JP4479296B2 - 金属エッチング製品の製造方法 - Google Patents
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Description
請求項3記載の発明は、前記金属薄膜は、厚さが100nm以上であることを特徴とする請求項1乃至2のいずれかに記載の金属エッチング製品の製造方法である。
請求項4記載の発明は、前記金属薄膜は、クロム膜であることを特徴とする請求項1乃至3のいずれかに記載の金属エッチング製品の製造方法である。
請求項5記載の発明は、前記クロム膜は、黒色であることを特徴とする請求項4に記載の金属エッチング製品の製造方法である。
請求項6記載の発明は、前記電着レジストは、2um〜10umの膜厚であることを特徴とする請求項1乃至5のいずれかに記載の金属エッチング製品の製造方法である。
請求項7記載の発明は、前記電着レジストは、ポジ型レジストであることを特徴とする請求項1乃至6のいずれかに記載の金属エッチング製品の製造方法である。
212…金属薄膜
213…ネガ型ドライフイルムレジスト
223…一次エッチング工程に使用するパターン形成されたネガ型ドライフイルムレジスト
232…一次エッチング工程に使用するパターン形成された金属薄膜
254…二次エッチング工程に使用するパターン形成されたポジ型電着フォトレジスト
261…パターニングされた金属板
411…一次エッチング工程後の金属板
421…ネガ型電着フォトレジスト
422…露光できないネガ型電着フォトレジスト部分
431…ネガ型フォトマスク
Claims (7)
- 金属板に高次のウエットエッチングにより形成した開孔部を有する金属エッチング製品の製造方法において、金属板上に表面エネルギーの値が金属板より電着フォトレジストに近く、かつ、一次及び二次エッチング工程で用いるウエットエッチングに対し耐性のある金属薄膜で覆う工程と、レジストに開孔パターンを設け、ウエットエッチングにより第1の開孔部を形成する一次エッチング工程と、電着フォトレジストにより第1の開孔部側壁を覆い、ウエットエッチングにより第1の開孔部底部に第2の開孔部を形成する二次エッチング工程を少なくとも具備すること特徴とする金属エッチング製品の製造方法。
- 前記金属薄膜層は、前記金属板の少なくとも一方の面を覆うことを特徴とする請求項1に記載の金属エッチング製品の製造方法。
- 前記金属薄膜は、厚さが100nm以上であることを特徴とする請求項1乃至2のいずれかに記載の金属エッチング製品の製造方法。
- 前記金属薄膜は、クロム膜であることを特徴とする請求項1乃至3のいずれかに記載の金属エッチング製品の製造方法。
- 前記クロム膜は、黒色であることを特徴とする請求項4に記載の金属エッチング製品の製造方法。
- 前記電着レジストは、2um〜10umの膜厚であることを特徴とする請求項1乃至5のいずれかに記載の金属エッチング製品の製造方法。
- 前記電着レジストは、ポジ型レジストであることを特徴とする請求項1乃至6のいずれかに記載の金属エッチング製品の製造方法。
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