JPH07261185A - 液晶表示素子の製造方法 - Google Patents

液晶表示素子の製造方法

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JPH07261185A
JPH07261185A JP5363994A JP5363994A JPH07261185A JP H07261185 A JPH07261185 A JP H07261185A JP 5363994 A JP5363994 A JP 5363994A JP 5363994 A JP5363994 A JP 5363994A JP H07261185 A JPH07261185 A JP H07261185A
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Abstract

(57)【要約】 【目的】 本発明は液晶表示素子とその製造方法に関
し、先願の特願平4−236652号に開示の液晶表示
素子のような積極的な配向構造を必要としない液晶表示
素子であって、しかも液晶相で液晶を注入しても流動パ
ターンをなくすことの可能な液晶表示素子の製造方法を
提供することを目的とする。 【構成】 積極的配向処理をしない基板を少なくとも一
方に含む一対の基板を所定間隔で対向配置してセルを形
成する工程と、前記セルの前記基板間に液晶材料を注入
する工程と、前記液晶材料が注入された前記セルに、前
記液晶材料と前記膜との界面における液晶分子と前記基
板表面との結合作用を減少させ、液晶分子の自由な運動
を可能とするエネルギを与える工程と、前記液晶分子を
配向させる工程とを有する。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は液晶表示素子の製造方法
に関し、特に配向膜や配向処理が不要な液晶表示素子の
製造方法に関する。
【0002】
【従来の技術】液晶表示ディスプレイ等に使用される液
晶表示素子いわゆる液晶セルは、液晶の特定な分子配列
を電界等の外部からの作用によって別の異なる分子配列
に状態変化させて、その間の光学的特性の変化を視覚的
な変化として表示に利用している。液晶分子をある特定
の配列状態にするために液晶をはさむガラス基板の表面
には配向処理を行うのが普通である。
【0003】従来のツイストネマチック(TN)形液晶
セルなどでは、配向処理として、液晶を挟むガラス基板
を綿布のようなもので一方向に擦るいわゆるラビング法
が採用されている。ガラス基板表面にポリイミド膜等の
配向膜が形成される場合は、その配向膜表面をラビング
する。
【0004】ラビングの方向はたとえば上下の基板間で
ラビング方向が互いに直交するように行う。液晶セルが
ネガ表示の場合にはセルを挟んで平行ニコル配置の偏光
板をその偏光軸がどちらか一方のラビング方向と平行に
なるように配置し、またポジ表示の場合には、直交ニコ
ル配置の偏光板をその偏光軸が基板のラビング方向と平
行になるように配置する。
【0005】
【発明が解決しようとする課題】このようなラビングで
配向処理をすると、液晶分子の配向方向が一様なため
に、コントラスト特性が画面を見る方向(視角)によっ
て変わる。その場合、観測者から画面を見たときの表示
が見やすい角度が特定の角度範囲に制限される視角特性
が生じる。
【0006】したがって、このような液晶セルはある方
向からは見えやすく、別の方向からは見えにくいといっ
た視角依存性を持つことになる。このような視角依存性
をもつ液晶セルを表示装置として利用した場合には、表
示画面に対してある角度ではコントラストが極端に低下
し、甚だしい場合には表示の明暗が反転してしまう。
【0007】そのような視角特性を持つのは、ラビング
によって液晶分子にプレチルトが生じるからである。液
晶分子がプレチルトを持つ方向は、ラビングするベクト
ル方向に一致する。液晶セルに電圧が印加されると、液
晶分子はプレチルトしている方向に立ち上がってくるた
めに、その方向から観測した場合に、旋光性が解消され
やすくなる。したがってベクトルの終端方向が一番見や
すくなる。
【0008】さらに、ラビングする際には、摩擦による
静電気が発生して配向膜に絶縁破壊が起きたり、その部
分の配向不良によって表示不良の原因となる場合があ
る。また、アクティブ駆動方式を採用する液晶セルで、
TFT(薄膜トランジスタ)などの駆動素子や配線が表
面に形成された基板をラビングする場合には、ラビング
による静電気によって素子や配線が破壊されるという場
合がある。
【0009】さらに、配向膜形成時やラビング時に微小
なゴミが大量に発生し、そのゴミが静電気によって基板
に付着し、それが液晶セルのギャップ不良や黒点や白点
といった表示不良の原因となる場合がある。
【0010】この問題を解決するために、本願出願人に
よる特許出願である特願平4−236652号等では、
ラビング処理のような積極的な配向構造を持たない液晶
セルの構造を提案している。これら先願の方法では、セ
ルの基板間のギャップと液晶のカイラルピッチとを特定
の関係となるように選択し、液晶の熱光学効果を利用し
て配向をさせている。
【0011】つまり、液晶の液晶相−等方相間の相転移
温度以上に液晶材料を加熱して等方性の液体にした状態
つまり等方相でセルに注入し、その後徐冷して液晶状態
つまり液晶相に相転移させて配向させる。それにより、
微小な配向領域すなわちミクロドメインを多数ランダム
に形成する。偏光板の配置は、ポジ表示の場合には直交
ニコル配置、ネガ表示の場合には平行ニコル配置とす
る。基板面内にはラビング方向のような基準方向がない
ことから視角特性が均一となる。
【0012】この先願の方法では、たとえ配向膜は形成
されても配向構造形成のためのラビング処理が不要とな
るか、あるいはラビング処理を静電気やゴミの影響の比
較的少ない基板側のみに行うことができる。
【0013】この先願の発明の実施例において、例えば
液晶分子の配向方向が上下基板間で90°ツイスト(捩
じれ)している、いわゆるツイスト角が90°のツイス
トネマチック液晶表示素子(TN−LCD)を製造する
場合、液晶セルの厚さdと、液晶のカイラルピッチpの
関係がd/p=Φ/360°=0.25となるように調
整している。なお、ΦはTN−液晶セルのツイスト角
(90°)である。
【0014】つまり、液晶セルのツイスト角Φとセル厚
dとによって規定されるカイラルピッチpを持った液晶
を使用することによりツイスト角90°のTN−LCD
を得ている。具体的にはネマチック液晶に調整された量
のカイラル剤を添加して上記の関係を満たす所望のカイ
ラルピッチpを得ることが開示されている。
【0015】特願平4−236652号に開示の液晶表
示素子の方法によると、液晶セルへの液晶材料の注入
は、ネマティック液晶相(N)から等方相(I)への相
転移温度であるN−I転移点以上の高温の等方相で行
い、注入後に常温まで徐冷して液晶相としている。
【0016】ところで、液晶セルへの液晶材料の注入を
上記先願の等方相ではなく、従来の技術のように常温の
液晶相のままで行った場合には、注入時の液晶の流れに
そった流動パターンが基板面に残る。
【0017】流動パターンは液晶の流れ模様が縞状に残
ったものであり、目に見える大きな表示欠陥となる。こ
の流動パターンは、一旦形成されてしまうと消えにくい
性質を持ち、熱処理などによっても容易に消し去ること
はできない。この現象をメモリ効果とも呼ぶ。
【0018】メモリ効果が生じる原因は未だ良く判って
いない。配向膜に液晶分子が一旦吸着すると、基板との
界面の分子は熱振動などによっても容易に動かなくなり
N−I転移点以上に加熱しても界面の分子は溶けず、そ
のために初期配向がいつまでも残るのであろうと考えら
れる。この配向膜と液晶分子をつなぐ力はファンデルワ
ールス力であろうと思われる。
【0019】また、上記の先願のように等方相で液晶材
料をセルに注入する場合には、セルを高温に加熱する必
要がある。なぜなら、常温(室温25℃近傍)下で使用
する液晶表示装置では、動作温度範囲ではネマティック
相もしくはスメクティック相の液晶相でなければならな
い。従って、等方相となるN−I点以上の温度は常温よ
りもかなり高温(例えば、90℃以上)に調整されてい
るからである。そのような高温度で液晶をセルに注入す
る場合には高温に起因する様々な問題がある。
【0020】さらに、通常の液晶注入方法としては真空
注入が広く行われている。これは真空槽内において、所
定真空度に排気したセルに液晶材料を注入口から充填す
る方法である。真空注入法の問題としては、真空中に液
晶成分が蒸発し易く、特に高温になっている場合にその
傾向が強くなる。従って、真空注入法で先願の等方相に
よる液晶注入をすると液晶中の成分が蒸発し、所望組成
の液晶を注入することが困難になる。
【0021】高温真空注入では、高温に伴い、チャンバ
内壁や治具等からガスが生じ、高真空化に時間がかか
る。セル厚を均一に保ったまま注入及び冷却しなければ
ならないため、特願平4−347701号に記載の方法
のようにプレス等を行なう必要がある等の点で生産効率
が低いという欠点があった。通常の真空注入に必要な時
間と高温プレス注入および冷却にかかる時間とでは、事
実上2倍から5倍程度の違いがある。
【0022】一方、毛細管現象を利用した液晶注入を行
えば、所望組成の液晶を注入することができるが、この
方法では液晶セル内に気泡が残り易い。特に、TFTを
形成したような表面に凹凸のある基板のセルの場合や、
表示画面の大きなセルに注入を行う場合に気泡が残り易
い傾向がある。この気泡が残った部分はやはり表示欠陥
となる。
【0023】本発明の目的は、先願の特願平4−236
652号に開示の液晶表示素子のような積極的な配向構
造を必要としない液晶表示素子であって、しかも高温注
入時の問題をなくして低温度で液晶を注入でき、しかも
液晶相で液晶を注入しても流動パターンをなくすことの
可能な液晶表示素子の製造方法を提供することにある。
【0024】
【課題を解決するための手段】本発明による液晶表示素
子の製造方法は、積極的配向処理をしない基板を少なく
とも一方に含む一対の基板を所定間隔で対向配置してセ
ルを形成する工程と、前記セルの前記基板間に液晶材料
を注入する工程と、前記液晶材料が注入された前記セル
に、前記液晶材料と前記膜との界面における液晶分子と
前記基板表面との結合作用を減少させ、液晶分子の自由
な運動を可能とするエネルギを与える工程と、前記液晶
分子を配向させる工程とを有する。
【0025】
【作用】マルチドメインが形成されるように膜を形成し
た基板間に液晶材料を注入し、液晶材料と基板との界面
における液晶分子と膜相互の結合作用を減少させ、液晶
分子の自由な運動を可能とする程度のエネルギを与える
と、界面上の液晶分子と界面との結合が解けてメモリ効
果がなくなる。それによりセルの流動パターンを消失さ
せる。
【0026】
【実施例】本発明の実施例の製造方法の具体例を図1を
参照して以下に説明する。但し表示素子の駆動素子とし
て基板上に形成されるTFTやITO電極などは図示を
省略してある。
【0027】まず、ガラス転移点が300℃程度の一般
的なアクティブマトリックス用ポリイミド材料を用い
て、ポリイミド膜を印刷により膜厚約600オングスト
ロームでITO電極等が形成されたガラス基板1の上に
形成し、配向膜2とする。
【0028】なお、この基板の製造方法は先願の特願平
4−236652号に記載のプロセスがそのまま利用で
きる。すなわち、積極的配向処理、たとえばラビングは
行なわない。
【0029】この配向膜2を形成したガラス基板1を2
枚用意し、両者を対向配置して5μmのギャップ間隔に
なるように調整して張り合わせて空セル3を作成する
(図1(A))。
【0030】この空セル3に真空注入法によりカイラル
ネマティック液晶材料4を室温(25℃)でネマティッ
ク相状態で注入する。たとえば、90°ツイストの配向
を得るために液晶材料4(フッソ混合系、N−I転移点
98℃)はセルのギャップをdとし、液晶のカイラルピ
ッチをpとした場合に、d/p=1/4となるようにカ
イラル剤を含ませて調整されている(図1(B))。
【0031】液晶材料4がセル3内に完全に充填された
後、セル3の液晶注入口(図示せず)を封止する。この
状態では注入時の流動配向による流動パターンが欠陥と
して目視で観測できる。
【0032】次に、セル3をヒータのような加熱装置5
で界面における液晶分子も自由な運動が可能となる温度
まで加熱する。加熱は、例えば150℃で2時間行う。
加熱温度は、界面においても液晶分子の自由な運動を可
能とするため、液晶相−等方相間の相転移温度を越える
温度であるが、配向膜の化学的性質を変えず、液晶の熱
分解温度を越えない所定温度以下とする。すなわち、配
向膜の化学的性質を変えず、かつ液晶分子と配向膜22
との結合力を減少させ、液晶分子の自由な運動を可能と
する程度の熱エネルギを与えるような温度が選択され
る。
【0033】配向膜の化学的性質を変化させて流動パタ
ーンを消滅させる場合と比較すると、制御が容易で安定
な結果を得易い特徴がある。この加熱で界面の液晶分子
は配向膜界面との物理的あるいは化学的結合から解かれ
メモリ効果によるポリイミド膜2上の流動パターンは消
失する。また、ここで加熱温度が液晶のN−I転移点以
上であるために、液晶材料4は等方性状態となる(図1
(C))。
【0034】その後、セル3を徐々に冷却して液晶材料
4を等方性から液晶相に相転移させて配向しマルチドメ
インを形成する(図1(D))。以上説明した実施例の
方法により実際に液晶表示素子を製造した結果、流動性
パターンによる欠陥は目視できず、しかも顕微鏡下でみ
ると先願の発明のようなランダムな配向のマルチドメイ
ン構造が形成されていた。
【0035】また、電気光学特性的には先願の発明のも
のとほとんど同じであるが、再配向させているため、や
や極角方向のアンカリングエネルギが弱い傾向が見ら
れ、先願に比べ閾値Vthがわずかに低い、立ち下がり時
間(Td)がやや遅いという傾向が見られた。この傾向
は配向膜や加熱条件により異なる。
【0036】実際に、実施例による液晶表示装置と従来
例(特願平4−347701号)による液晶表示装置を
作成してその特性を測定した。結果を、図2と〔表1〕
に示す。
【0037】
【表1】
【0038】図2において、実施例では、Vthが0〜
0.2Vの低下を示し、〔表1〕のレスポンス特性は立
ち上がり時間Trが±2msでほぼ同じ立ち下がり時間
Tdが0〜0.7ms遅い結果であった。
【0039】上記の実施例においては、メモリ効果をな
くすためにセルを加熱して液晶分子に熱エネルギを与
え、界面との相互結合作用を減少させたが、この熱エネ
ルギを与える方法以外に、非常に強い光を液晶材料に照
射したり、超音波振動をセルに加えたりすることによっ
て液晶分子にエネルギを付与しても同じような効果が得
られるであろう。
【0040】また、90°ツイストネマティック液晶の
配向膜としてポリイミド膜を用いた場合だけでなく、そ
れ以外の条件においても本発明は有効である。さらに、
実施例では一対の基板の両方に配向膜を形成したが、一
方の基板のみに配向膜を形成した場合でも同様な効果が
得られる。
【0041】以上、先願の特願平4−236652号に
記載の技術に関連して説明したが、本発明は積極的配向
処理を行わない液晶セル作製の全ての方法に対して有効
である。
【0042】以上の説明における材料や数値はあくまで
も例示であって、本発明は説明した実施例のものに限る
ものではなく、以上の開示に基づいて当業者であれば様
々な改良や変更が可能であることは言うまでもない。
【0043】
【発明の効果】本発明によれば、等方相で液晶材料を注
入する必要はなく、低温度の液晶相で液晶を注入できる
ので高温にまつわる問題がなくなるのはもちろんのこ
と、セルを加熱して流動パターンを消失させることがで
きるので表示欠陥のない高品質な表示素子が得られる。
【0044】高温真空注入や毛細管現象を利用した液晶
注入法を用いる必要がないので、一般的な真空注入法で
注入できるため、通常用いられている装置での製作が可
能である。
【0045】本発明の効果は、特に基板表面に凹凸があ
るものや、大画面ディスプレイを作製する場合に有効で
ある。さらに、先願の特願平4−236652号に記載
の発明と同様に、ラビングが不要であることにより、以
下のような効果が得られる。
【0046】静電気による素子や配線の破壊が起きず、
ゴミの発生や付着による表示不良を低減することができ
る。さらに、ラビング処理あるいは積極的配向処理の工
程が不要で、製造コストの低減が可能となる。
【0047】さらに、視角特性が全方位にわたってほぼ
均一であり観測者の特定の位置によってコントラストが
低下するといった不便が減少する。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の実施例による液晶表示セルの製造工程
を説明する図である。
【図2】本発明の実施例による液晶表示セルの特性を従
来技術と比較して示すグラフである。
【符号の説明】
1 ガラス基板 2 ポリイミド膜 3 液晶セル 4 液晶材料 5 加熱装置

Claims (9)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 積極的配向処理をしない基板を少なくと
    も一方に含む一対の基板を所定間隔で対向配置してセル
    を形成する工程と、 前記セルの前記基板間に液晶材料を注入する工程と、 前記液晶材料が注入された前記セルに、前記液晶材料と
    前記膜との界面における液晶分子と前記基板表面との結
    合作用を減少させ、液晶分子の自由な運動を可能とする
    エネルギを与える工程と、 前記液晶分子を配向させる工程とを有する液晶表示素子
    の製造方法。
  2. 【請求項2】 前記液晶材料を注入する工程において、
    前記液晶材料は液晶相の状態で注入される請求項1記載
    の液晶表示素子の製造方法。
  3. 【請求項3】 前記液晶材料を加熱することにより前記
    エネルギを与え、前記加熱温度は前記液晶分子の熱分解
    温度以下の温度であることを特徴とする請求項2記載の
    液晶表示素子の製造方法。
  4. 【請求項4】 前記液晶材料の加熱により前記液晶材料
    を基板との界面においても等方性にし、前記加熱の後、
    前記セルを徐冷して前記液晶分子を配向させることを特
    徴とする請求項3記載の液晶表示素子の製造方法。
  5. 【請求項5】 前記液晶材料がカイラルネマティック液
    晶を含み、前記加熱温度が前記カイラルネマティック液
    晶の液晶相−等方相間の相転移温度以上である請求項4
    記載の液晶表示素子の製造方法。
  6. 【請求項6】 前記液晶材料に光を照射して前記エネル
    ギを与えることを特徴とする請求項2記載の液晶表示素
    子の製造方法。
  7. 【請求項7】 前記液晶材料に超音波振動を加えて前記
    エネルギを与えることを特徴とする請求項2記載の液晶
    表示素子の製造方法。
  8. 【請求項8】 前記基板の少なくとも一方が表面にポリ
    イミド膜を有する請求項1〜7のいずれかに記載の液晶
    表示素子の製造方法。
  9. 【請求項9】 前記ポリイミド膜は前記エネルギを与え
    る工程と前記注入工程とで化学的性質を変化させない請
    求項8記載の液晶表示素子の製造方法。
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