JPH01136977A - シャドウマスクの製造方法 - Google Patents
シャドウマスクの製造方法Info
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- JPH01136977A JPH01136977A JP29191087A JP29191087A JPH01136977A JP H01136977 A JPH01136977 A JP H01136977A JP 29191087 A JP29191087 A JP 29191087A JP 29191087 A JP29191087 A JP 29191087A JP H01136977 A JPH01136977 A JP H01136977A
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔発明の目的〕
（産業上の利用分野）
本発明はカラー受像管に用いるシャドウマスクの製造方
法に関し、特にそのエツチング方法に関するものである
。
法に関し、特にそのエツチング方法に関するものである
。
（従来の技術）
一般にカラー受像管に用いられるシャドウマスクは、異
なる発光色の群からなる蛍光面に近接対向して配置され
、規則正しく配列された多数の開孔を介して色選別機能
を果たす重要な部材である。
なる発光色の群からなる蛍光面に近接対向して配置され
、規則正しく配列された多数の開孔を介して色選別機能
を果たす重要な部材である。
このシャドウマスクは通常、帯状の金属薄板からエツチ
ングにより多数の開孔が穿設されるが、その開孔形状特
に断面形状は、板厚方向に貫通している開孔径に対して
蛍光面側の表面の開孔領域（以降大孔と称す）は大きく
、！子銃側の表面の開孔領域（以降小孔と称す）は貫通
開孔径と同程度で蛍光面側のそれより小さい。
ングにより多数の開孔が穿設されるが、その開孔形状特
に断面形状は、板厚方向に貫通している開孔径に対して
蛍光面側の表面の開孔領域（以降大孔と称す）は大きく
、！子銃側の表面の開孔領域（以降小孔と称す）は貫通
開孔径と同程度で蛍光面側のそれより小さい。
このような複雑な断面形状を有する開孔をエツチングに
より穿設する場合その開孔径が小さくなる程その精度と
再現性は低下し、板厚より小さい開孔径を得ることは国
是である。
より穿設する場合その開孔径が小さくなる程その精度と
再現性は低下し、板厚より小さい開孔径を得ることは国
是である。
このような板厚より小さい開孔径を得るガ法としては、
特公昭５７−２６３４５号公報や特開昭６０−７０１８
５号公報等にあるように薫ず片面のみエツチングして凹
部を形成し、その凹部を形成した面に耐エツチング抵抗
層を形成し１次いで他の一方の面よりエツチングを行な
い、開孔を穿設せしめるいわゆる２段エツチングが提案
されている。
特公昭５７−２６３４５号公報や特開昭６０−７０１８
５号公報等にあるように薫ず片面のみエツチングして凹
部を形成し、その凹部を形成した面に耐エツチング抵抗
層を形成し１次いで他の一方の面よりエツチングを行な
い、開孔を穿設せしめるいわゆる２段エツチングが提案
されている。
この場合、１段目のエツチングで形成した凹部の形成さ
れた面に形成する耐エツチング抵抗層は、パラフィン、
石油ピッチ、ラッカーなどの非水溶性のものや、水溶性
の牛乳酸アルカリ、ポリビニールアルコール、エポキシ
系ディスバージョン樹脂、又は、アルキッド樹脂等が用
いられる。
れた面に形成する耐エツチング抵抗層は、パラフィン、
石油ピッチ、ラッカーなどの非水溶性のものや、水溶性
の牛乳酸アルカリ、ポリビニールアルコール、エポキシ
系ディスバージョン樹脂、又は、アルキッド樹脂等が用
いられる。
ところで、１段目のエツチングによって形成された凹部
に耐エツチング抵抗層を形成するためには、まず１段目
のエツチングでの金属薄板に付着したエツチング液を水
にて洗い落し、次いで熱風又は加熱して乾燥する。そし
て、スプレー、ローラーコーター等にて耐エツチング抵
抗層を塗布。
に耐エツチング抵抗層を形成するためには、まず１段目
のエツチングでの金属薄板に付着したエツチング液を水
にて洗い落し、次いで熱風又は加熱して乾燥する。そし
て、スプレー、ローラーコーター等にて耐エツチング抵
抗層を塗布。
乾燥して形成する。この際に最も重要な事は、凹部に空
気が残らないように耐エツチング抵抗層を凹部に充填す
ることである。この凹部に気泡が存在する場合、他の十
分に充填しているところに比較して、エツチング液ジ 陥を生じやすい問題を有している。
気が残らないように耐エツチング抵抗層を凹部に充填す
ることである。この凹部に気泡が存在する場合、他の十
分に充填しているところに比較して、エツチング液ジ 陥を生じやすい問題を有している。
また２段目のエツチングで金属薄板に開孔を穿設せしめ
た時は、エツチング液が直接耐エツチング抵抗層にあた
るため、耐エツチング抵抗層と金属薄板の凹部内部との
密着強度が弱いと、その弱い部分よりエッヂジグが進行
し孔形状に欠陥が生じやすいという問題がある。
た時は、エツチング液が直接耐エツチング抵抗層にあた
るため、耐エツチング抵抗層と金属薄板の凹部内部との
密着強度が弱いと、その弱い部分よりエッヂジグが進行
し孔形状に欠陥が生じやすいという問題がある。
すなわち、この耐エツチング抵抗層は、゛凹綿内に完全
に充填しかつ凹部との密着強度が強い物が望まれる。又
、２段目のエツチングにより、金属薄板に所定の開孔を
穿設せしめた後、金属薄板に密着しているレジストと耐
エツチング抵抗店番剥離させなくてはならない、゛ （発明が解決しようとする問題点） ゛２段エツチ
ングにて凹部の形成された面に耐エツチング抵抗層を形
成する際に、凹部と耐エツチング抵抗層の間に気泡が存
在してしまい、エツチングした時に孔形状に欠陥を生じ
てしまうという問題点を有している。
に充填しかつ凹部との密着強度が強い物が望まれる。又
、２段目のエツチングにより、金属薄板に所定の開孔を
穿設せしめた後、金属薄板に密着しているレジストと耐
エツチング抵抗店番剥離させなくてはならない、゛ （発明が解決しようとする問題点） ゛２段エツチ
ングにて凹部の形成された面に耐エツチング抵抗層を形
成する際に、凹部と耐エツチング抵抗層の間に気泡が存
在してしまい、エツチングした時に孔形状に欠陥を生じ
てしまうという問題点を有している。
陀
本発明は２段エツチングをする絆の耐エツチング抵抗層
と金属薄板の密着強度が薄板全体にわたり均一な強度を
保持しつつ良好なエツチング開孔を形成することが可能
なシャドウマスクの製造方法を提供することを目的とす
る。
と金属薄板の密着強度が薄板全体にわたり均一な強度を
保持しつつ良好なエツチング開孔を形成することが可能
なシャドウマスクの製造方法を提供することを目的とす
る。
（問題点を解決するための手段） ・本発明は帯状の
金属薄板の両主面に規則的に配列された多数の開孔を形
成する部分以外を耐エツチング性゛レジスト膜で被覆す
る工程と、前記金属薄板の片面・のみエツチングして前
記開孔部に対応する位置に凹部を形成する工程と、前記
凹部が形成された面のみに耐エツチング抵抗層を形成す
る工程と、前記凹部が形成された面の他方、の面よりエ
ツチングを行ない所定の形状を有するシャドウマスク開
孔を穿設す８工程を少なくとも有するシャドウマスクの
製造方法において、前記耐エツチング抵抗層を形成する
水溶性樹脂中にコロイダルシリカを含ませることにより
、ばらつきのない孔形状を有するシャドウマスクを得る
ことが可能となる。
金属薄板の両主面に規則的に配列された多数の開孔を形
成する部分以外を耐エツチング性゛レジスト膜で被覆す
る工程と、前記金属薄板の片面・のみエツチングして前
記開孔部に対応する位置に凹部を形成する工程と、前記
凹部が形成された面のみに耐エツチング抵抗層を形成す
る工程と、前記凹部が形成された面の他方、の面よりエ
ツチングを行ない所定の形状を有するシャドウマスク開
孔を穿設す８工程を少なくとも有するシャドウマスクの
製造方法において、前記耐エツチング抵抗層を形成する
水溶性樹脂中にコロイダルシリカを含ませることにより
、ばらつきのない孔形状を有するシャドウマスクを得る
ことが可能となる。
（作 用）
本発明は２段エツチングの１段目のエツチングで形成さ
れた凹部に耐エツチング抵抗層を形成する際、この耐エ
ツチング抵抗層としてコロイダルシリカを含んだ水溶性
樹脂を用いることによって耐エツチング抵抗層と金属薄
板の密着強度が強く孔形状及び孔寸法にばらつきのない
シャドウマスクを得ることができる。
れた凹部に耐エツチング抵抗層を形成する際、この耐エ
ツチング抵抗層としてコロイダルシリカを含んだ水溶性
樹脂を用いることによって耐エツチング抵抗層と金属薄
板の密着強度が強く孔形状及び孔寸法にばらつきのない
シャドウマスクを得ることができる。
（実施例）
以下、本発明の一実施例を説明する。
まずシャドウマスク材である０、１５ｍの板厚を有する
平滑なアルミキルド低炭素鋼の両生面に重クロム酸アン
モニウムと牛乳カゼインとから成る感光性レジストを塗
布乾燥し、厚さ約５μｓのレジスト層を形成する。
平滑なアルミキルド低炭素鋼の両生面に重クロム酸アン
モニウムと牛乳カゼインとから成る感光性レジストを塗
布乾燥し、厚さ約５μｓのレジスト層を形成する。
次いで大孔及び小孔２種類のシャドウマスク用パターン
をシャドウマスク材の両生面上のレジスト面にそれぞれ
真空密着し、５ｋｗ水銀ランプを使用し、約μｍの距離
より約１分間紫外線照射する。
をシャドウマスク材の両生面上のレジスト面にそれぞれ
真空密着し、５ｋｗ水銀ランプを使用し、約μｍの距離
より約１分間紫外線照射する。
その後４０℃の水スプレーにて未露光未硬化部分のレジ
ストを洗い流し１両面にシャドウマスクパターンを有す
るレジスト膜を形成する。そしてシャドウマスク材とレ
ジスト膜との密着強度及びレジスト膜の耐エツチング性
を上げるため約２００℃で２分間バーニングを施す。
ストを洗い流し１両面にシャドウマスクパターンを有す
るレジスト膜を形成する。そしてシャドウマスク材とレ
ジスト膜との密着強度及びレジスト膜の耐エツチング性
を上げるため約２００℃で２分間バーニングを施す。
次にシャドウマスク材の小孔側のみをエツチングしてシ
ャドウマスク材に凹部を形成した後、水洗し乾・燥する
。
ャドウマスク材に凹部を形成した後、水洗し乾・燥する
。
そして、次の第１表の様な組成からなる耐エツチング
チング抵抗剤を凹部の形成された面にスプレー塗布し、
乾燥後約１５．の厚さの耐エツチング抵抗層を形成する
。そして大孔側のみをエツチングして、開孔を穿設せし
めて目的とする開孔径になるまでエツチングし、水洗後
高温アルカリにてレジスト及び耐エツチング抵抗層を剥
離しシャドウマスクを得る。
乾燥後約１５．の厚さの耐エツチング抵抗層を形成する
。そして大孔側のみをエツチングして、開孔を穿設せし
めて目的とする開孔径になるまでエツチングし、水洗後
高温アルカリにてレジスト及び耐エツチング抵抗層を剥
離しシャドウマスクを得る。
ここでコロイダルシリカを耐エツチング抵抗剤に添加す
ることによってシャドウマスク材と耐エツチング抵抗層
との密着強度が増加し孔形状及び寸法のばらつきのない
高品位のシャドウマスクを得ることができる。コロイダ
ルシリカは、粒径が非常に小さい為、単位重量当たりの
表面積が大きく、親水性に富んだ性質がある。したがっ
て１表面積が大きいがゆえに樹脂の分散性を向上させ、
シャドウマスク材との密着強度を増加させる。そして、
親水性に富んでいるために、樹脂の表面張力を下げ１段
目のエツチングで形成された凹部への充填性が良く、抵
抗層と凹部表面との間に空気が残留することがない。
ることによってシャドウマスク材と耐エツチング抵抗層
との密着強度が増加し孔形状及び寸法のばらつきのない
高品位のシャドウマスクを得ることができる。コロイダ
ルシリカは、粒径が非常に小さい為、単位重量当たりの
表面積が大きく、親水性に富んだ性質がある。したがっ
て１表面積が大きいがゆえに樹脂の分散性を向上させ、
シャドウマスク材との密着強度を増加させる。そして、
親水性に富んでいるために、樹脂の表面張力を下げ１段
目のエツチングで形成された凹部への充填性が良く、抵
抗層と凹部表面との間に空気が残留することがない。
また、コロイダルシリカが耐エツチング抵抗層中に均一
に分散されるため層の耐摩耗性も増加し、耐エツチング
抵抗層にキズがつきにくくなる。
に分散されるため層の耐摩耗性も増加し、耐エツチング
抵抗層にキズがつきにくくなる。
本実施例では耐エツチング抵抗層としてエポキシディス
パージョン樹脂と牛乳カゼインの混合物を用いたが、こ
れらはそれぞれ単独で用いても良い。
パージョン樹脂と牛乳カゼインの混合物を用いたが、こ
れらはそれぞれ単独で用いても良い。
次にコロイダルシリカの添加量について説明する。第１
図にコロイダルシリカの添加量と、シャドウマスクの不
良率を示す。不良率は耐エツチング抵抗層に起因するも
ので抵抗層の密着不足による開孔形状不良、ムラ不良及
び凹部への充填不足による開孔形状不良を表わす。
図にコロイダルシリカの添加量と、シャドウマスクの不
良率を示す。不良率は耐エツチング抵抗層に起因するも
ので抵抗層の密着不足による開孔形状不良、ムラ不良及
び凹部への充填不足による開孔形状不良を表わす。
第１図に示す様に樹脂の固形分に対しおよそ３％〜２０
％のコロイダルシリカを添加すると顕著な効果があられ
れる。
％のコロイダルシリカを添加すると顕著な効果があられ
れる。
上述してきた様に本発明によれば抵抗層とシャドウマス
ク材との密着強度を向上させ、かつ２段目のエツチング
によって開孔を穿設した後、高温のカセイソーダ水で簡
単に耐エツチング抵抗層を剥離することができる。
ク材との密着強度を向上させ、かつ２段目のエツチング
によって開孔を穿設した後、高温のカセイソーダ水で簡
単に耐エツチング抵抗層を剥離することができる。
本発明によれば耐エツチング抵抗層にコロイダルシリカ
を添加することによりシャドウマスク材と耐エツチング
抵抗層との密着強度を向上させることが出来、孔形状及
び孔寸法精度の優れた多数の開孔を有するシャドウマス
クを得ることができる。
を添加することによりシャドウマスク材と耐エツチング
抵抗層との密着強度を向上させることが出来、孔形状及
び孔寸法精度の優れた多数の開孔を有するシャドウマス
クを得ることができる。
第１図はコロイダルシリカの添加量と不良率との関係を
示す特性図である。 代理人 弁理士 則 近 憲 佑 同 竹 花 喜久男 第１図
示す特性図である。 代理人 弁理士 則 近 憲 佑 同 竹 花 喜久男 第１図
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １）帯状の金属薄板の両主面に規則的に配列された多数
の開孔を形成する部分以外を耐エッチング性レジスト膜
で被覆する工程と、前記金属薄板の片面のみエッチング
して前記開孔部に対応する位置に凹部を形成する工程と
、前記凹部が形成された面のみに耐エッチング抵抗層を
形成する工程と、前記凹部が形成された面の他方の面よ
りエッチングを行ない所定の形状を有するシャドウマス
ク開孔を穿設する工程を少なくとも有するシャドウマス
クの製造方法において、前記耐エッチング抵抗層を形成
する水溶性樹脂中にコロイダルシリカを含むことを特徴
とするシャドウマスクの製造方法 ２）前記コロイダルシリカが前記耐エッチング抵抗層を
形成する水溶性樹脂中に３〜２０重量％含まれることを
特徴とする特許請求の範囲第１項記載のシャドウマスク
の製造方法。 ３）前記コロイダルシリカの粒径が５〜１００ｍμｍで
あることを特徴とする特許請求の範囲第１項及び第２項
記載のシャドウマスクの製造方法。 ４）前記耐エッチング抵抗層を形成する水溶性樹脂は牛
乳カゼイン、エポキシディスパージョン樹脂、ポリビニ
ールアルコール、アルキッド樹脂、アクリルエマルジョ
ン樹脂のうち少なくとも１つを含むことを特徴とする特
許請求の範囲第１項記載のシャドウマスクの製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP29191087A JPH01136977A (ja) | 1987-11-20 | 1987-11-20 | シャドウマスクの製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP29191087A JPH01136977A (ja) | 1987-11-20 | 1987-11-20 | シャドウマスクの製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH01136977A true JPH01136977A (ja) | 1989-05-30 |
Family
ID=17775037
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP29191087A Pending JPH01136977A (ja) | 1987-11-20 | 1987-11-20 | シャドウマスクの製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH01136977A (ja) |
-
1987
- 1987-11-20 JP JP29191087A patent/JPH01136977A/ja active Pending
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