JPH07263863A - 厚膜多層基板 - Google Patents

厚膜多層基板

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Publication number
JPH07263863A
JPH07263863A JP6053953A JP5395394A JPH07263863A JP H07263863 A JPH07263863 A JP H07263863A JP 6053953 A JP6053953 A JP 6053953A JP 5395394 A JP5395394 A JP 5395394A JP H07263863 A JPH07263863 A JP H07263863A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
substrate
layer
insulator
wiring layer
separation
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP6053953A
Other languages
English (en)
Inventor
Ryoichi Kuzukawa
良一 葛川
Akihiko Ibata
昭彦 井端
Takao Yuri
孝雄 由利
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Panasonic Holdings Corp
Original Assignee
Matsushita Electric Industrial Co Ltd
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Publication date
Application filed by Matsushita Electric Industrial Co Ltd filed Critical Matsushita Electric Industrial Co Ltd
Priority to JP6053953A priority Critical patent/JPH07263863A/ja
Publication of JPH07263863A publication Critical patent/JPH07263863A/ja
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Abstract

(57)【要約】 (修正有) 【目的】 多層化絶縁体と基板との応力を緩和すると共
に基板の機械的強度を向上させ、高信頼性を確保した厚
膜多層基板を提供することを目的とする。 【構成】 1は基板である。2は基板1上にペースト状
の材料を多層印刷し焼結した絶縁体である。3は該絶縁
体2と交互に積層した内部導体である。4はチップ部品
を実装するための外部導体である。5は基板1と絶縁体
2との膨張係数の違いによる焼結時の応力を緩和するた
めの分離凹部である。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、チップ部品、複合部
品、厚膜ハイブリッドIC等に使用する厚膜多層基板に
関するものである。
【0002】
【従来の技術】近年、チップ部品の小型化実現のため、
厚膜多層印刷技術を応用した積層チップ部品、例えば積
層セラミックコンデンサ、積層チップインダクタなど、
多層化技術の進歩は著しいものがある。また複合部品や
厚膜ハイブリッドICも多層印刷によってコンデンサや
コイルの内蔵を図っており多層化の方向に進化してきて
いる。
【0003】以下に従来の厚膜多層基板について説明す
る。図5〜図8は厚膜多層基板を示す断面図、斜視図で
ある。図5、図6に示すように、厚膜多層基板は、基板
11と、この基板11上において、導体13と絶縁体1
2とを交互に積層した配線層15とからなる。14は主
にチップ部品を実装するための外部導体であり、複合部
品や厚膜ハイブリッドICとして該基板11上に該チッ
プ部品を実装し回路として構成するためのものである。
なお破線部Cは基板11内に同時に多数個印刷し焼結し
てなる個別単品の境界を示すものであり、最終的にはこ
の破線部Cにおいて分割し、それぞれ個別単品となる。
図7、図8は、図5、図6で示した厚膜多層基板と略同
等であり、破線部Cに対応する箇所に配線層15を分割
する完全分離凹部17を有した構成である。この完全分
離凹部17において、分割し、それぞれ個別単品とな
る。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら上記の従
来の構成では、セラミック基板、誘電体基板、磁性体基
板等の基板11上に内部導体13と絶縁体12を交互に
印刷し多層化した厚膜多層基板において、多層印刷した
材料を焼結するためのプロセスとして、数百度の昇温と
降温を繰り返し行う。この焼結時において、該基板11
と該絶縁体12の膨張係数の違いによる応力が内在した
状態で焼結のための昇降温を繰り返す。この状態をわか
りやすく説明すると、焼結温度によってバイメタルのよ
うに伸張圧縮し、特に該基板11から離れた層即ち多層
印刷の上層部では伸張圧縮が著しく起こり応力を残した
状態で焼結される。その結果として、該基板11と焼結
された内部導体13および絶縁体12にソリ及びクラッ
ク等が発生し信頼性面で著しく劣化する問題点を有して
いた。
【0005】また、応力緩和のため、個別単品ごとの完
全分離凹部17を設ける方法では、高温焼結時の昇降温
ストレスまたは焼結用トンネル炉における搬送等で基板
11が割れるという問題点をも有していた。
【0006】本発明は上記従来の問題点を解決するため
のもので、多層化した絶縁体と基板との応力を緩和する
と共に基板の機械的強度も向上させ、高信頼性を確保し
た厚膜多層基板を提供することを目的とする。
【0007】
【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
に本発明の厚膜多層基板では、基板と、前記基板上に導
体と絶縁体とを交互に積層した配線層とからなり、前記
配線層は上層部と下層部を有し、前記配線層の上層部の
みに前記配線層を分離する分離凹部を備えた構成であ
る。
【0008】
【作用】上記構成により、配線層の上層部のみに分離凹
部を有しているので、繰り返し焼結をしても、基板と絶
縁体の膨張係数の違いによる応力が分離凹部で吸収さ
れ、内部導体、絶縁体におけるソリ、クラックの発生を
防止できる。
【0009】また、配線層の下層部には分離凹部がな
く、導体、絶縁体が形成されているので、機械的強度も
向上させることもできる。
【0010】
【実施例】
(実施例1)以下本発明の一実施例について、図面を参
照しながら説明する。図1、図2に示すように、1は予
め焼結されたセラミック基板、誘電体基板、磁性体基板
などの基板である。2は該基板1上にペースト状の材料
を多層印刷し焼結した絶縁体であり、単なる絶縁体材料
以外に誘電体ペーストまたは磁性体ペーストなどで印刷
し焼結形成した絶縁材料であってもよい。3は該絶縁体
と交互に積層した内部導体であり、多層印刷し焼結して
なるペースト状の材料として例えばAgペースト、Ag
−Pdペースト、Cuペーストなどである。4は主にチ
ップ部品を実装するための外部導体であり、複合部品や
厚膜ハイブリッドICとして該基板1上に該チップ部品
を実装し回路として構成するためのものである。5は該
基板1と該絶縁体2との膨張係数の違いによる焼結時の
応力を緩和するための分離凹部である。多層印刷によっ
て形成した絶縁体2において該絶縁層の3層目以上の上
層部Aには配線層7を分離する分離凹部5を設け、絶縁
層の2層目以下の下層部Bには分離凹部5がなく、内部
導体3、絶縁体2を有している。
【0011】また、上層部Aに設けた分離凹部5に対応
する下層部Bの位置には内部導体3を設けていない。
【0012】これらの構成により、配線層7の上層部A
のみに分離凹部5を有しているので、繰り返し焼結をし
ても、基板1と絶縁体2の膨張係数の違いによる応力が
分離凹部5で吸収され、内部導体3、絶縁体2における
ソリ、クラックの発生を防止できる。
【0013】また、配線層7の下層部Bには分離凹部5
がなく、内部導体3、絶縁体2が形成されているので、
機械的強度も向上させることもできる。
【0014】さらに、上層部Aに設けた分離凹部5に対
応する下層部Bの位置には内部導体3を設けていないの
で、個別単品を形成する際、分離凹部5に沿って分割が
容易である。
【0015】このように第1の実施例によれば、内部導
体3、絶縁体2におけるソリ、クラックの発生を防止で
き、また機械的強度も向上させることができる。
【0016】さらに、個別単品を形成する際の、厚膜多
層基板の分割が容易である。 (実施例2)以下、本発明の第2の実施例について図面
を参照しながら説明する。
【0017】図3、図4に示すように第2の実施例にお
ける厚膜多層基板は実施例1のそれと略同等であり、基
板1が配線層7の幅よりも大きく、余白部6を有した構
成である。
【0018】この構成により、基板1に絶縁体2、内部
導体3を多層印刷する際に、絶縁体2または内部導体3
の基板1上での方向を適正位置に認識するための認識マ
ークとなり、誤印刷を防止することができる。また、製
造工程中における搬送を容易にすることもできる。
【0019】このように第2の実施例によれば、第1の
実施例の効果に加えて、誤印刷防止、搬送の容易を可能
とすることができる。
【0020】
【発明の効果】以上のように本発明によれば、配線層の
上層部のみに分離凹部を有しているので、繰り返し焼結
をしても、基板と絶縁体の膨張係数の違いによる応力が
分離凹部で吸収され、内部導体、絶縁体におけるソリ、
クラックの発生を防止できる。
【0021】また、配線層の下層部には分離凹部がな
く、導体、絶縁体が形成されているので、機械的強度も
向上させることもできる。
【0022】さらに、上層部に設けた分離凹部に対応す
る下層部の位置には内部導体を設けていないので、個別
単品を形成する際、分離凹部に沿って分割が容易であ
る。
【0023】そして、誤印刷防止、搬送の容易を可能と
することもできるものである。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の第1の実施例における厚膜多層基板の
斜視図
【図2】同厚膜多層基板の断面図
【図3】本発明の第2の実施例における厚膜多層基板の
斜視図
【図4】同厚膜多層基板の断面図
【図5】従来の厚膜多層基板の斜視図
【図6】同厚膜多層基板の断面図
【図7】従来の厚膜多層基板の斜視図
【図8】同厚膜多層基板の断面図
【符号の説明】
1 基板 2 絶縁体 3 内部導体 4 外部導体 5 分離凹部 6 余白部 7 配線層

Claims (2)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 基板と、前記基板上に導体と絶縁体とを
    交互に積層した配線層とからなり、前記配線層は上層部
    と下層部を有し、前記配線層の上層部のみに前記配線層
    を分離する分離凹部を備えた厚膜多層基板。
  2. 【請求項2】 配線層の上層部に設けた分離凹部に対応
    する下層部の一部を除いて、前記配線層の上層部と下層
    部とに導体と絶縁体とを交互に積層した請求項1記載の
    厚膜多層基板。
JP6053953A 1994-03-24 1994-03-24 厚膜多層基板 Pending JPH07263863A (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP6053953A JPH07263863A (ja) 1994-03-24 1994-03-24 厚膜多層基板

Applications Claiming Priority (1)

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JP6053953A JPH07263863A (ja) 1994-03-24 1994-03-24 厚膜多層基板

Publications (1)

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JPH07263863A true JPH07263863A (ja) 1995-10-13

Family

ID=12957091

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JP6053953A Pending JPH07263863A (ja) 1994-03-24 1994-03-24 厚膜多層基板

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JP (1) JPH07263863A (ja)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2005337737A (ja) * 2004-05-24 2005-12-08 Tokyo Electron Ltd 積層基板及びプローブカード

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
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JP2005337737A (ja) * 2004-05-24 2005-12-08 Tokyo Electron Ltd 積層基板及びプローブカード

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