JPH06176687A - 微小透孔板の製造方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【構成】薄板両面に表裏対照のレジストパターンを形成
する工程と、この薄板両面に片側を被いエッチング液が
かからないようにし、片側から露出部分をハーフエッチ
ングして、薄板の片面に窪みを形成する工程と、その被
いを取り去りその窪みに水性ニスを塗布し乾燥する工程
と、薄板の他方の面をエッチングして薄板に透孔を貫通
させる工程と、上記水性ニスのみを剥離する工程と、両
面よりエッチング液を接触させて両面からのエッチング
交点の出っ張りを取り除く工程よりなる微小透孔板の製
造方法。 【効果】交点のない、しかもムラのないシャドウマスク
を供給できる。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は、カラーテレビジョン受
像管用のシャドウマスク等の微小透孔板の製造方法に係
わり、エッチングによる微小透孔板の製造方法に関す
る。

【０００２】

【従来の技術】従来のカラーテレビジョン受像管用のシ
ャドウマスクの製造の場合を例にとって説明する。

【０００３】まず、フォトレジストにてシャドウマスク
基板の両面に、表裏対照位置にレジストパターンを形成
し、大孔側に耐蝕性の有るプラスチック等のシートを接
着し片面を被い、ついで例えば塩化第二鉄液からなるエ
ッチング液を両面から吹き付け、シートの無い小孔側、
つまり基本孔径側となる面をハーフエッチングする。次
にその面に耐蝕性のニスを全面塗布し、この小孔側から
エッチング液が入らないようにする。その後、大孔側に
耐蝕性の有るプラスチック等のシートを剥離して、例え
ば塩化第二鉄からなるエッチング液により、大孔側から
エッチングをおこない、小孔側へ透孔を貫通させ、最後
に上記フォトレジストおよび耐蝕性ニスを剥離すること
により多数の微小透孔が形成される。

【０００４】この場合、最終的に形成される透孔は、第
二段目のエッチングに際して、小孔側の窪みが予めニス
で被覆されているため、小孔側の孔径は変化しないの
で、すり鉢状の透孔が形成されることになり、被エッチ
ング材料の板厚よりも小さい直径の透孔を形成すること
ができる。

【０００５】この場合、小孔側の窪みがニスで完全に被
覆されている為、小孔側と大孔側からのエッチングによ
って板厚の中間より小孔側に小孔側と大孔側のエッチン
グ交点が生じてしまい、この交点にて孔径を制御するた
め、ニスの材質やニスの塗布量によってエッチング途中
で軟化や伸びが生じ、孔径の制御が困難であると同時に
透過孔としての寸法差が生じ、その結果、最終的に得ら
れるシャドウマスクにもムラが出来てしまう為である。

【０００６】この様な製法で得られる従来のシャドウマ
スクの断面形状は、図１及び図２に示す形状となり、小
孔（直径ｄ）の窪みと大孔（直径Ｄ’）の窪みとが交差
する最小透過孔部（直径Ｄ）となり、ｄ＞Ｄ＝0.005 〜
0.030 ｍｍの差が生じてしまう。

【０００７】その結果、高精細度を持ったカラーブラウ
ン管を製造する際に、従来の断面形状を持ったシャドウ
マスクでは、このシャドウマスクでブラウン管のフェー
スプレート上に三原色の蛍光体を形成する工程に於い
て、その蛍光体の焼き付けのための光が、シャドウマス
クの孔径内部に張り出した交点部分により光が反射し
て、本来、光があたってはならない所にも反射光が回
り、現像にて完全に除去すべき所まで反応させてしま
い、蛍光体の残渣や蛍光体の寸法を大きくしたり、蛍光
体の形状を変形したりして、カラーブラウン管の製造歩
留りを悪くしていた。そこで、図３の様な断面形状の微
細透孔板の工業的に実用性のある製造方法が求められて
いた。

【０００８】

【発明が解決しようとする課題】本発明は、上記課題を
解決するためになされたものであって、シャドウマスク
で代表される微細透孔板の孔径内部に張り出した交点部
分を取り除き、例えば前記した蛍光体焼き付け時の問題
を解決し、カラーブラウン管製造の歩留り向上が成され
る高精細度シャドウマスクを供給することにある。

【０００９】

【課題を解決するための手段】本発明は、上記課題を解
決するため、耐蝕ニスを用いて２段エッチングを行った
後、この耐蝕ニスのみを剥離して、残っているレジスト
パターンにて、再度両面より短時間のエッチングを行う
方法を採用した。

【００１０】すなわち、請求項１の発明では、微小透孔
を形成すべき薄板の両面に、レジストパターンを形成す
る工程と、このレジストパターンを形成した該薄板の片
側を非エッチング性の被いで被う工程と、片側からエッ
チング液を接触させて露出部分をハーフエッチングして
該薄板の片面に窪みを形成する工程と、その被いを取り
去りその窪みに水性ニスを塗布し乾燥する工程と、該薄
板の他方の面にエッチング液を接触させて、露出部分を
エッチングして該薄板に透孔を貫通させる工程と、上記
水性ニスのみを剥離する工程と、更に両面よりエッチン
グ液を接触させる工程を具備してなる事を特徴とする微
小透孔板の製造方法を提供するものである。また、請求
項２の発明では、該薄板がシャドウマスク用薄板である
請求項１記載の微小透孔板の製造方法を提供するもので
ある。

【００１１】なお、その窪みに水性ニスが入り難い場合
は、ブラッシングとか超音波振動とか物理的な力にてレ
ジストパターンの庇を除去してからニスを塗布してもよ
い。

【００１２】

【作用】一回目のエッチングにて、小孔側を、二回目の
エッチングにて大孔側をエッチングし、三回目を両面か
ら行うことにより、一回目と二回目のエッチング交点の
を三回目のエッチングで取り除くことにより、微小透孔
板のムラを無くす。例えばシャドウマスクの場合、蛍光
体焼き付け時のシャドウマスクからの乱反射やシャドウ
マスク自体のムラ発生を防ぐ事ができる。

【００１３】

【実施例】以下、図面を参照して本発明を説明する。

【００１４】図４ないし図１１は本発明に係わる微小透
孔板の製造方法を、カラーテレビジョン受像管用のシャ
ドウマスクの製造に適用した例をそれぞれ工程順に示す
ものである。まず、図４に示すように、板厚０．１３ｍ
ｍのアンバー材（Ｎｉ：３６％、残部鉄）からなるシャ
ドウマスク用基板１０の両面にポリビニールアンコール
（ＰＶＡ）と重クロム酸アンモニウムからなるフォトレ
ジスト１１により、小孔側に、各円が直径６０μｍで、
ピッチ０．２ｍｍの間隔で配列された円形パターン１２
を、また、大孔側に、上記小孔側と位置的に対応するよ
うにして、直径８０μｍの円の配列から成る円形パター
ン１３を形成した。

【００１５】次に、大孔側にバックシートとして商品名
サニテクトテーブ（ポリエステル）１４を張り付けた。
（図５参照）ついで、小孔側を上面として比重１．４９
０、温度５５℃の塩化第二鉄からなるエッチング液を用
いて両面からスプレー圧２．０ｋｇにてハーフエッチン
グを行ない、小孔側に直径が８５μｍ、深さが３５μｍ
の窪み１６を形成させた（図６参照）。

【００１６】次に、水洗し、アクリル系水性ニス（Ｎ−
Ｎ−ジメチルアクリルアミド：１０モル％溶液）をスプ
レーコーターにより表面部の厚みが２０μｍとなるよう
に塗布し、ついで３分間のレベリングをおこない、つい
で１１０℃のオーブン中で７分間乾燥させた（図７参
照）。

【００１７】次に、バックシートを剥離したのち、大孔
側から比重１．４９０、温度６０℃の塩化第二鉄液から
なるエッチング液を用いてエッチングをおこない、透孔
を小孔側まで貫通させた（図８参照）。ついで、アルカ
リ系の剥膜液（アルカリ濃度５％）を用いて上記水性ニ
ス１７を剥離、除去した（図９参照）。このときレジス
トパターンは膨潤もせず、形成された時のままの状態で
あった。さらに、両面より比重１．４９０、温度４０℃
の塩化第二鉄液からなるエッチング液を用いてエッチン
グをおこない、透孔の出っ張りを小孔側の開孔寸法と同
じになるまでエッチングした（図１０参照）。その後、
アルカリ系の剥膜液（アルカリ濃度３０％）にてレジス
トパターンを剥離、除去した。

【００１８】その結果小孔側にて直径９０μｍ、透孔径
として９０μｍ、大孔側にて直径１７０μｍの逆すり鉢
状の微小透孔１８を精度よく均一に形成することができ
た（図１１参照）。

【００１９】

【発明の効果】以上説明したように本発明の方法によれ
ば、一回目のエッチングにて、小孔側を、二回目のエッ
チングにて大孔側をエッチングし、三回目を両面から行
うことにより、一回目と二回目のエッチング交点のを三
回目のエッチングで取り除くことにより、交点のない、
しかもムラ品位の高い微小透孔板を供給できる。殊にシ
ャドウマスクの場合、カラーブラウン管製造においても
品質の高いカラーブラウン管を製造できる。

【００２０】

【図面の簡単な説明】

【図１】従来の微小透孔板の断面図である。

【図２】図１とは別の従来の微小透孔板の断面図であ
る。

【図３】本発明における実施例の微小透孔板の断面図で
ある。

【図４】本発明における実施例のフォトレジスト形成後
の断面図である。

【図５】本発明にかかる同バックシート形成後の断面図
である。

【図６】本発明にかかる同第一回目のエッチング後の断
面図である。

【図７】本発明における同水性ニス形成後の断面図であ
る。

【図８】本発明にかかる同第二回目のエッチング後の断
面図である。

【図９】本発明における同水性ニス除去後の断面図であ
る。

【図１０】本発明における同最後のエッチング後の断面
図である。

【図１１】本発明にかかる同完成後の断面図である。

【符号の説明】

１０…シャドウマスク用基板 １１…フォトレジスト １２、１３…円形パターン １４…バックシート １６…窪み １７…水性ニス

Claims (2)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】微小透孔を形成すべき薄板の両面に、レジ
   ストパターンを形成する工程と、このレジストパターン
   を形成した該薄板の片側を非エッチング性の被いで被う
   工程と、片側からエッチング液を接触させて露出部分を
   ハーフエッチングして該薄板の片面に窪みを形成する工
   程と、その被いを取り去りその窪みに水性ニスを塗布し
   乾燥する工程と、該薄板の他方の面にエッチング液を接
   触させて、露出部分をエッチングして該薄板に透孔を貫
   通させる工程と、上記水性ニスのみを剥離する工程と、
   更に両面よりエッチング液を接触させる工程を具備して
   なる事を特徴とする微小透孔板の製造方法。
2. 【請求項２】薄板がシャドウマスク用薄板である請求項
   １記載の微小透孔板の製造方法。