JPH07268133A - 液状ジエン系ゴム組成物 - Google Patents
液状ジエン系ゴム組成物Info
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- JPH07268133A JPH07268133A JP8411694A JP8411694A JPH07268133A JP H07268133 A JPH07268133 A JP H07268133A JP 8411694 A JP8411694 A JP 8411694A JP 8411694 A JP8411694 A JP 8411694A JP H07268133 A JPH07268133 A JP H07268133A
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- liquid diene
- liquid
- antioxidant
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Abstract
(57)【要約】
【目的】 塗料、粘着剤、プライマー、粘度指数向上
剤、加硫ゴムなどに使用される高温保存安定性と流動性
の優れた液状ジエン系ゴム組成物を提供する。 【構成】 重量平均分子量が２，０００〜５０，００
０、かつ、ジエン重合体部分のミクロ構造における１，
４結合が７０％以上である液状ジエン系ゴム１００重量
部に対して、（Ａ）フェノール系酸化防止剤、（Ｂ）リ
ン系酸化防止剤、（Ｃ）アミン系酸化防止剤、（Ｄ）イ
オウ系酸化防止剤物、（Ｅ）紫外線吸収剤および／また
は光安定化剤、から選ばれた１種または２種以上を０．
００５〜３重量部、および炭化水素系溶剤および／また
はケトン系有機溶剤０．１〜１００重量部からなる液状
ジエン系ゴム組成物。
剤、加硫ゴムなどに使用される高温保存安定性と流動性
の優れた液状ジエン系ゴム組成物を提供する。 【構成】 重量平均分子量が２，０００〜５０，００
０、かつ、ジエン重合体部分のミクロ構造における１，
４結合が７０％以上である液状ジエン系ゴム１００重量
部に対して、（Ａ）フェノール系酸化防止剤、（Ｂ）リ
ン系酸化防止剤、（Ｃ）アミン系酸化防止剤、（Ｄ）イ
オウ系酸化防止剤物、（Ｅ）紫外線吸収剤および／また
は光安定化剤、から選ばれた１種または２種以上を０．
００５〜３重量部、および炭化水素系溶剤および／また
はケトン系有機溶剤０．１〜１００重量部からなる液状
ジエン系ゴム組成物。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、塗料、粘着剤、プライ
マー、粘度指数向上剤、加硫ゴムなどに使用される高温
保存安定性と流動性の優れた液状ジエン系ゴム組成物に
関する。
マー、粘度指数向上剤、加硫ゴムなどに使用される高温
保存安定性と流動性の優れた液状ジエン系ゴム組成物に
関する。
【０００２】
【従来の技術】液状ジエン系ゴムは、塗料、プライマ
ー、粘着剤などの主要成分として使用される。また、潤
滑油などの粘度指数向上剤として使用される。また、固
形ゴムに配合して共加硫可能な可塑剤として使用され
る。高分子量のジエン系ゴムおよびこれを用いた加硫ゴ
ムは、熱、光、酸素、オゾン等の作用を受け、その物性
が著しく低下することが知られている。そのために様々
な種類の劣化防止剤を添加することが試みられてきた。
一方、液状ジエン系ゴムは、分子量が小さいために劣化
の作用が少なく、安定剤の添加は行われていなかった。
また、液状であるために流動性も良好であり、分子の構
造については特に制限はなかった。
ー、粘着剤などの主要成分として使用される。また、潤
滑油などの粘度指数向上剤として使用される。また、固
形ゴムに配合して共加硫可能な可塑剤として使用され
る。高分子量のジエン系ゴムおよびこれを用いた加硫ゴ
ムは、熱、光、酸素、オゾン等の作用を受け、その物性
が著しく低下することが知られている。そのために様々
な種類の劣化防止剤を添加することが試みられてきた。
一方、液状ジエン系ゴムは、分子量が小さいために劣化
の作用が少なく、安定剤の添加は行われていなかった。
また、液状であるために流動性も良好であり、分子の構
造については特に制限はなかった。
【０００３】
【発明が解決しょうとする課題】近年、塗料などの使用
において、塗装工程の高速化、仕上がった塗装面の美麗
さへの要求が高まり、塗料の貯蔵安定性、高温安定性が
厳しく求められるようになった。液状ジエン系ゴム組成
物の粘度を下げるために、組成物を加熱すると、これを
塗布したとき、塗布むらが生じた。また、液状ジエン系
ゴムを配合した固形ゴム組成物は、高速で射出成形ある
いは押出成形すると、成形物の表面肌が荒れるなどの成
形不良を生じることがあった。本発明は、かかる塗料や
固形ゴム組成物などに使用する、安定性に優れた液状ジ
エン系ゴム組成物を提供する。
において、塗装工程の高速化、仕上がった塗装面の美麗
さへの要求が高まり、塗料の貯蔵安定性、高温安定性が
厳しく求められるようになった。液状ジエン系ゴム組成
物の粘度を下げるために、組成物を加熱すると、これを
塗布したとき、塗布むらが生じた。また、液状ジエン系
ゴムを配合した固形ゴム組成物は、高速で射出成形ある
いは押出成形すると、成形物の表面肌が荒れるなどの成
形不良を生じることがあった。本発明は、かかる塗料や
固形ゴム組成物などに使用する、安定性に優れた液状ジ
エン系ゴム組成物を提供する。
【０００４】
【課題を解決するための手段】本発明者らは、鋭意検討
を行った結果、特定の構造を有した液状ジエンゴムに安
定剤と特定の有機溶剤を併用することによって、これら
の課題が解決できることを見いだした。即ち、本発明
は、重量平均分子量が２，０００〜５０，０００、か
つ、ジエン重合体部分のミクロ構造における１，４結合
が７０％以上である液状ジエン系ゴム１００重量部に対
して、（Ａ）フェノール系酸化防止剤、（Ｂ）リン系酸
化防止剤、（Ｃ）アミン系酸化防止剤、（Ｄ）イオウ系
酸化防止剤、（Ｅ）紫外線吸収剤および／または光安定
化剤、から選ばれた１種または２種以上を０．００５〜
３重量部、および炭化水素系溶剤またはケトン系有機溶
剤０．１〜１００重量部を含有した液状ジエン系ゴム組
成物を提供するものである。
を行った結果、特定の構造を有した液状ジエンゴムに安
定剤と特定の有機溶剤を併用することによって、これら
の課題が解決できることを見いだした。即ち、本発明
は、重量平均分子量が２，０００〜５０，０００、か
つ、ジエン重合体部分のミクロ構造における１，４結合
が７０％以上である液状ジエン系ゴム１００重量部に対
して、（Ａ）フェノール系酸化防止剤、（Ｂ）リン系酸
化防止剤、（Ｃ）アミン系酸化防止剤、（Ｄ）イオウ系
酸化防止剤、（Ｅ）紫外線吸収剤および／または光安定
化剤、から選ばれた１種または２種以上を０．００５〜
３重量部、および炭化水素系溶剤またはケトン系有機溶
剤０．１〜１００重量部を含有した液状ジエン系ゴム組
成物を提供するものである。
【０００５】本発明の液状ゴム組成物の特に好ましいも
のは、分子量３，０００から３０，０００、かつ、その
ミクロ構造は１，４結合が８０〜９０％からなり、３０
℃におけるＢ型粘度１０〜２５０ポイズの液状ポリイソ
プレンゴム１００部に対して、（Ａ）フェノール系酸化
防止剤、（Ｂ）リン系酸化防止剤、（Ｃ）アミン系酸化
防止剤、（Ｄ）イオウ系酸化防止剤物、（Ｅ）紫外線吸
収剤および／または光安定化剤、から選ばれた１種また
は２種以上を０．０５〜０．８部、および炭素数５〜８
の炭化水素系溶剤またはメチルエチルケトン１〜１０重
量部からなっている。以下、本発明の詳細を説明する。
のは、分子量３，０００から３０，０００、かつ、その
ミクロ構造は１，４結合が８０〜９０％からなり、３０
℃におけるＢ型粘度１０〜２５０ポイズの液状ポリイソ
プレンゴム１００部に対して、（Ａ）フェノール系酸化
防止剤、（Ｂ）リン系酸化防止剤、（Ｃ）アミン系酸化
防止剤、（Ｄ）イオウ系酸化防止剤物、（Ｅ）紫外線吸
収剤および／または光安定化剤、から選ばれた１種また
は２種以上を０．０５〜０．８部、および炭素数５〜８
の炭化水素系溶剤またはメチルエチルケトン１〜１０重
量部からなっている。以下、本発明の詳細を説明する。
【０００６】本発明において用いられる液状ジエンゴム
とは、１，３−ブタジエン、イソプレン、１，３−ペン
タジエン、２，３−ジメチルブタジエンおよびクロロプ
レンなどの共役ジエン重合体または共重合体、またはこ
れらの水素化物である。さらにまた、上記共役ジエンと
モノエチレン性不飽和単量体との共重合体を挙げること
ができる。モノエチレン性不飽和単量体としては、不飽
和ニトリル、例えばアクリロニトリル、メタクリロニト
リル、；モノビニリデン芳香族炭化水素、例えば、スチ
レン、α−メチルスチレンなど；不飽和カルボン酸およ
びそのエステル、例えばアクリル酸、メタクリル酸、マ
レイン酸、イタコン酸、アクリル酸メチル、アクリル酸
エチル、アクリル酸ブチル、アクリル酸２−エチルヘキ
シル及びメタクリル酸メチルなど；ビニルエステル、例
えば酢酸ビニルなど；ビニリデンハライド、例えばビニ
リデンクロライドおよびビニリデンブロマイドなど；並
びにビニルピリジンなどが挙げられる。これらのモノエ
チレン性不飽和単量体と共役ジエンとの共重合割合は、
共重合体のガラス転移温度が１０℃以下、好ましくは−
１０℃以下であることがゴムとして必要であり、この範
囲に入るように定めるが、通常前者は０〜６０重量％、
後者は１００〜４０重量％である。これらの中で液状ブ
タジエンゴム、液状イソプレンゴム、液状スチレンイソ
プレン共重合体ゴム、液状スチレンブタジエン共重合体
ゴム、液状アクリロニトリルブタジエン共重合体ゴムが
好ましく、液状イソプレンゴムが最も好ましい。液状ジ
エンゴムの分子量は２，０００から５０，０００、好ま
しくは３，０００から３０，０００、さらに最も好まし
くは３，０００から２０，０００である。分子量が２，
０００より低いと、液状ジエンゴム組成物の粘着力や機
械的強度が低く好ましくない。また、分子量が５０，０
００以上では塗装性が低下して好ましくない。
とは、１，３−ブタジエン、イソプレン、１，３−ペン
タジエン、２，３−ジメチルブタジエンおよびクロロプ
レンなどの共役ジエン重合体または共重合体、またはこ
れらの水素化物である。さらにまた、上記共役ジエンと
モノエチレン性不飽和単量体との共重合体を挙げること
ができる。モノエチレン性不飽和単量体としては、不飽
和ニトリル、例えばアクリロニトリル、メタクリロニト
リル、；モノビニリデン芳香族炭化水素、例えば、スチ
レン、α−メチルスチレンなど；不飽和カルボン酸およ
びそのエステル、例えばアクリル酸、メタクリル酸、マ
レイン酸、イタコン酸、アクリル酸メチル、アクリル酸
エチル、アクリル酸ブチル、アクリル酸２−エチルヘキ
シル及びメタクリル酸メチルなど；ビニルエステル、例
えば酢酸ビニルなど；ビニリデンハライド、例えばビニ
リデンクロライドおよびビニリデンブロマイドなど；並
びにビニルピリジンなどが挙げられる。これらのモノエ
チレン性不飽和単量体と共役ジエンとの共重合割合は、
共重合体のガラス転移温度が１０℃以下、好ましくは−
１０℃以下であることがゴムとして必要であり、この範
囲に入るように定めるが、通常前者は０〜６０重量％、
後者は１００〜４０重量％である。これらの中で液状ブ
タジエンゴム、液状イソプレンゴム、液状スチレンイソ
プレン共重合体ゴム、液状スチレンブタジエン共重合体
ゴム、液状アクリロニトリルブタジエン共重合体ゴムが
好ましく、液状イソプレンゴムが最も好ましい。液状ジ
エンゴムの分子量は２，０００から５０，０００、好ま
しくは３，０００から３０，０００、さらに最も好まし
くは３，０００から２０，０００である。分子量が２，
０００より低いと、液状ジエンゴム組成物の粘着力や機
械的強度が低く好ましくない。また、分子量が５０，０
００以上では塗装性が低下して好ましくない。
【０００７】液状ジエン系ゴムのミクロ構造は、１，４
結合が７０％以上、好ましくは８０〜９０％である。ミ
クロ構造の１，４結合が７０％以下では粘度が高くな
り、塗装性が低下するとともに安定性が劣るという欠点
がある。液状ジエンゴムの分子量分布（Ｍｗ／Ｍｎ）は
１．０３〜３．０が好ましい。液状ジエン系ゴムは、炭
化水素溶剤中、有機リチウムを触媒として共役ジエンを
重合して製造できる。重合体の重合度は、単量体のモル
数を活性有機リチウムのモル数で割った値に等しいが、
分子量調節剤を併用すると、重合度は低下し、同時に分
子量分布が大きくなる。また、液状ジエン系ゴムは、ラ
ジカル開始剤を触媒として溶液重合または乳化重合によ
り製造できる。この場合も分子量調節剤あるいは連鎖移
動剤を使用することで重合度を下げ、液状重合体を容易
に得ることができる。
結合が７０％以上、好ましくは８０〜９０％である。ミ
クロ構造の１，４結合が７０％以下では粘度が高くな
り、塗装性が低下するとともに安定性が劣るという欠点
がある。液状ジエンゴムの分子量分布（Ｍｗ／Ｍｎ）は
１．０３〜３．０が好ましい。液状ジエン系ゴムは、炭
化水素溶剤中、有機リチウムを触媒として共役ジエンを
重合して製造できる。重合体の重合度は、単量体のモル
数を活性有機リチウムのモル数で割った値に等しいが、
分子量調節剤を併用すると、重合度は低下し、同時に分
子量分布が大きくなる。また、液状ジエン系ゴムは、ラ
ジカル開始剤を触媒として溶液重合または乳化重合によ
り製造できる。この場合も分子量調節剤あるいは連鎖移
動剤を使用することで重合度を下げ、液状重合体を容易
に得ることができる。
【０００８】（Ａ）のフェノ−ル系酸化防止剤として
は、２，６-ジ-第三ブチル-ｐ-クレゾ−ル、２，６-ジ-
第三ブチル-フェノ−ル、ｐ−第三ブチルカテコール、
２，４-ジ-メチル-６-第三ブチル-フェノ−ル、ブチル
ヒドロキシアニソ−ル、２，２′-メチレンビス（４-メ
チル-６-第三ブチルフェノ−ル）、４，４’-ブチリデ
ンビス（３-メチル-６-第３ブチルフェノール）、４，
４’-チオビス（３-メチル-６-第三ブチルフェノ−ル、
テトラキス［メチレン-３（３，５-ジ-第三ブチル-４-
ヒドロキシフェニル）プロピオネ−ト］メタン、１，
１，３-トリス（２-メチル-４-ヒドロキシ-５-第三ブチ
ルフェニル）ブタンなどが挙げられる。これらの中で
２，６-ジ-第三ブチル-ｐ-クレゾ−ル、２，６-ジ-第三
ブチル-フェノ−ルが好ましい。（Ｂ）のりん系酸化防
止剤としては、トリフェニル フォスファイト、トリオ
クタデシル フォスファイト、トリデシル フォスファ
イト、トリラウリルトリチオ フォスファイトが挙げら
れる。（Ｃ）のアミン系酸化防止剤としては、フェニル
-β-ナフリルアミン、α-ナフチルアミン、Ｎ，Ｎ’-ジ
-第二ブチル-ｐ-フェニレンジアミン、フェノチアジ
ン、Ｎ，Ｎ’-ジフェニル-ｐ-フェニレンジアミンが挙
げられる。
は、２，６-ジ-第三ブチル-ｐ-クレゾ−ル、２，６-ジ-
第三ブチル-フェノ−ル、ｐ−第三ブチルカテコール、
２，４-ジ-メチル-６-第三ブチル-フェノ−ル、ブチル
ヒドロキシアニソ−ル、２，２′-メチレンビス（４-メ
チル-６-第三ブチルフェノ−ル）、４，４’-ブチリデ
ンビス（３-メチル-６-第３ブチルフェノール）、４，
４’-チオビス（３-メチル-６-第三ブチルフェノ−ル、
テトラキス［メチレン-３（３，５-ジ-第三ブチル-４-
ヒドロキシフェニル）プロピオネ−ト］メタン、１，
１，３-トリス（２-メチル-４-ヒドロキシ-５-第三ブチ
ルフェニル）ブタンなどが挙げられる。これらの中で
２，６-ジ-第三ブチル-ｐ-クレゾ−ル、２，６-ジ-第三
ブチル-フェノ−ルが好ましい。（Ｂ）のりん系酸化防
止剤としては、トリフェニル フォスファイト、トリオ
クタデシル フォスファイト、トリデシル フォスファ
イト、トリラウリルトリチオ フォスファイトが挙げら
れる。（Ｃ）のアミン系酸化防止剤としては、フェニル
-β-ナフリルアミン、α-ナフチルアミン、Ｎ，Ｎ’-ジ
-第二ブチル-ｐ-フェニレンジアミン、フェノチアジ
ン、Ｎ，Ｎ’-ジフェニル-ｐ-フェニレンジアミンが挙
げられる。
【０００９】（Ｄ）の硫黄系酸化防止剤としては、ジラ
ウリルチオジプロピオネ−ト、ジステアリルチオジプロ
ピオネ−ト、ラウリルステアリルチオジプロピオネ−
ト、ジミリスチルチオジプロピオネ−ト、ジステアリル
β，β’-チオジブチレ−ト、２-メルカプト ベンゾイ
ミダゾ−ル、ジラウリルサルファイドが挙げられる。
（Ｅ）の紫外線吸収剤および光安定剤としては、フェニ
ル サリチレ−ト、モノグリコ−ル サリチレ−ト、ｐ
-第三ブチルフェニル サリチレ−ト、２-ヒドロキシ-
４-メトキシ ベンゾフェノン、２-ヒドロキシ-４-オク
トキシ ベンゾフェノン、２（２’-ヒドロキシ-５’-
メチルフェニル）ベンゾトリアゾ−ル、２（２’-ヒド
ロキシ-３’，５’-ジ-第三ブチルフェニル）ベンゾト
リアゾ−ル、２（２’-ヒドロキシ-３’-第三ブチル-
５’-メチルフェニル）ベンゾトリアゾ−ル、レゾルシ
ノ−ルモノベンゾエ−ト、２’-エチルヘキシル-２-シ
アノ-３-フェニルシンナメ−ト、ビス（２，２，６，６
-テトラメチル-４-ピペリジン）セバケ−トが挙げられ
る。（Ａ）から（Ｅ）の酸化防止剤、紫外線吸収剤およ
び光安定化剤は単独でも良いし、併用しても良い。特に
（Ａ）に（Ｂ）または（Ｄ）を併用する組み合わせが好
ましい。
ウリルチオジプロピオネ−ト、ジステアリルチオジプロ
ピオネ−ト、ラウリルステアリルチオジプロピオネ−
ト、ジミリスチルチオジプロピオネ−ト、ジステアリル
β，β’-チオジブチレ−ト、２-メルカプト ベンゾイ
ミダゾ−ル、ジラウリルサルファイドが挙げられる。
（Ｅ）の紫外線吸収剤および光安定剤としては、フェニ
ル サリチレ−ト、モノグリコ−ル サリチレ−ト、ｐ
-第三ブチルフェニル サリチレ−ト、２-ヒドロキシ-
４-メトキシ ベンゾフェノン、２-ヒドロキシ-４-オク
トキシ ベンゾフェノン、２（２’-ヒドロキシ-５’-
メチルフェニル）ベンゾトリアゾ−ル、２（２’-ヒド
ロキシ-３’，５’-ジ-第三ブチルフェニル）ベンゾト
リアゾ−ル、２（２’-ヒドロキシ-３’-第三ブチル-
５’-メチルフェニル）ベンゾトリアゾ−ル、レゾルシ
ノ−ルモノベンゾエ−ト、２’-エチルヘキシル-２-シ
アノ-３-フェニルシンナメ−ト、ビス（２，２，６，６
-テトラメチル-４-ピペリジン）セバケ−トが挙げられ
る。（Ａ）から（Ｅ）の酸化防止剤、紫外線吸収剤およ
び光安定化剤は単独でも良いし、併用しても良い。特に
（Ａ）に（Ｂ）または（Ｄ）を併用する組み合わせが好
ましい。
【００１０】酸化防止剤、紫外線吸収剤および光安定化
剤の使用量は液状ジエン系ゴム１００重量部に対して、
０．００５〜３重量部、特に０．０１〜１重量部の添加
量が好ましい。０．００５重量部未満では効果が不十分
であり、３重量部を越えると経済的に好ましくない。本
発明に使用される炭化水素系溶剤としては液状ジエン系
ゴムが溶解するものであれば特に制限はない。例えば、
ベンゼン、トルエン、キシレン、ナフタレンなどの芳香
族炭化水素溶剤、ブタン、ペンタン、ヘキサン、シクロ
ヘキサン、ヘプタン、ペンタンなどの脂肪族炭化水素溶
剤があり、好ましくは炭素数５〜８の炭化水素系溶剤で
ある。また、ケトン系有機溶剤が使用できる。例えば、
アセトン、メチルエチルケトン、ジエチルアセトンなど
などが挙げられる。これらの中で、トルエン、ヘキサ
ン、シクロヘキサン、ヘプタン、メチルエチルケトンが
好ましく、ヘキサン、シクロヘキサンが最も好ましい。
また、炭化水素系溶剤に少量の貧溶媒を添加して粘度の
低減を図っても良い。貧溶媒としてはメタノール、エタ
ノール、イソプロピルアルコール、ブタノールなどが挙
げられる。
剤の使用量は液状ジエン系ゴム１００重量部に対して、
０．００５〜３重量部、特に０．０１〜１重量部の添加
量が好ましい。０．００５重量部未満では効果が不十分
であり、３重量部を越えると経済的に好ましくない。本
発明に使用される炭化水素系溶剤としては液状ジエン系
ゴムが溶解するものであれば特に制限はない。例えば、
ベンゼン、トルエン、キシレン、ナフタレンなどの芳香
族炭化水素溶剤、ブタン、ペンタン、ヘキサン、シクロ
ヘキサン、ヘプタン、ペンタンなどの脂肪族炭化水素溶
剤があり、好ましくは炭素数５〜８の炭化水素系溶剤で
ある。また、ケトン系有機溶剤が使用できる。例えば、
アセトン、メチルエチルケトン、ジエチルアセトンなど
などが挙げられる。これらの中で、トルエン、ヘキサ
ン、シクロヘキサン、ヘプタン、メチルエチルケトンが
好ましく、ヘキサン、シクロヘキサンが最も好ましい。
また、炭化水素系溶剤に少量の貧溶媒を添加して粘度の
低減を図っても良い。貧溶媒としてはメタノール、エタ
ノール、イソプロピルアルコール、ブタノールなどが挙
げられる。
【００１１】溶剤の量は液状ジエンゴム１００重量部に
対して０．１〜１００重量部、好ましくは１〜１０重量
部である。０．１重量部以下は、粘度低下効果が小であ
り、１００重量部以上では、塗装後溶剤を除去する場
合、環境上好ましくない。本組成物は、３０℃における
Ｂ型粘度１０〜２５０ポイズであるものが取扱いが容易
で好ましい。本組成物は、そのまま使用する場合もある
が、多くはその用途に応じて充填剤、顔料、粘着付与
剤、硬化剤、希釈剤など適宜配合して使用される。本組
成物の用途は、塗料、粘着剤、プライマー、粘度指数向
上剤、加硫ゴムなどがある。
対して０．１〜１００重量部、好ましくは１〜１０重量
部である。０．１重量部以下は、粘度低下効果が小であ
り、１００重量部以上では、塗装後溶剤を除去する場
合、環境上好ましくない。本組成物は、３０℃における
Ｂ型粘度１０〜２５０ポイズであるものが取扱いが容易
で好ましい。本組成物は、そのまま使用する場合もある
が、多くはその用途に応じて充填剤、顔料、粘着付与
剤、硬化剤、希釈剤など適宜配合して使用される。本組
成物の用途は、塗料、粘着剤、プライマー、粘度指数向
上剤、加硫ゴムなどがある。
【００１２】
【実施例】以下、実施例を挙げ本発明を具体的に説明す
るが、本発明は以下の実施例に限定されるものではな
い。また、実施例中、％および部は、特に断わらない限
り重量基準である。分析、評価方法は、次の方法によっ
た。 分子量（Ｍｗ）：ゲルパーミエーションクロマトグラフ
ィー（ＧＰＣ）から、重量平均分子量を求めた。 重量平均分子量／数平均分子量（Ｍｗ／Ｍｎ）：ゲルパ
ーミエーションクロマトグラフィー（ＧＰＣ）から求め
た。 ミクロ構造：モレロ法による赤外線分析によった。 粘度：Ｂ型粘度計を用いて３０℃で測定した。 保存安定性：液状ジエン系ゴム組成物を密閉ガラス容器
に入れ、６０℃の恒温槽中、１ヶ月保存した後、目視に
より状態の変化を観察した。 塗装後の状態：液状ジエン系ゴム組成物を、刷毛でガラ
ス板に塗布し、塗布直後の外観を観察した。
るが、本発明は以下の実施例に限定されるものではな
い。また、実施例中、％および部は、特に断わらない限
り重量基準である。分析、評価方法は、次の方法によっ
た。 分子量（Ｍｗ）：ゲルパーミエーションクロマトグラフ
ィー（ＧＰＣ）から、重量平均分子量を求めた。 重量平均分子量／数平均分子量（Ｍｗ／Ｍｎ）：ゲルパ
ーミエーションクロマトグラフィー（ＧＰＣ）から求め
た。 ミクロ構造：モレロ法による赤外線分析によった。 粘度：Ｂ型粘度計を用いて３０℃で測定した。 保存安定性：液状ジエン系ゴム組成物を密閉ガラス容器
に入れ、６０℃の恒温槽中、１ヶ月保存した後、目視に
より状態の変化を観察した。 塗装後の状態：液状ジエン系ゴム組成物を、刷毛でガラ
ス板に塗布し、塗布直後の外観を観察した。
【００１３】実施例１ １０Ｌのオートクレーブに脱水窒素でバブリングしたヘ
キサン６，０００ｇ、テトラヒドロフラン３ｇ、ｎ−ブ
チルリチウム３２ｇを加え、温度を７０℃にて攪拌を続
け、イソプレン１５００ｇを１２０分かけて連続的に加
え、さらに３０分反応させた後、イソプロピルアルコー
ル５０ｇを加えて重合を停止した。次に２，６-ジ-第三
ブチル-ｐ-クレゾ−ルを１．５ｇ加えた後、減圧蒸留に
より溶剤を除去した。得られた液状イソプレンゴムの重
量平均分子量は６，０００、Ｍｗ／Ｍｎ＝１．１５であ
った。ポリマーのミクロ構造は１．４結合が８８％で、
３，４結合は１２％であった。この組成物をガスクロマ
トグラムにより分析したところ１．５％のヘキサンと
０．１０重量％の２，６-ジ-第三ブチル-ｐ-クレゾ−ル
が検出された。
キサン６，０００ｇ、テトラヒドロフラン３ｇ、ｎ−ブ
チルリチウム３２ｇを加え、温度を７０℃にて攪拌を続
け、イソプレン１５００ｇを１２０分かけて連続的に加
え、さらに３０分反応させた後、イソプロピルアルコー
ル５０ｇを加えて重合を停止した。次に２，６-ジ-第三
ブチル-ｐ-クレゾ−ルを１．５ｇ加えた後、減圧蒸留に
より溶剤を除去した。得られた液状イソプレンゴムの重
量平均分子量は６，０００、Ｍｗ／Ｍｎ＝１．１５であ
った。ポリマーのミクロ構造は１．４結合が８８％で、
３，４結合は１２％であった。この組成物をガスクロマ
トグラムにより分析したところ１．５％のヘキサンと
０．１０重量％の２，６-ジ-第三ブチル-ｐ-クレゾ−ル
が検出された。
【００１４】実施例２〜４、７ 実施例１と同様にしてイソプレンを重合した。ただし、
ｎ−ブチルリチウムの使用量は目標とする分子量に合わ
せて調節した。重合溶剤は、実施例２、７はヘキサン、
実施例３、４は、シクロヘキサンを用いた。また、実施
例３では、ｎ−ブチルリチウムを３等分し、重合開始
前、開始後２０分、４０分に加えた。重合後、表１に示
す安定剤を添加し、表１に示す溶剤含量になるまで脱溶
剤した。 実施例５ トルエン溶剤中、ブタジエン／スチレン＝７／３（重量
比）のモノマーを、ラジカル重合開始剤および少量の連
鎖移動剤を用いて重合した。重合後は、実施例２に準じ
て液状ジエン系ゴム組成物を製造した。 実施例６ メチルエチルケトン溶剤中、ブタジエン／アクリロニト
リル＝７／３（重量比）のモノマーを用いて重合したほ
かは実施例５に準じて液状ジエン系ゴム組成物を製造し
た。以上の実施例の組成物の性状と評価結果は、表１に
示した。
ｎ−ブチルリチウムの使用量は目標とする分子量に合わ
せて調節した。重合溶剤は、実施例２、７はヘキサン、
実施例３、４は、シクロヘキサンを用いた。また、実施
例３では、ｎ−ブチルリチウムを３等分し、重合開始
前、開始後２０分、４０分に加えた。重合後、表１に示
す安定剤を添加し、表１に示す溶剤含量になるまで脱溶
剤した。 実施例５ トルエン溶剤中、ブタジエン／スチレン＝７／３（重量
比）のモノマーを、ラジカル重合開始剤および少量の連
鎖移動剤を用いて重合した。重合後は、実施例２に準じ
て液状ジエン系ゴム組成物を製造した。 実施例６ メチルエチルケトン溶剤中、ブタジエン／アクリロニト
リル＝７／３（重量比）のモノマーを用いて重合したほ
かは実施例５に準じて液状ジエン系ゴム組成物を製造し
た。以上の実施例の組成物の性状と評価結果は、表１に
示した。
【００１５】比較例１ テトラヒドロフランの量を６０ｇに変え、ヘキサンをシ
クロヘキサンに変えたほかは実施例１と同様に重合をお
こなった。実施例１と同じ安定剤を０．１％添加し、シ
クロヘキサン含量１．８％の液状イソプレンゴム組成物
を製造した。この液状イソプレンゴムの重量平均分子量
は５，６００であり、Ｍｗ／Ｍｎ＝１．２０であった。
ポリマーのミクロ構造は１．４結合が５６％で、３，４
結合は４４％であった。この組成物をガスクロマトグラ
ムにより分析したところ、１．８％のシクロヘキサン
と、０．１０％の２，６-ジ-第三ブチル-ｐ-クレゾ−ル
が検出された。 比較例２ 安定剤を入れないほかは、実施例２と同様に実験した。
クロヘキサンに変えたほかは実施例１と同様に重合をお
こなった。実施例１と同じ安定剤を０．１％添加し、シ
クロヘキサン含量１．８％の液状イソプレンゴム組成物
を製造した。この液状イソプレンゴムの重量平均分子量
は５，６００であり、Ｍｗ／Ｍｎ＝１．２０であった。
ポリマーのミクロ構造は１．４結合が５６％で、３，４
結合は４４％であった。この組成物をガスクロマトグラ
ムにより分析したところ、１．８％のシクロヘキサン
と、０．１０％の２，６-ジ-第三ブチル-ｐ-クレゾ−ル
が検出された。 比較例２ 安定剤を入れないほかは、実施例２と同様に実験した。
【００１６】比較例３ 実施例１のｎ−ブチルリチウム量を４ｇに、テトラヒド
ロフランを１２０ｇにして、実施例１と同様に重合を行
った。分子量５０，０００、１，４−結合５５％の液状
イソプレンゴムを得た。表２の安定剤を加えて同様に評
価した。 比較例４ 実施例１のｎ−ブチルリチウム量を８ｇに、イソプレン
の代わりにブタジエン１，２００ｇとスチレン３００ｇ
にして、実施例１と同様に重合を行った。安定剤を加え
ずに表２に示した条件で実験した。以上の比較例の組成
物の性状と評価結果は、表２に示した。
ロフランを１２０ｇにして、実施例１と同様に重合を行
った。分子量５０，０００、１，４−結合５５％の液状
イソプレンゴムを得た。表２の安定剤を加えて同様に評
価した。 比較例４ 実施例１のｎ−ブチルリチウム量を８ｇに、イソプレン
の代わりにブタジエン１，２００ｇとスチレン３００ｇ
にして、実施例１と同様に重合を行った。安定剤を加え
ずに表２に示した条件で実験した。以上の比較例の組成
物の性状と評価結果は、表２に示した。
【００１７】表１、表２における溶剤の種類、安定剤の
種類は記号で示した。記号とその内容は次のとおりであ
る。 Ｈ：ヘキサン、Ｃ：シクロヘキサン、Ｔ：トルエン、
Ｍ：メチルエチルケトン ａ：２，６-ジ-第三ブチル-ｐ-クレゾ−ル ｂ：２，６-ジ-第三ブチル-ｐ-クレゾ−ルとトリオクタ
デシル フォスファイトの５０：５０の混合物 ｃ： Ｎ，Ｎ’-ジ-第二ブチル-ｐ-フェニレンジアミン ｄ：２，６-ジ-第三ブチル-ｐ-クレゾ−ルとラウリルス
テアリルチオジプロピオネ−トの５０：５０の混合物 ｅ：２，６-ジ-第三ブチル-ｐ-クレゾ−ルと２-ヒドロ
キシ-４-メトキシ ベンゾフェノンの５０：５０の混合
物 ＬＩＲ：液状ポリイソプレンゴム ＬＳＢＲ：液状スチレン−ブタジエンゴム ＬＮＢＲ：液状アクリロニトリル−ブタジエンゴム
種類は記号で示した。記号とその内容は次のとおりであ
る。 Ｈ：ヘキサン、Ｃ：シクロヘキサン、Ｔ：トルエン、
Ｍ：メチルエチルケトン ａ：２，６-ジ-第三ブチル-ｐ-クレゾ−ル ｂ：２，６-ジ-第三ブチル-ｐ-クレゾ−ルとトリオクタ
デシル フォスファイトの５０：５０の混合物 ｃ： Ｎ，Ｎ’-ジ-第二ブチル-ｐ-フェニレンジアミン ｄ：２，６-ジ-第三ブチル-ｐ-クレゾ−ルとラウリルス
テアリルチオジプロピオネ−トの５０：５０の混合物 ｅ：２，６-ジ-第三ブチル-ｐ-クレゾ−ルと２-ヒドロ
キシ-４-メトキシ ベンゾフェノンの５０：５０の混合
物 ＬＩＲ：液状ポリイソプレンゴム ＬＳＢＲ：液状スチレン−ブタジエンゴム ＬＮＢＲ：液状アクリロニトリル−ブタジエンゴム
【００１８】
【発明の効果】実施例より明らかなように、本発明の液
状ゴム組成物は保存安定性が良好であり、塗装性が優れ
ている。
状ゴム組成物は保存安定性が良好であり、塗装性が優れ
ている。
【００１９】
【表１】
【００２０】
【表２】
Claims (1)
- 【請求項１】 重量平均分子量が２，０００〜５０，０
００、かつ、ジエン重合体部分のミクロ構造における
１，４結合が７０％以上である液状ジエン系ゴム１００
重量部に対して、（Ａ）フェノール系酸化防止剤、
（Ｂ）リン系酸化防止剤、（Ｃ）アミン系酸化防止剤、
（Ｄ）イオウ系酸化防止剤、（Ｅ）紫外線吸収剤および
／または光安定化剤、から選ばれた１種または２種以上
を０．００５〜３重量部、および炭化水素系溶剤または
ケトン系有機溶剤０．１〜１００重量部を含有した液状
ジエン系ゴム組成物。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP8411694A JPH07268133A (ja) | 1994-03-30 | 1994-03-30 | 液状ジエン系ゴム組成物 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP8411694A JPH07268133A (ja) | 1994-03-30 | 1994-03-30 | 液状ジエン系ゴム組成物 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH07268133A true JPH07268133A (ja) | 1995-10-17 |
Family
ID=13821556
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP8411694A Pending JPH07268133A (ja) | 1994-03-30 | 1994-03-30 | 液状ジエン系ゴム組成物 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH07268133A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2005019354A1 (en) * | 2003-08-22 | 2005-03-03 | Sartomer Technology Co., Inc. | High temperature stabilization of uv systems |
-
1994
- 1994-03-30 JP JP8411694A patent/JPH07268133A/ja active Pending
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2005019354A1 (en) * | 2003-08-22 | 2005-03-03 | Sartomer Technology Co., Inc. | High temperature stabilization of uv systems |
| US7312254B2 (en) | 2003-08-22 | 2007-12-25 | Sartomer Technology Company, Inc. | High temperature stabilization of UV systems |
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