、それぞれ形成する
工程と、このレジストパターン層(31)を形成した金属
薄板(10)の一方の面の全面に、耐腐蝕性の保護層(41)を
形成する工程と、このレジストパターン層(30)を形成
した金属薄板(10)の他方の面に、金属薄板(10)の露出部
分(20)をハーフエッチングして、微小透孔(20)の半球状
の窪み(50)を形成する工程と、この半球状の窪み(50)
を形成した金属薄板(10)の他方の面の全面に、耐腐蝕性
の保護層(40)を形成して、前記の金属薄板(10)の一方の
面の全面に形成した耐腐蝕性の保護層(41)を除去する工
程と、この耐腐蝕性の保護層(41)を除去した金属薄板
(10)の一方の面に、金属薄板(10)の露出部分(21)をエッ
チングして、前記の半球状の窪み(50)に貫通する、微小
透孔(21)の擂鉢状の窪み(51)を形成する工程と、最後
に、前記の金属薄板(10)の他方の面の全面に形成した耐
腐蝕性の保護層(40)と、金属薄板(10)の両方の面の表裏
対称位置に形成した微小透孔(20,21)のレジストパター
ン層(30,31)とを、それぞれ除去する工程と、から成る
高精細微小透孔板の製造方法において、の工程で形成
した半球状の窪み(50)の底面部分に、腐蝕液に接触して
腐蝕液の能力を高める層(60)を形成した後に、の工程
で耐腐蝕性の保護層(40)を形成することによって、また
の工程で、腐蝕液に接触して腐蝕液の能力を高める物
質を含有させた耐腐蝕性の保護層(40)を形成することに
よって、図2に示すように、従来の最小孔径(d)となる
凸筋状のエッチングの交点が生じないようにして、高精
細な微小透孔(50,51)の最小孔径が、ばらつきが少ない
基準孔径(D)になるように制御できる、高精細微小透孔
板の製造方法を提供するものである。
【0007】
【作用】本発明の高精細微小透孔板の製造方法において
は、図1(C)に示すように、の工程で形成した半球状
の窪み(50)の底面部分に、腐蝕液に接触して腐蝕液の能
力を高める層(60)を形成した後に、図1(D)に示すよう
に、の工程で耐腐蝕性の保護層(40)を形成したことに
よって、またの工程で、腐蝕液に接触して腐蝕液の能
力を高める物質を含有させた耐腐蝕性の保護層(40)を形
成したことによって、の金属薄板(10)の露出部分(21)
をエッチングして、前記の半球状の窪み(50)に貫通す
る、微小透孔(21)の擂鉢状の窪み(51)を形成する工程
で、エッチングして半球状の窪み(50)に貫通した時に、
半球状の窪み(50)の底面部分において、この腐蝕液の能
力を高める層(60)又は物質が腐蝕液に接触して、他の部
分よりエッチング作用が高まるものであって、図1(E)
に示すように、半球状の窪み(50)の底面部分の金属薄板
(10)のエッチングが、耐腐蝕性の保護層(40)の下面に沿
って横方向に進んで、従来の最小孔径(d)となる凸筋状
のエッチングの交点が生じないものである。
【0008】
【実施例】図1は、本発明の実施例における、シャドウ
マスク用の高精細微小透孔板の製造方法を示す部分断面
図であって、また図2は、本発明の実施例における、シ
ャドウマスク用の高精細微小透孔板の部分断面図であ
る。すなわち、 板厚が130μmのアンバー鋼(Ni36%含有)の、シ
ャドウマスク用の金属薄板(10)の表裏対称位置に、ポリ
ビニールアルコールと重クロム酸アンモニウムとから成
るフォトレジストを用いて、直径が60μmでピッチが
200μmの、小孔径の微小透孔(20)のレジストパター
ン層(30)と、直径が80μmでピッチが200μmの、大
孔径の微小透孔(21)のレジストパターン層(31)とを、そ
れぞれ形成して(図1(A)を参照)、 大孔径の微小透孔(21)のレジストパターン層(31)を形
成した金属薄板(10)の全面に、ポリエステルフィルム
(サニテクトテープ,サンエイ化学工業(株)製)を貼着し
て、厚さが30μmの耐腐蝕性の保護層(41)を形成して
(図1(B)を参照)、 小孔径の微小透孔(20)のレジストパターン層(30)を形
成した金属薄板(10)の面に、比重が1.49で温度が5
5℃の塩化第二鉄腐蝕液を用いたスプレー法で、金属薄
板(10)の露出部分(20)をハーフエッチングして、基準孔
径(D)が85μmで深さが35μmの、小孔径の微小透孔
(20)の半球状の窪み(50)を形成して、粉末状の過塩素酸
第二鉄[Fe(ClO4)3]をスプレー塗布して、余分な粉末
をスキージして除去して、また粉末状の過塩素酸第二鉄
を適宜の溶媒に分散して塗布して、余分な液をスキージ
して乾燥して、この半球状の窪み(50)の底面部分に、粉
末状の過塩素酸第二鉄層(60)を析出させて、腐蝕液に接
触して腐蝕液の能力を高める層(60)を形成した後に(図
1(C)を参照)、 この半球状の窪み(50)を形成した金属薄板(10)の全面
に、アクリル樹脂系UV硬化ワニス(アクリルオリゴマ
ー,アクリルモノマー,添加剤の混合物)を塗布して硬化
乾燥して、厚さが20μmの耐腐蝕性の保護層(40)を形
成して、大孔径側の金属薄板(10)の全面に形成した、厚
さが30μmの耐腐蝕性の保護層(41)を剥離して除去し
て(図1(D)を参照)、 この耐腐蝕性の保護層(41)を除去した金属薄板(10)の
面に、同様に比重が1.49で温度が60℃の塩化第二
鉄腐蝕液を用いたスプレー法で、金属薄板(10)の露出部
分(21)をエッチングして、小孔径側の金属薄板(10)の面
に形成した半球状の窪み(50)に貫通する、最大孔径が1
70μmで深さが95μmの、大孔径の微小透孔(21)の擂
鉢状の窪み(51)を形成して(図1(E)を参照)、 最後に、小孔径側の金属薄板(10)の全面に形成した、
厚さが20μmの耐腐蝕性の保護層(40)と、小孔径側と
大孔径側との金属薄板(10)の表裏対称位置に形成した、
それぞれピッチが200μmの微小透孔(20,21)のレジス
トパターン層(30,31)とを、アルカリ濃度30%の剥膜
液を用いて、それぞれ除去して、図2に示すシャドウマ
スク用の高精細微小透孔板を製造した状態を示したもの
である。
【0009】本実施例の、シャドウマスク用の高精細微
小透孔板の製造方法においては、図1(C)に示すよう
に、の工程で形成した半球状の窪み(50)の底面部分
に、粉末状の過塩素酸第二鉄層(60)を析出させて、腐蝕
液に接触して腐蝕液の能力を高める層(60)を形成した後
に、図1(D)に示すように、の工程で耐腐蝕性の保護
層(40)を形成したことによって、の金属薄板(10)の露
出部分(21)をエッチングして、前記の半球状の窪み(50)
に貫通する、大孔径の微小透孔(21)の擂鉢状の窪み(51)
を形成する工程で、エッチングして半球状の窪み(50)に
貫通した時に、半球状の窪み(50)の底面部分において、
この腐蝕液の能力を高める層(60)が、比重が1.49で
温度が60℃の塩化第二鉄腐蝕液に接触して、粉末状の
過塩素酸第二鉄[Fe(ClO4)3]が発熱して、また粉末状
の過塩素酸第二鉄[Fe(ClO4)3]が塩化第二鉄腐蝕液の
疲労(塩化第二鉄が塩化第一鉄に変化して減少する)を回
復(塩化第二鉄を供給する)して、他の部分よりエッチン
グ作用が高まるものであって、図1(E)に示すように、
半球状の窪み(50)の底面部分の金属薄板(10)のエッチン
グが、耐腐蝕性の保護層(40)の下面に沿って横方向に進
んで、従来の最小孔径(d)となる凸筋状のエッチングの
交点が生じないものであって、図2に示すように、基準
孔径(D)が85μmで最大孔径が170μmであって、従
来の最小孔径(d)に相当する孔径が90μmの、凸筋状
のエッチングの交点がない高精細な微小透孔(50,51)が
得られたものである。
【0010】なお、の半球状の窪み(50)の底面部分
に、腐蝕液に接触して腐蝕液の能力を高める層(60)を形
成する工程で、またの半球状の窪み(50)を形成した金
属薄板(10)の全面に、耐腐蝕性の保護層(40)を形成する
工程で、ブラッシングや超音波振動などの物理的な処理
で、図1(C,D,E)に示すレジストパターン層(30)の庇
状部分を除去した後に、粉末状のまた粉末を適宜の溶媒
に分散した過塩素酸第二鉄[Fe(ClO4)3]を、またアク
リル樹脂系UV硬化ワニス(アクリルオリゴマー,アクリ
ルモノマー,添加剤の混合物)を、塗布することが好まし
いものである。
【0011】また、本実施例の、の半球状の窪み(50)
の底面部分に、粉末状の過塩素酸第二鉄層(60)を析出さ
せて形成した、腐蝕液に接触して腐蝕液の能力を高める
層(60)に替えて、の工程で、10〜30重量%の粉末
状の過塩素酸第二鉄[Fe(ClO4)3]を含有させた、アク
リル樹脂系UV硬化ワニス(アクリルオリゴマー,アクリ
ルモノマー,添加剤の混合物)を塗布して硬化乾燥して、
腐蝕液に接触して腐蝕液の能力を高める物質を含有させ
た、厚さが20μmの耐腐蝕性の保護層(40)を形成して
もよいものである。
【0012】
【発明の効果】以上、作用及び実施例に示すとおり、本
発明の高精細微小透孔板の製造方法においては、の工
程で形成した半球状の窪み(50)の底面部分に、腐蝕液に
接触して腐蝕液の能力を高める層(60)を形成した後に、
の工程で耐腐蝕性の保護層(40)を形成したことによっ
て、またの工程で、腐蝕液に接触して腐蝕液の能力を
高める物質を含有させた耐腐蝕性の保護層(40)を形成し
たことによって、の金属薄板(10)の露出部分(21)をエ
ッチングして、前記の半球状の窪み(50)に貫通する、微
小透孔(21)の擂鉢状の窪み(51)を形成する工程で、エッ
チングして半球状の窪み(50)に貫通した時に、半球状の
窪み(50)の底面部分において、この腐蝕液の能力を高め
る層(60)又は物質が腐蝕液に接触して、他の部分よりエ
ッチング作用が高まるものであって、半球状の窪み(50)
の底面部分の金属薄板(10)のエッチングが、耐腐蝕性の
保護層(40)の下面に沿って横方向に進んで、従来の最小
孔径(d)となる凸筋状のエッチングの交点が生じないも
のであって、高精細な微小透孔(50,51)の最小孔径が、
ばらつきが少ない基準孔径(D)になるように制御でき
る、高精細微小透孔板の製造方法を提供できるものであ
る。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の実施例における、シャドウマスク用の
高精細微小透孔板の製造方法を示す部分断面図である。
【図2】本発明の実施例における、シャドウマスク用の
高精細微小透孔板の部分断面図である。
【図3】従来の、シャドウマスク用の高精細微小透孔板
の部分断面図である。
【符号の説明】
10 …金属薄板 20,21 …微小透孔,金属薄板(10)の露出部分 30,31 …レジストパターン層 40,41 …耐腐蝕性の保護層 50 …半球状の窪み 51 …擂鉢状の窪み 60 …腐蝕液の能力を高める層,粉末状の過塩素
酸第二鉄層 D …基準孔径 d …最小孔径

Claims (5)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】金属薄板(10)の両方の面の表裏対称位置
    に、微小透孔(20,21)のレジストパターン層(30,31)を、
    それぞれ形成する工程と、このレジストパターン層(3
    1)を形成した金属薄板(10)の一方の面の全面に、耐腐蝕
    性の保護層(41)を形成する工程と、このレジストパタ
    ーン層(30)を形成した金属薄板(10)の他方の面に、金属
    薄板(10)の露出部分(20)をハーフエッチングして、微小
    透孔(20)の半球状の窪み(50)を形成する工程と、この
    半球状の窪み(50)を形成した金属薄板(10)の他方の面の
    全面に、耐腐蝕性の保護層(40)を形成して、前記の金属
    薄板(10)の一方の面の全面に形成した耐腐蝕性の保護層
    (41)を除去する工程と、この耐腐蝕性の保護層(41)を
    除去した金属薄板(10)の一方の面に、金属薄板(10)の露
    出部分(21)をエッチングして、前記の半球状の窪み(50)
    に貫通する、微小透孔(21)の擂鉢状の窪み(51)を形成す
    る工程と、最後に、前記の金属薄板(10)の他方の面の
    全面に形成した耐腐蝕性の保護層(40)と、金属薄板(10)
    の両方の面の表裏対称位置に形成した微小透孔(20,21)
    のレジストパターン層(30,31)とを、それぞれ除去する
    工程と、から成る高精細微小透孔板の製造方法におい
    て、 の工程で形成した半球状の窪み(50)の底面部分に、腐
    蝕液に接触して腐蝕液の能力を高める層(60)を形成した
    後に、の工程で耐腐蝕性の保護層(40)を形成すること
    を特徴とする高精細微小透孔板の製造方法。
  2. 【請求項2】前記の腐蝕液の能力を高める層(60)に替え
    て、の工程で、腐蝕液に接触して腐蝕液の能力を高め
    る物質を含有させた耐腐蝕性の保護層(40)を形成するこ
    とを特徴とする、請求項1に記載の高精細微小透孔板の
    製造方法。
  3. 【請求項3】前記の腐蝕液の能力を高める層(60)又は物
    質が、腐蝕液に接触して、発熱して腐蝕液の能力を高め
    る層(60)又は物質であることを特徴とする、請求項1又
    は請求項2に記載の高精細微小透孔板の製造方法。
  4. 【請求項4】前記の腐蝕液の能力を高める層(60)又は物
    質が、腐蝕液に接触して、腐蝕液の疲労を回復して腐蝕
    液の能力を高める層(60)又は物質であることを特徴とす
    る、請求項1又は請求項2に記載の高精細微小透孔板の
    製造方法。
  5. 【請求項5】前記の金属薄板(10)が、シャドウマスク用
    の金属薄板(10)であって、前記の高精細微小透孔板が、
    シャドウマスク用の高精細微小透孔板であることを特徴
    とする、請求項1から請求項4のいずれかに記載の高精
    細微小透孔板の製造方法。
JP6414194A 1994-03-31 1994-03-31 高精細微小透孔板の製造方法 Pending JPH07272622A (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP6414194A JPH07272622A (ja) 1994-03-31 1994-03-31 高精細微小透孔板の製造方法

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP6414194A JPH07272622A (ja) 1994-03-31 1994-03-31 高精細微小透孔板の製造方法

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JPH07272622A true JPH07272622A (ja) 1995-10-20

Family

ID=13249510

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP6414194A Pending JPH07272622A (ja) 1994-03-31 1994-03-31 高精細微小透孔板の製造方法

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JPH07272622A (ja)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN112209334A (zh) * 2020-10-13 2021-01-12 深圳迪致科技术有限公司 微孔制备方法

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN112209334A (zh) * 2020-10-13 2021-01-12 深圳迪致科技术有限公司 微孔制备方法

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US8110344B2 (en) Metal photoetching product and production method thereof
EP0137366B1 (en) Method for manufacturing a shadow mask
KR100342250B1 (ko) 새도우마스크와그제조방법
JPH07272622A (ja) 高精細微小透孔板の製造方法
JPH07272621A (ja) 高精細微小透孔板の製造方法
JP2637864B2 (ja) シャドーマスクの製造方法
JP2795094B2 (ja) 微小透孔板の製造方法
US3824136A (en) Etching of aluminum fluidic devices
JP4479296B2 (ja) 金属エッチング製品の製造方法
JPH0430134B2 (ja)
JPH0420993B2 (ja)
JPH0113097B2 (ja)
JP2005264283A (ja) 金属エッチング製品及びその製造方法
JPH02103841A (ja) シャドウマスクの製造方法
JPS6242494A (ja) プリント配線板の製造方法
JPH06176687A (ja) 微小透孔板の製造方法
JP2000243310A (ja) 高精細シャドウマスク及びその製造方法
JPS59141439A (ja) 焼成ガラスのスル−ホ−ル形成法
JPS6386877A (ja) シヤドウマスクの製造方法
JPH01191790A (ja) シャドウマスクの製造方法
JPS5828830A (ja) パターン形成法
KR20190059613A (ko) 화장품용 케이스 커버유리 및 그 제조방법
JPH03176689A (ja) 植字の製造方法
JPS6096774A (ja) シヤドウマスクの製造方法
JPH0146592B2 (ja)