JPH07263840A - 基板のエッチング方法、および、基板のエッチング装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【目的】 基板半製品をローラコンベアによって搬送し
つつエッチング液を噴霧してエッチング処理する方法お
よび装置を改良して、該基板半製品の上にエッチング液
の液溜まりが発生しないようにし、エッチングむらを防
止する。 【構成】 （Ａ）図のように、小径のローラ１３を３本
並べた小径ローラ群１３Ｇと大径のローラ１５とを交互
に配置し、搬送される基板半製品を１０ａ→１０ｂ→１
０ｃのようにシーソー状に揺動させる。（Ｃ）図のよう
に、多数のローラに高低差を与えて配列しても良い。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は、プリント基板を製造す
るため、製造工程途中のプリント基板（以下、プリント
基板の半製品と言う）にエッチング液を接触せしめてエ
ッチング処理を施す方法、および同装置に関するもので
ある。

【０００２】

【従来の技術】多数のプリント基板を工業的に製造する
場合、製品品質の均一性を得るため、該多数のプリント
基板の半製品を均一にエッチング液と接触せしめること
が必要である。エッチング液に接触せしめる方法を大別
して浸漬法と噴霧法とが有り、それぞれ長短を有してい
るが、多数のプリント基板半製品を流れ作業でエッチン
グ処理することができ、エッチング作業条件の観察や制
御が容易であるという点で、該プリント基板半製品を一
定速度で搬送しつつ多数のエッチング液噴霧ノズルの前
方を通過させる工法が好適である。この場合、個々のプ
リント基板半製品の前面を同一条件でエッチング液に接
触せしめるという観点から、該プリント基板半製品を水
平姿勢に保持して搬送することが望ましい。図３は、多
数のプリント基板半製品を水平姿勢で搬送しつつエッチ
ング液を噴霧する方式のエッチング装置の従来例を示
し、その要部を模式的に描いた垂直断面図である。図４
は上記従来例に係るプリント基板エッチング装置の従来
例の要部を描いた平面図である。この図３，図４におい
て、図示しないプリント基板半製品は図の左方から、送
入コンベア１によって送り込まれ、図３に示したローラ
コンベア２によって図の右方に搬送されつつ、次に述べ
るようにしてエッチング液を噴霧され、次いで水洗され
る。本発明においてローラコンベアとは、ローラの長さ
寸法が径よりも小さい円板状をなしているもの（通称リ
ングコンベア）も含む意である。

【０００３】上記ローラコンベア２は、上段ローラ列２
ｕと下段ローラ列２ｄとによって構成され、プリント基
板半製品（図示せず）を上下から挟みつけて搬送する構
造である。上記ローラコンベア２は、エッチング液槽３
を備えたエッチング室内を通過しその搬送路の上方に上
部エッチング液ノズル６ｕが配置されるとともに、該搬
送路の下方に下部エッチング液ノズル６ｄが配置されて
いる。エッチング液槽３内のエッチング液は、図４に示
したエッチング液ポンプ５に吸入，吐出され、図３に示
した上部ノズル管６ａ，下部ノズル管６ｂに圧送され、
前述した上部エッチング液ノズル６ｕおよび下部エッチ
ング液ノズル６ｄから噴霧される。ローラコンベアによ
ってエッチング室内を通過したプリント基板半製品（図
示せず）は、水洗機構４に搬入される。４ａは水槽、４
ｂは水ポンプ、４ｃは水ノズルである。前記エッチング
液槽３内には、エッチング液温を制御するための冷却コ
イル８およびヒータ（図示省略）が設置されている。加
工対称物であるプリント基板半製品（図示せず）は、ロ
ーラコンベア２によって図の左方から右方に向けて搬送
されつつ、エッチング液槽３，同３の上方を通過する間
に、上，下両方からエッチング液を噴霧され、その両面
をそれぞれエッチング加工される。図示の９は、作業状
態を観察するための覗き窓である。

【０００４】

【発明が解決しようとする課題】図３，図４に示した従
来例のエッチング装置においては、搬送されつつあるプ
リント基板半製品（図示せず）は、その両面に均一なエ
ッチング液噴霧を受ける。本従来例においては、揺動機
構７によってノズル管６ａ，６ｂを揺動させており、そ
の上、プリント基板半製品は多数のノズル６ｕ，６ｄの
前方を順次に通過するので、噴霧を受けることの均一性
は、実用上必要とするレベルを充分にカバーしている。
ところが、噴霧されたエッチング液が液状となって流下
し、若しくは液滴となって落下することについては、均
一性が充分でない。すなわち、プリント基板半製品の下
面に噴霧されたエッチング液は早急に滴下して循環する
が、プリント基板半製品の上面に噴霧されたエッチング
液は、該プリント基板半製品が水平に保持されているた
め流れ淀んで液溜りを形成する。その液溜りが出来ると
エッチング処理の全面均一性が失われ、エッチングむら
を生じる。上記の液溜りの発生を防止するため、プリン
ト基板半製品を水平に保持して水平方向に搬送しつつ、
その下面側にのみエッチング液を噴霧することが有効で
ある。この技術は本発明者が創作して出願中の発明（特
願平５−８６０２０号・未公開）である。上記未公知の
先願に拘る発明によれば液溜りの発生が有効に防止さ
れ、エッチングむらが未然に防止されることが確認され
ている。しかし、上記の方法（下面のみに噴霧）による
ときは、先ず基板半製品の下側面にエッチング液を噴霧
した後、該基板半製品の上下を反転して、もう一度、新
たに下側になった面にエッチング液を噴霧するといった
高低を経なければならないので、これを流れ作業で自動
的に行なうには基板の上下反転装置を設けるとともに、
その上流側と下流側とのそれぞれにエッチング液噴霧装
置（片面エッチング装置）を設けなければならないの
で、高品質の均一なエッチング装置を行ない得る代りに
設備コストが高く、設備の所要面積が増加するという問
題が有った。半導体技術の進歩に伴ってエッチング処理
の高精度化が厳しく要求されているので、上記未公知の
先願に係る均一なエッチング処理技術は優れた実用的価
値を有しているが、更なる改善として設備コストや設備
所要面積の増加を伴なうことなく、均一なエッチング処
理（液溜まりに因るエッチングむらの抑制）が望まれ
る。本発明は上述の事情に鑑みて為されたものであっ
て、エッチングむらを生じる虞れ無く、プリント基板半
製品の両面それぞれに均一なエッチング処理を施すこと
のできるエッチング方法、および、上記の方法を実施す
るに好適なエッチング装置を提供することを目的とす
る。

【０００５】

【課題を解決するための手段】上記の目的（エッチング
むら発生防止）を達成するために創作した本発明の基本
的原理を略述すると次のごとくである。すなわち、従
来、水平に設けられたローラコンベアによって基板半製
品を水平に保持しつつ水平方向に搬送していたので、上
記水平に保持されている基板半製品の上面に付着したエ
ッチング液は何れの方向にも流動せずに淀んで液溜りを
生じたことに鑑み、本発明は基板の搬送面をマクロ的に
は水平としつつも、該水平面を基準として波状に構成
し、搬送される基板半製品をシーソー状に揺動させる。
これにより、該基板半製品の上面に付着したエッチング
液は上記シーソー状の往復揺動に伴って往復流動し、淀
むことなく、全面均一なエッチング処理を進行させる。
ただし、本発明におけるシーソー状の揺動は、基板半製
品をほぼ水平方向に搬送しつつ行なわれるので、静止支
点を中心とするシーソー状の揺動ではなく、ほぼ水平方
向にほぼ一定速度で移動しつつある支点を中心とした往
復傾動であって、例えば船舶工学や車両工学におけるピ
ッチングに類似する動きである。その実例は図１を参照
して後述する。

【０００６】本発明の方法は、上記のシーソー状揺動を
行なわせるための具体的な手段の相違によって第１の発
明方法と第２の発明方法とに大別される。また本発明の
装置は、上記第１の発明方法を実施するために構成した
第１の発明装置と、第２の発明方法を実施するために構
成した第１の発明装置とに大別される。第１の発明方法
は、ローラコンベアによって基板半製品を搬送しつつ、
該基板半製品にエッチング液を噴霧するエッチング方法
において、ローラコンベアを構成し基板半製品を載せて
搬送する多数のローラの配置に高低差を設け、搬送され
る基板半製品にシーソー状の揺動を行なわせて、基板面
上にエッチング液溜まりが生じないようにし、基板半製
品の全面に均一なエッチング処理を施すことを特徴とす
る。

【０００７】第２の発明方法は、ローラコンベアによっ
て基板半製品を搬送しつつ、該基板半製品にエッチング
液を噴霧するエッチング方法において、ローラコンベア
を構成し基板半製品を載せて搬送する多数のローラの直
径に大小差を設け、搬送される基板半製品にシーソー状
の揺動を行なわせて、基板面上にエッチング液溜まりが
生じないようにし、基板半製品の全面に均一なエッチン
グ処理を施すことを特徴とする。

【０００８】第１の発明装置は、基板半製品を搬送する
ローラコンベアと、上記ローラコンベアによって搬送さ
れている基板半製品にエッチング液を噴霧するエッチン
グ液ノズルとを具備する基板のエッチング装置におい
て、基板半製品を載せて回転する多数のコンベアローラ
の配置に高低差を設け、搬送される基板半製品が高い位
置のローラに乗り上げ，乗り越す際、該基板半製品がシ
ーソー状に揺動せしめられる構造であることを特徴とす
る。

【０００９】第２の発明装置は、基板半製品を搬送する
ローラコンベアと、上記ローラコンベアによって搬送さ
れている基板半製品にエッチング液を噴霧するエッチン
グ液ノズルとを具備する基板のエッチング装置におい
て、基板半製品を載せて回転する多数のコンベアローラ
の直径に大小差を設け、搬送される基板半製品が大径寸
法のローラに乗り上げ，乗り越す際、該基板半製品がシ
ーソー状に揺動せしめられる構造であることを特徴とす
る。

【００１０】

【作用】上述の手段によると、第１の発明装置を用いて
第１の発明方法を実施した場合も、第２の発明装置を用
いて第２の発明方法を実施した場合も、基板半製品がエ
ッチング液の噴霧を受けつつ搬送される途中で、該基板
半製品がシーソー状に揺動せしめられてピッチング動作
を行なうので、繰り返される往復傾動の度毎に、基板半
製品の上面に付着しているエッチング液は傾斜の下方に
向けて流動し、往復流動を繰り返す。このため、基板半
製品の表面は絶えず新鮮なエッチング液の流動に均一に
触れ、液溜まりを生じることが無い。従って液溜まりに
因るエッチングむらを生じること無く、高品質のエッチ
ング処理を高能率で行なうことができる。しかも、搬送
されつつある基板半製品の上，下両面にエッチング液を
噴霧することができるので、基板の上下を反転する手段
を必要とせず、エッチング処理設備の全体を大形，大重
量化させることも無く、設備所要面積を増加させること
も無く、設備コストを著しく増加させる虞れも無い。

【００１１】

【実施例】次に、図１および図２を順次に参照しつつ、
本発明の実施例を説明する。図１は本発明に係る基板の
エッチング装置の基本的構成と作動原理とを説明するた
めに示したもので、（Ａ）は第１の発明装置を使用して
第１の発明方法を実施している状態を模式的に描いた側
面図、（Ｂ）は第１の発明装置を組み替えて大形の基板
半製品に対して第１の発明方法を実施している状態を模
式的に描いた側面図、（Ｃ）は第２の発明装置を使用し
て第２の発明方法を実施している状態を模式的に描いた
側面図である。従来例のローラコンベアは、例えば図３
に示したローラコンベア２のように、基板半製品を水平
に保持して水平方向に搬送するように構成されていた。
図１（Ａ）に示した実施例において、ｘ−ｘ′は参考の
ために示した水平な仮想の基準面であって、本図におい
ては水平な線によって表わされている。基板を載せて回
転するローラには、直径寸法ｄのローラ１３と、直径Ｄ
＞ｄのローラ１５とが有り、本例においては小径のロー
ラ１３が配列されて小径ローラ群１３Ｇを形成してい
る。そして、上記の小径ローラ群１３Ｇと大径ローラ１
５とが搬送方向（本例においては左から右へ）に、交互
に配設されている。上記小径のローラ１３および大径の
ローラ１５は、前記仮想の基準面ｘ−ｘ′に中心線を位
置せしめて配列されているが、これらのローラの径寸法
が一定でないので、各ローラの頂部を結ぶ包絡線は波打
ち状に上下している。このため、基板半製品が図示の１
０ａ→１０ｂ→１０ｃのように搬送される際、大径のロ
ーラ１５に乗り上げたり乗り越えたりしながらシーソー
状に揺動せしめられる。

【００１２】上記基板半製品はシーソー状に揺動しつつ
搬送されながら、図外のエッチング液ノズルからその
上，下面にエッチング液の噴霧を受ける。噴き付けられ
て基板半製品の表面に付着したエッチング液は膜状をな
し、前記シーソー状の揺動に伴って、下になっている側
に向けて流動する。該基板半製品がシーソー状に傾動を
繰り返すので、上記の流動は往復流動となり、基板半製
品上で淀んだり溜まったりすることなく、全面に均一に
接触する。従って、エッチング反応は全面均一に進行
し、エッチングむらを生じない。前記小径のローラ１３
は、図２を参照して後述するように、ローラ長さがロー
ラ径よりも短いリングローラであるが、大径のローラ１
５は円柱状のストレートローラである。そして、該スト
レートローラよりなる大径ローラの上方に隣接せしめ
て、かつ該大径のストレートローラ１５と平行に、スト
レートローラ１４が配設されている。搬送される基板は
上記双方のストレートローラ１４，１５の間を通りなが
ら余分のエッチング液をスクイーズされ、いっそう均一
な薄層となり、エッチングむらが確実に防止される。先
に述べた小径のローラ群１３Ｇを挟んで配置されている
大径ローラ１５相互の間隔寸法をＬｒとし、基板半製品
の搬送方向の長さ寸法をＬ₁とし、 Ｌ₁＞Ｌｒ であると、前記のシーソー状揺動は旨く行なわれ難い。
そこで、本図（Ｂ）に示すように、基板半製品の搬送方
向長さ寸法Ｌ₂が Ｌ₂＞Ｌｒ であるときは５個の小径ローラ１３を挟んで大径ローラ
１５を配置すると良い。図１（Ａ）のように構成されて
いるローラコンベアを図１（Ｂ）のように組み替えるに
は、大径のローラ１５と小径のローラ１３とを迅速，容
易に交換できる構造であることが望まれる。上記の交換
は、単にローラ部材を入れ替えるだけでなく、それぞれ
のローラを回転させている伝動系統の繋ぎ換えを必要と
する。図２は上記実施例における大径ローラの支持・伝
動機構と小径ローラの支持・伝動機構とを説明するため
に示したもので、ローラ軸と平行な垂直面で切断して模
式的に描いた部分断面図である。図２に示したリング形
小径ローラ１３は、前掲の図１に模式的に示した小径ロ
ーラ１３を具体的に実形投影図として描いたものであっ
て、複数個のリング形小径ローラ１３がローラ軸２１に
取り付けられており、該ローラ軸２１は可動フレーム１
７ｂによって回転自在に支承されるとともに、被動傘歯
車２０ｂを介して駆動傘歯車１９ｂによって回転駆動さ
れる。２本の駆動軸１８ａ，１８ｂがローラコンベアの
両側に、それぞれ該ローラコンベアの搬送方向（本図２
において紙面と垂直方向）と平行に配置され、固定フレ
ーム１６によって回転自在に支承されるとともに、図外
の駆動源（電動機）によって回転せしめられる。前記駆
動軸１８ａには多数の駆動傘歯車１９ａが取り付けら
れ、前記駆動軸１８ｂには伝動手段の駆動側部材として
多数の駆動傘歯車１９ｂが取り付けられている。可動フ
レーム１７ａによって、図１で説明したストレート形の
大径ローラ１５と、スクイーズ用のストレートローラ１
４とが回転自在に支承されるとともに、上記ストレート
形大径ローラ１５には上記伝動手段の被動側部材として
被動傘歯車２０ａが取り付けられている。

【００１３】前記可動フレーム１７ａは、ストレート形
大径ローラ１５およびスクイーズローラ１４を支持した
ままで、固定フレーム１６から取り外したり、取り付け
たりすることができ、上記の取り外し，取り付けに伴っ
て、被動傘歯車２０ａが駆動傘歯車１９ａに対して離脱
されたり噛合せしめられたりする。上記と同様に、可動
フレーム１７ｂはローラ軸２１を介してリング形小径ロ
ーラ１３を支持したままで固定フレーム１６から取り外
されたり取り付けられたりすることができる。このよう
に、ストレート大径ローラ１５はスクイーズローラ１４
を伴って着脱容易であり、リング形小径ローラ１３も着
脱容易である。これにより、図１（Ａ）に示した状態と
同図（Ｂ）に示した状態との間で、迅速かつ容易に組み
換えることができ、基板半製品の搬送方向長さ寸法（Ｌ
₁，Ｌ₂）の変化に対して即座にかつ容易に順応すること
ができる。

【００１４】図２について以上に説明したように、スト
レート形大径ローラ１５およびリング形小径ローラ１３
それぞれの伝動経路の中に傘歯車による伝動手段が組み
込まれているため、 イ．ローラコンベアと平行に設けた駆動軸１８ａ，１８
ｂのそれぞれに、多数の駆動傘歯車１９ａ，１９ｂを取
り付けることにより、多数のローラ１５，１３を駆動す
ることができ、しかも ロ．駆動傘歯車１９ａ，１９ｂに対して被動傘歯車２０
ａ，２０ｂを噛合せしめることにより、ローラ１５，１
３の伝動経路を迅速，容易に切り離したり接続したりす
ることができる。 そして、図２に示したように、小径のローラ１３をリン
グ形とすることにより、該小径のローラが基板半製品の
面を覆い隠す面積を少なくし、エッチング液の噴霧に対
する露出面積を大ならしめることができる。図１
（Ａ），（Ｂ）に示したように、小径のローラ１３は、
その複数個を配列して小径ローラ群１３Ｇを形成し、こ
の小径ローラ群１３Ｇを挟んで大径ローラ１５が配列さ
れているので、図１に示されているようにローラの個数
を該ローラの回転軸の本数で算えても、小径のローラ１
３の設置個数（正しくは軸数）は、大径のローラ１５の
設置個数よりも多い。このような設置個数配分にする
と、基板半製品に向けてエッチング液を噴霧するノズル
の配設範囲を広くとることができ、間接的にエッチング
むらの防止に寄与する。図２に示されているように、大
径のローラ１５およびスクイーズローラ１４はストレー
ト形のローラである。これは、図１（Ａ）を参照して述
べたように、これらのローラ１５，１４の間に基板半製
品を通過せしめてスクイーズ効果を発揮させるための構
成である。

【００１５】図１（Ａ）に示したように、搬送される基
板半製品が１０ａ→１０ｂ→１０ｃのごとくシーソー状
に揺動（ピッチング）しながら進行する主たる原因は、
配列された多数のローラそれぞれの頂部を結ぶ線が上下
に波打っているからである（ただし、図１（Ａ）は側面
図であるから波打った線として描かれているが、これを
立体的に考察すると波打った面である）。こうした原理
に着目すると、図１（Ａ），（Ｂ）に示したようにロー
ラ径に大小差を設ける代りに、図１（Ｃ）のように、多
数の小径のローラ１３，１３′を配列するとともに、そ
の配列位置に高低差を設けても同様な効果が得られるこ
とが理解される。図１（Ａ）について説明したエッチン
グ装置は第１の発明装置であり、図１（Ｃ）に示されて
いるのは第２の発明装置である。次に、図１（Ｃ）を参
照しつつその具体的な構成について、前記実施例（第１
の発明）と対比して説明する。図１（Ａ）においては３
個の小径ローラ１３と１個の大径のローラ１５とを交互
に配列した。図１（Ｃ）においては３個の小径ローラ１
３を基準線ｘ−ｘ′に沿って配列し、１個の小径のロー
ラ１３′を該基準線ｘ−ｘ′よりも高い位置に配設し、
これを繰り返す。これにより基板半製品は１２ａ→１２
ｂ→１２ｃのようにシーソー状に揺動しつつ搬送され
る。上記低位置のローラ１３はリングローラとし、基板
半製品を覆う面積を少なくしてエッチング液の噴霧可能
範囲を広くとる。

【００１６】また、高位置に配設したローラ１３′はス
トレートローラとし、その上方にスクイージングローラ
１４を配設して、これらのローラ１３′，１４の間に基
板半製品を通過させてスクイージング効果によってエッ
チング液膜の均一化に寄与せしめる。図１（Ｃ）を参照
して以上に説明した低位置のローラ１３、および高位置
のローラ１３′には、それぞれ、図２（第１の発明装
置）におけると類似の被動傘歯車２０ｂ，２０ａを取り
つけ、駆動傘歯車１９ｂ，１９ａを介して駆動軸１８
ｂ，１８ａによって回転駆動する。このように構成する
ことの作用，効果は前記第１の発明装置におけると同様
であり、第１の発明方法におけると同様にして使用す
る。これにより、第２の発明装置を描いた図１（Ｃ）に
おいても、低位置のローラ１３と高位置のローラとを迅
速，容易に交換配置して基板半製品の搬送方向長さ寸法
の変化に対応することができる。図１（Ｃ）の実施例に
おいては高位置のローラ１３′と低位置のローラ１３と
を等径に構成したが、必ずしも等径でなくても基板半製
品にシーソー状の揺動を行なわせるという目的は達成し
得る。

【００１７】

【発明の効果】本発明を適用すると、第１の発明装置を
用いて第１の発明方法を実施した場合も、第２の発明装
置を用いて第２の発明方法を実施した場合も、基板半製
品がエッチング液の噴霧を受けつつ搬送される途中で、
該基板半製品がシーソー状に揺動せしめられてピッチン
グ動作を行なうので、繰り返される往復傾動の度毎に、
基板半製品の上面に付着しているエッチング液は傾斜の
下方に向けて流動し、往復流動を繰り返す。このため、
基板半製品の表面は絶えず新鮮なエッチング液の流動に
均一に触れ、液溜まりを生じることが無い。従って液溜
まりに因るエッチングむらを生じること無く、高品質の
エッチング処理を高能率で行なうことができる。しか
も、搬送されつつある基板半製品の上，下両面にエッチ
ング液を噴霧することができるので、基板の上下を反転
する手段を必要とせず、エッチング処理設備の全体を大
形，大重量化させることも無く、設備所要面積を増加さ
せることも無く、設備コストを著しく増加させる虞れも
無いという優れた実用的効果を奏する。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明に係る基板のエッチング装置の基本的構
成と作動原理とを説明するために示したもので、（Ａ）
は第１の発明装置を使用して第１の発明方法を実施して
いる状態を模式的に描いた側面図、（Ｂ）は第１の発明
装置を組み替えて大形の基板半製品に対して第１の発明
方法を実施している状態を模式的に描いた側面図、
（Ｃ）は第２の発明装置を使用して第２の発明方法を実
施している状態を模式的に描いた側面図である。

【図２】上記実施例における大径ローラの支持・伝動機
構と小径ローラの支持・伝動機構とを説明するために示
したもので、ローラ軸と平行な垂直面で切断して模式的
に描いた部分断面図である。

【図３】多数のプリント基板半製品を水平姿勢で搬送し
つつエッチング液を噴霧する方式のエッチング装置の従
来例を示し、その要部を模式的に描いた垂直断面図であ
る。

【図４】上記従来例に係るプリント基板エッチング装置
の従来例の要部を描いた平面図である。

【符号の説明】

１…送入コンベア、２…ローラコンベア、２ｕ…上段ロ
ーラ列、２ｄ…下段ローラ列、３，３Ａ，３Ｂ…エッチ
ング液槽、４…水洗機構、４ａ…水槽、４ｂ…水ポン
プ、４ｃ…水ノズル、５…エッチング液ポンプ、６ａ，
６ｂ…ノズル管、６ｕ…上部エッチング液ノズル、７…
揺動機構、８…冷却コイル、９…覗き窓、１３…リング
形小径ローラ、１４…スクイーズローラ、１５…ストレ
ート形大径ローラ、１６…固定フレーム、１７ａ，１７
ｂ…可動フレーム、１８ａ，１８ｂ…駆動軸、１９ａ，
１９ｂ…駆動傘歯車、２０ａ，２０ｂ…被動傘歯車。

Claims (12)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 ローラコンベアによって基板半製品を搬
   送しつつ、該基板半製品にエッチング液を噴霧するエッ
   チング方法において、 ローラコンベアを構成し基板半製品を載せて搬送する多
   数のローラの配置に高低差を設け、搬送される基板半製
   品にシーソー状の揺動を行なわせて、基板面上にエッチ
   ング液溜まりが生じないようにし、基板半製品の全面に
   均一なエッチング処理を施すことを特徴とする、基板の
   エッチング方法。
2. 【請求項２】 前記の低い位置に配置するローラと高い
   位置に配置したローラとの配置個数の割合は、低い位置
   のローラを高い位置のローラよりも多くし、 隣接して配列された複数個の低い位置のローラ群と、１
   個もしくは小数個の高い位置のローラとを、ローラコン
   ベアの搬送方向に交互に配置することを特徴とする、請
   求項１に記載した基板のエッチング方法。
3. 【請求項３】 前記の、低い位置のローラ群を挟んで配
   置される高い位置のローラ間の間隔寸法を、前記の基板
   半製品の搬送方向長さに応じて変化させることを特徴と
   する、請求項２に記載した基板のエッチング方法。
4. 【請求項４】 ローラコンベアによって基板半製品を搬
   送しつつ、該基板半製品にエッチング液を噴霧するエッ
   チング方法において、 ローラコンベアを構成し基板半製品を載せて搬送する多
   数のローラの直径に大小差を設け、搬送される基板半製
   品にシーソー状の揺動を行なわせて、基板面上にエッチ
   ング液溜まりが生じないようにし、基板半製品の全面に
   均一なエッチング処理を施すことを特徴とする、基板の
   エッチング方法。
5. 【請求項５】 前記の小さい径に構成するローラと大き
   い径に構成するローラとの配置個数の割合は、小さい径
   のローラを大きい径のローラよりも多くし、 隣接して配列された複数個の小さい径のローラ群と、１
   個もしくは小数個の大きい径のローラとを、ローラコン
   ベアの搬送方向に交互に配置することを特徴とする、請
   求項４に記載した基板のエッチング方法。
6. 【請求項６】 前記の、小さい径のローラ群を挟んで配
   置される大きい径のローラ間の間隔寸法を、前記の基板
   半製品の搬送方向長さに応じて変化させることを特徴と
   する、請求項５に記載した基板のエッチング方法。
7. 【請求項７】 基板半製品を搬送するローラコンベア
   と、上記ローラコンベアによって搬送されている基板半
   製品にエッチング液を噴霧するエッチング液ノズルとを
   具備する基板のエッチング装置において、 基板半製品を載せて回転する多数のコンベアローラの配
   置に高低差を設け、 搬送される基板半製品が高い位置のローラに乗り上げ，
   乗り越す際、該基板半製品がシーソー状に揺動せしめら
   れる構造であることを特徴とする、基板のエッチング装
   置。
8. 【請求項８】 前記の低い位置に配置されたローラと高
   い位置に配置されたローラとの配置個数の割合は、低位
   置ローラの個数を高位置ローラの個数よりも多くし、 隣接して配列された複数個の低位置ローラ群と、１個も
   しくは小数個の高位置ローラとが、ローラコンベアの搬
   送方向に交互に配置されていることを特徴とする、請求
   項７に記載した基板のエッチング装置。
9. 【請求項９】 前記ローラコンベアの側方に、該ローラ
   コンベアの搬送方向と平行なローラ駆動軸が配置される
   とともに、該ローラ駆動軸に多数の伝動手段駆動側部材
   が取り付けられており、 前記の低位置ローラ、および、前記の高位置ローラのそ
   れぞれには伝動手段被動側部材が取り付けられていて、 上記低位置ローラ、および高位置ローラの配設位置を相
   互に入れ替え得る構造であることを特徴とする、請求項
   ８に記載した基板のエッチング装置。
10. 【請求項１０】 基板半製品を搬送するローラコンベア
    と、上記ローラコンベアによって搬送されている基板半
    製品にエッチング液を噴霧するエッチング液ノズルとを
    具備する基板のエッチング装置において、 基板半製品を載せて回転する多数のコンベアローラの直
    径に大小差を設け、 搬送される基板半製品が大径寸法のローラに乗り上げ，
    乗り越す際、該基板半製品がシーソー状に揺動せしめら
    れる構造であることを特徴とする、基板のエッチング装
    置。
11. 【請求項１１】 前記の小径寸法に構成されたローラと
    大径寸法に構成されたローラとの配置個数の割合は、小
    径のローラの個数を大径のローラの個数よりも多くし、 隣接して配列された複数個の小径のローラ群と、１個も
    しくは小数個の大径のローラとが、ローラコンベアの搬
    送方向に交互に配置されていることを特徴とする、請求
    項１０に記載した基板のエッチング装置。
12. 【請求項１２】 前記ローラコンベアの側方に、該ロー
    ラコンベアの搬送方向と平行なローラ駆動軸が配置され
    るとともに、該ローラ駆動軸に多数の伝動手段駆動側部
    材が取り付けられており、 前記の小径のローラ、および前記の大径のローラのそれ
    ぞれには伝動手段被動側部材が取り付けられていて、 上記小径のローラ、および大径のローラの配設位置を相
    互に入れ替え得る構造であることを特徴とする、請求項
    １１に記載した基板のエッチング装置。